特表 2024-526033 光学アセンブリのキャビティ長を能動的に制御するためのシステム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-07-17

(54)【発明の名称】光学アセンブリのキャビティ長を能動的に制御するためのシステム

(51)【国際特許分類】

   H01S 3/10 20060101AFI20240709BHJP

   G03F 7/20 20060101ALI20240709BHJP

   H01S 3/106 20060101ALI20240709BHJP

【ＦＩ】

H01S3/10 Z

G03F7/20 502

G03F7/20 521

H01S3/106

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023573344

(86)(22)【出願日】2022-05-06

(85)【翻訳文提出日】2024-01-22

(86)【国際出願番号】 US2022028188

(87)【国際公開番号】W WO2022256133

(87)【国際公開日】2022-12-08

(31)【優先権主張番号】63/195,390

(32)【優先日】2021-06-01

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

【公序良俗違反の表示】

（特許庁注：以下のものは登録商標）

１．ＢＬＵＥＴＯＯＴＨ

(71)【出願人】

【識別番号】513192029

【氏名又は名称】サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー

(74)【代理人】

【識別番号】100079108

【弁理士】

【氏名又は名称】稲葉 良幸

(74)【代理人】

【識別番号】100109346

【弁理士】

【氏名又は名称】大貫 敏史

(74)【代理人】

【識別番号】100117189

【弁理士】

【氏名又は名称】江口 昭彦

(74)【代理人】

【識別番号】100134120

【弁理士】

【氏名又は名称】内藤 和彦

(72)【発明者】

【氏名】ダス，サプタパルナ

(72)【発明者】

【氏名】メイソン，エリック，アンダース

【テーマコード（参考）】

2H197

5F172

【Ｆターム（参考）】

2H197CA08

2H197CA12

2H197CA17

2H197DB03

2H197DB05

2H197HA03

5F172AD06

5F172DD03

5F172EE22

5F172NP02

5F172NQ14

5F172NR06

(57)【要約】

システムは、第１の反射光学素子、第２の反射光学素子、及び光結合系であって、第１の反射光学素子と第２の反射光学素子との間の距離は光キャビティ内の分離距離を定め、光結合系は光のパルスをキャビティに入れるように、及び光のパルスがキャビティから出ることを可能にするように構成される、光結合系を含む、光パルスストレッチャーを含む。本システムは、分離距離を制御するように構成される作動システムと、キャビティから出る少なくとも２つの光のパルスに関連するデータを生成するように構成されるセンサと、作動システムに結合される制御システムであって、データに基づいて作動システム及び分離距離を制御するように構成される、制御システムとを更に含む。
【選択図】 図１Ａ

【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１の反射光学素子、
第２の反射光学素子、及び
光結合系であって、前記第１の反射光学素子と前記第２の反射光学素子との間の距離は光キャビティ内の分離距離を定め、前記光結合系は光のパルスを前記キャビティに入れるように、及び光のパルスが前記キャビティから出ることを可能にするように構成される、光結合系
を含む、光パルスストレッチャーと、
前記分離距離を制御するように構成される作動システムと、
前記キャビティから出る少なくとも２つの光のパルスに関連するデータを生成するように構成されるセンサと、
前記作動システムに結合される制御システムであって、前記データに基づいて前記作動システム及び前記分離距離を制御するように構成される、制御システムと
を含む、システム。

【請求項2】

前記制御システムが、
前記作動システムを制御した後に前記センサからの追加データを解析し、
前記解析した追加データに基づいて前記作動システムを再び制御するかどうかを判定する
ように更に構成される、請求項１に記載のシステム。

【請求項3】

前記制御システムが、前記データ内の少なくとも２つの光のパルスを識別するように、及び前記データ内の前記識別された光のパルスの位置を決定するように構成され、
前記決定した位置に基づいて前記作動システム及び前記分離距離を前記制御システムが制御する、請求項１に記載のシステム。

【請求項4】

前記センサが２次元イメージングセンサを含み、前記イメージングセンサからの前記データが２次元画像を含む、請求項３に記載のシステム。

【請求項5】

前記データ内の前記識別された光のパルスの位置を決定することは、前記データ内で識別された少なくとも２つの光のパルス間の空間的分離を決定することを含み、前記制御システムは、前記決定された空間的分離に基づいて前記作動システム及び前記分離距離を制御する、請求項４に記載のシステム。

【請求項6】

前記制御システムが、前記第１の反射光学素子及び前記第２の反射光学素子の１つ又は複数を移動することによって前記作動システム及び前記分離距離を制御する、請求項５に記載のシステム。

【請求項7】

前記制御システムが、前記決定された空間的分離に基づいて前記第１の反射光学素子及び前記第２の反射光学素子の前記１つ又は複数を移動する方向を決定するように更に構成される、請求項６に記載のシステム。

【請求項8】

前記制御システムが、前記決定された空間的分離に基づいて前記第１の反射光学素子及び前記第２の反射光学素子の前記１つ又は複数を移動する量を決定するように更に構成される、請求項７に記載のシステム。

【請求項9】

前記決定された空間的分離が第１の決定された空間的分離を含み、前記制御システムが、
前記作動システムを制御した後に前記センサからの追加データを解析すること、
前記追加データ内の少なくとも１つの追加の光のパルスを識別すること、
第２の空間的分離を決定することであって、前記第２の空間的分離は前記少なくとも１つの追加の識別された光のパルスと少なくとも１つの他の光のパルスとの間の空間的分離である、決定すること、
前記第１の空間的分離と前記第２の空間的分離とを比較すること、及び
前記比較に基づいて前記作動システムを再び制御するかどうかを判定すること
を行うように更に構成される、請求項５に記載のシステム。

【請求項10】

前記制御システムは、前記第２の空間的分離が前記第１の空間的分離よりも閾値を超えて大きい場合にのみ前記作動システムを再び制御する、請求項９に記載のシステム。

【請求項11】

前記空間的分離が、前記データ内で識別される少なくとも２つの光のパルスそれぞれの中心間である、請求項５に記載のシステム。

【請求項12】

前記第１の反射光学素子が第１の湾曲反射面を含み、前記第２の反射光学素子が第２の湾曲反射面を含む、請求項１に記載のシステム。

【請求項13】

前記分離距離が前記第１の湾曲反射面の中心と前記第２の湾曲反射面の中心との間の前記距離である、請求項１２に記載のシステム。

【請求項14】

前記光結合系が、前記第１の反射光学素子及び前記第２の反射光学素子とは分離され別個のビームスプリッタを含む、請求項１に記載のシステム。

【請求項15】

前記作動システムが、
前記第１の反射光学素子に結合される第１の作動モジュールであって、第１の活性化モジュールは前記制御システムからのコマンドに基づいて前記第１の反射光学素子を移動させるように構成される、第１の作動モジュールと、
前記第２の反射光学素子に結合される第２の作動モジュールであって、第２の活性化モジュールは前記制御システムからのコマンドに基づいて前記第２の反射光学素子を移動させるように構成される、第２の作動モジュールと
を含み、
前記制御システムが、前記第１の作動モジュール及び前記第２の作動モジュールの１つ又は複数にコマンドを出すことによって前記作動システムを制御するように構成される、
請求項１に記載のシステム。

【請求項16】

前記キャビティが利得媒体を欠いている、請求項１に記載のシステム。

【請求項17】

第１の湾曲光学面を含む第１の光学素子、及び
第２の湾曲光学面を含む第２の光学素子
を含む光学アセンブリであって、前記第１の湾曲光学面及び前記第２の湾曲光学面は光キャビティの少なくとも一部を画定する、光学アセンブリと、
前記キャビティから出る少なくとも２つの光のパルスに関連するデータを生成するように構成されるセンサと、
前記センサからのデータに基づいて前記第１の光学素子及び前記第２の光学素子の１つ又は複数の位置を制御し、それにより前記第１の湾曲光学面及び前記第２の湾曲光学面の１つ又は複数の曲率半径の変化を補償するように構成される制御システムと
を含む、システム。

【請求項18】

前記データが、前記キャビティから出る少なくとも２つの光のパルスの位置に関連する情報を含む、請求項１７に記載のシステム。

【請求項19】

前記データが、前記キャビティから出る少なくとも２つの光のパルスのダイバージェンスに関連する情報を含む、請求項１７に記載のシステム。

【請求項20】

前記第１の光学素子及び前記第２の光学素子の１つ又は複数に結合される作動システムを更に含む、請求項１７に記載のシステム。

【請求項21】

前記第１の湾曲面が第１の公称曲率半径を有する第１の湾曲反射面であり、前記第２の湾曲面が第２の公称曲率半径を有する第２の湾曲面である、請求項１７に記載のシステム。

【請求項22】

前記キャビティが共焦点キャビティを含む、請求項２１に記載のシステム。

【請求項23】

第１の湾曲反射面と第２の湾曲反射面との間の距離が前記キャビティの長さを定め、前記制御システムが、前記キャビティの長さを調節することによって前記第１の湾曲光学面及び前記第２の湾曲光学面の１つ又は複数の前記曲率半径の変化を補償するように構成される、請求項１７に記載のシステム。

【請求項24】

前記光学アセンブリがパルスストレッチャーを含む、請求項１７に記載のシステム。

【請求項25】

光のパルスが、前記第１の光学素子及び前記第２の光学素子の１つを通って前記キャビティから出る、請求項１７に記載のシステム。

【請求項26】

光のパルスが、前記第１の光学素子及び前記第２の光学素子とは分離され別個の光学素子を通って前記キャビティから出る、請求項１７に記載のシステム。

【請求項27】

センサからのデータを解析するように構成されるデータ解析モジュールであって、前記センサは異なる時間に光キャビティから出る２つ以上の光のパルスの少なくとも一部を感知するように構成され、前記データ解析モジュールは前記データを解析するために前記センサからの前記データに基づいて前記光のパルスの少なくとも２つの１つ又は複数の特性を決定するように構成される、データ解析モジュール
を含み、
前記１つ又は複数の特性に基づいて前記光キャビティに結合される作動システムのためのコマンド信号を決定し、
前記光キャビティの長さを調節するために前記作動システムに前記コマンド信号を提供する
ように構成される作動制御モジュールを更に含む、
光パルスストレッチャーと共に使用するように構成される、制御システム。

【請求項28】

前記決定される１つ又は複数の特性が、前記光のパルスの伝搬方向に対して垂直な平面内の前記少なくとも２つの光のパルスそれぞれの位置を含む、請求項２７に記載の制御システム。

【請求項29】

前記決定される１つ又は複数の特性が、前記光のパルスの伝搬方向に対して垂直な平面内の前記少なくとも２つの光のパルスそれぞれのダイバージェンスを含む、請求項２８に記載の制御システム。

【請求項30】

増幅されたパルス光ビームをビームパス上で放射するように構成される光発振器と、
前記ビームパス上に配置されるように構成されるパルスストレッチャーであって、
第１の湾曲光学面を含む第１の光学素子、及び
第２の湾曲光学面を含む第２の光学素子
を含み、前記第１の湾曲光学面及び前記第２の湾曲光学面はキャビティを画定する、
パルスストレッチャーと、
前記キャビティから出る前記増幅されたパルス光ビームの少なくとも２つのパルスに関連するデータを生成するように構成されるセンサと、
前記センサからのデータに基づいて前記第１の光学素子及び前記第２の光学素子の１つ又は複数の位置を制御し、それにより前記第１の湾曲光学面及び前記第２の湾曲光学面の１つ又は複数の曲率半径の変化を補償するように構成される制御システムと
を含む、光学系。

【請求項31】

前記光発振器が、１つ又は複数のＤＵＶ波長を有する増幅光ビームを放出するように構成される深紫外（ＤＵＶ）光発振器である、請求項３０に記載の光学系。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

関連出願の相互参照
[0001] 本願は、参照によりその全体を本明細書に援用する、２０２１年６月１日に出願され、光学アセンブリのキャビティ長を能動的に制御するためのシステム（SYSTEM FOR ACTIVELY CONTROLLING A CAVITY LENGTH OF AN OPTICAL ASSEMBLY）と題された米国特許出願第６３／１９５，３９０号の優先権を主張するものである。

【0002】

[0002] 本開示は、光学アセンブリのキャビティ長を能動的に制御するためのシステムに関する。光学アセンブリは、例えば遠紫外光（ＤＵＶ）源と共に使用されるパルスストレッチャーであり得る。

【背景技術】

【0003】

[0003] フォトリソグラフィは、半導体回路をシリコンウェーハ等の基板上にパターニングするプロセスである。フォトリソグラフィ光源は、ウェーハ上のフォトレジストを露光するために使用される深紫外（ＤＵＶ）光を供給する。フォトリソグラフィに使用されるガス放電光源の一種は、エキシマ光源又はレーザとして知られている。エキシマ光源は通常、アルゴン、クリプトン、又はキセノン等の１つ又は複数の希ガスと、フッ素又は塩素等の反応種との組み合わせである混合ガスを使用する。エキシマ光源は、電気的刺激（供給されるエネルギー）と（混合ガスの）高圧との適切な条件下で、通電状態でのみ存在し紫外域の増幅光を発生させるエキシマと呼ばれる擬似分子が生成されることからその名が付いた。エキシマ光源は、深紫外（ＤＵＶ）域の波長を有する光ビームを生成し、この光ビームはフォトリソグラフィ装置において半導体基板（又はウェハ）のパターニングに使用される。エキシマ光源は、単一のガス放電チャンバを使用して又は複数のガス放電チャンバを使用して構築することができる。ガス放電チャンバ内の混合ガスは、ガス放電チャンバから排気され得る。

【発明の概要】

【0004】

[0004] 一態様では、本システムは、第１の反射光学素子、第２の反射光学素子、及び光結合系であって、第１の反射光学素子と第２の反射光学素子との間の距離は光キャビティ内の分離距離を定め、光結合系は光のパルスをキャビティに入れるように、及び光のパルスがキャビティから出ることを可能にするように構成される、光結合系を含む、光パルスストレッチャーを含む。本システムは、分離距離を制御するように構成される作動システムと、キャビティから出る少なくとも２つの光のパルスに関連するデータを生成するように構成されるセンサと、作動システムに結合される制御システムであって、データに基づいて作動システム及び分離距離を制御するように構成される、制御システムとを更に含む。

【0005】

[0005] 実装形態は以下の特徴の１つ又は複数を含み得る。制御システムは、作動システムを制御した後にセンサからの追加データを解析し、解析した追加データに基づいて作動システムを再び制御するかどうかを判定するように更に構成され得る。

【0006】

[0006] 制御システムは、データ内の少なくとも２つの光のパルスを識別するように、及びデータ内の識別された光のパルスの位置を決定するように構成することができ、決定した位置に基づいて作動システム及び分離距離を制御システムが制御し得る。

【0007】

[0007] センサは２次元イメージングセンサとすることができ、イメージングセンサからのデータは２次元画像を含み得る。一部の実装形態では、データ内の識別された光のパルスの位置を決定することは、データ内で識別された少なくとも２つの光のパルス間の空間的分離を決定することを含み、制御システムは、決定された空間的分離に基づいて作動システム及び分離距離を制御する。制御システムは、第１の反射光学素子及び第２の反射光学素子の１つ又は複数を移動することによって作動システム及び分離距離を制御することができる。制御システムは、決定された空間的分離に基づいて第１の反射光学素子及び第２の反射光学素子の１つ又は複数を移動する方向を決定するように構成することもできる。制御システムは、決定された空間的分離に基づいて第１の反射光学素子及び第２の反射光学素子の１つ又は複数を移動する量を決定するように構成することもできる。

【0008】

[0008] 一部の実装形態では、決定された空間的分離が第１の決定された空間的分離を含み、制御システムは、作動システムを制御した後にセンサからの追加データを解析すること、追加データ内の少なくとも１つの追加の光のパルスを識別すること、第２の空間的分離を決定することであって、第２の空間的分離は少なくとも１つの追加の識別された光のパルスと少なくとも１つの他の光のパルスとの間の空間的分離である、決定すること、第１の空間的分離と第２の空間的分離とを比較すること、及び比較に基づいて作動システムを再び制御するかどうかを判定することを行うように更に構成される。一部の実装形態では、制御システムは、第２の空間的分離が第１の空間的分離よりも閾値を超えて大きい場合にのみ作動システムを再び制御する。空間的分離は、データ内で識別される少なくとも２つの光のパルスそれぞれの中心間であり得る。

【0009】

[0009] 第１の反射光学素子は第１の湾曲反射面を含むことができ、第２の反射光学素子は第２の湾曲反射面を含むことができる。分離距離は、第１の湾曲反射面の中心と第２の湾曲反射面の中心との間の距離であり得る。

【0010】

[0010] 光結合系は、第１の反射光学素子及び第２の反射光学素子とは分離され別個のビームスプリッタを含み得る。

【0011】

[0011] 作動システムは、第１の反射光学素子に結合される第１の作動モジュールであって、第１の活性化モジュールは制御システムからのコマンドに基づいて第１の反射光学素子を移動させるように構成される、第１の作動モジュールと、第２の反射光学素子に結合される第２の作動モジュールであって、第２の活性化モジュールは制御システムからのコマンドに基づいて第２の反射光学素子を移動させるように構成される、第２の作動モジュールとを含むことができ、制御システムは、第１の作動モジュール及び第２の作動モジュールの１つ又は複数にコマンドを出すことによって作動システムを制御するように構成され得る。

【0012】

[0012] キャビティは利得媒体を欠いていてもよい。

【0013】

[0013] 別の態様では、システムが、第１の湾曲光学面を含む第１の光学素子及び第２の湾曲光学面を含む第２の光学素子を含む光学アセンブリを含み、第１の湾曲光学面及び第２の湾曲光学面は光キャビティの少なくとも一部を画定する。本システムは、キャビティから出る少なくとも２つの光のパルスに関連するデータを生成するように構成されるセンサと、センサからのデータに基づいて第１の光学素子及び第２の光学素子の１つ又は複数の位置を制御し、それにより第１の湾曲光学面及び第２の湾曲光学面の１つ又は複数の曲率半径の変化を補償するように構成される制御システムとを更に含む。

【0014】

[0014] 実装形態は以下の特徴の１つ又は複数を含む。

【0015】

[0015] データは、キャビティから出る少なくとも２つの光のパルスの位置に関連する情報を含み得る。

【0016】

[0016] データは、キャビティから出る少なくとも２つの光のパルスのダイバージェンスに関連する情報を含み得る。

【0017】

[0017] 本システムは、第１の光学素子及び第２の光学素子の１つ又は複数に結合される作動システムも含み得る。

【0018】

[0018] 第１の湾曲面は第１の公称曲率半径を有することができ、第２の湾曲面は第２の公称曲率半径を有することができる。キャビティは共焦点キャビティであり得る。

【0019】

[0019] 第１の湾曲反射面と第２の湾曲反射面との間の距離がキャビティの長さを定めることができ、制御システムは、キャビティの長さを調節することによって第１の湾曲光学面及び第２の湾曲光学面の１つ又は複数の曲率半径の変化を補償するように構成され得る。

【0020】

[0020] 光学アセンブリはパルスストレッチャーを含んでもよい。

【0021】

[0021] 光のパルスは、第１の光学素子及び第２の光学素子の１つを通ってキャビティから出ることができる。

【0022】

[0022] 光のパルスは、第１の光学素子及び第２の光学素子とは分離され別個の光学素子を通ってキャビティから出ることができる。

【0023】

[0023] 別の態様では、光パルスストレッチャーと共に使用するように構成される制御システムが、センサからのデータを解析するように構成されるデータ解析モジュールを含む。センサは、異なる時間に光キャビティから出る２つ以上の光のパルスの少なくとも一部を感知するように構成され、データを解析するために、データ解析モジュールはセンサからのデータに基づいて光のパルスの少なくとも２つの１つ又は複数の特性を決定するように構成される。制御システムは、１つ又は複数の特性に基づいて光キャビティに結合される作動システムのためのコマンド信号を決定し、光キャビティの長さを調節するために作動システムにコマンド信号を提供するように構成される作動制御モジュールも含む。

【0024】

[0024] 実装形態は以下の特徴の１つ又は複数を含み得る。

【0025】

[0025] 決定される１つ又は複数の特性は、光のパルスの伝搬方向に対して垂直な平面内の少なくとも２つの光のパルスそれぞれの位置を含み得る。決定される１つ又は複数の特性は、光のパルスの伝搬方向に対して垂直な平面内の少なくとも２つの光のパルスそれぞれのダイバージェンスを含み得る。

【0026】

[0026] 別の態様では、光学系は、増幅されたパルス光ビームをビームパス上で放射するように構成される光発振器と、ビームパス上に配置されるように構成されるパルスストレッチャーとを含み、パルスストレッチャーは第１の湾曲光学面を含む第１の光学素子及び第２の湾曲光学面を含む第２の光学素子を含む。第１の湾曲光学面及び第２の湾曲光学面はキャビティを画定する。光学系は、キャビティから出る増幅されたパルス光ビームの少なくとも２つのパルスに関連するデータを生成するように構成されるセンサと、センサからのデータに基づいて第１の光学素子及び第２の光学素子の１つ又は複数の位置を制御し、それにより第１の湾曲光学面及び第２の湾曲光学面の１つ又は複数の曲率半径の変化を補償するように構成される制御システムとを更に含む。

【0027】

[0027] 一部の実装形態では、光発振器は、１つ又は複数のＤＵＶ波長を有する増幅光ビームを放出するように構成される深紫外（ＤＵＶ）光発振器である。

【0028】

[0028] 上記で説明した及び本明細書の技法の何れかの実装形態はプロセス、装置、及び／又は方法を含み得る。１つ又は複数の実装形態の詳細を添付図面及び以下の説明の中で記載する。他の特徴が説明及び図面から並びに特許請求の範囲から明らかになる。

【図面の簡単な説明】

【0029】

【図1A】[0029]システムの一例のブロック図である。

【図1B】[0030]２次元データの一例である。

【図2A】[0031]システムの別の例のブロック図である。

【図2B】[0032]２次元データの一例である。

【図2C】[0032]２次元データの一例である。

【図2D】[0032]２次元データの一例である。

【図3】[0033]システムの別の例のブロック図である。

【図4】[0034]プロセスの一例のフローチャートである。

【図5】[0035]フォトリソグラフィシステムの一例のブロック図である。

【発明を実施するための形態】

【0030】

[0036] 図１Ａは、パルスストレッチャー１１０、センサ１３０、及び制御システム１８０を含むシステム１００のブロック図である。制御システム１８０は、センサ１３０からのデータ１３２を使用してパルスストレッチャー１１０の使用中にパルスストレッチャー１１０のキャビティ長１１２を調節する。キャビティ長１１２を意図的に調節することは、パルスストレッチャー１１０の使用中に発生し得る熱影響及び他の変動を補償する。

【0031】

[0037] パルスストレッチャー１１０は光結合系１１１、第１の光学素子１１４ａ、及び第２の光学素子１１４ｂを含む。図１Ａの例では、第１の光学素子１１４ａ及び第２の光学素子１１４ｂはそれぞれの反射面１１５ａ及び１１５ｂを有する。反射面１１５ａ及び１１５ｂは互いに対向し、面１１５ａと面１１５ｂとの間の空間に光キャビティ１１６を画定する。光は光キャビティ１１６内を伝搬する。光キャビティ１１６は利得媒体を含まない。反射面１１５ａ及び１１５ｂは、キャビティ長１１２によって互いから隔てられる。キャビティ長１１２は、第１の反射面１１５ａの中心点１１９ａと第２の反射面１１５ｂの中心点１１９ｂとの間の距離とすることができる。

【0032】

[0038] 動作使用時に、光のパルス１０６が光結合系１１１と相互作用することによって光キャビティ１１６に入る。図示の例では、光結合系１１１は、基板又は材料の第１の面１１１ａ上の反射面と第２の面１１１ｂ上の反射面とを含む。面１１１ａ及び１１１ｂ上の反射面は、パルス１０６内の波長に対して部分的に反射し得る。換言すれば、パルス１０６の一部が光結合系１１１を通過し得る。面１１１ａ及び１１１ｂは光結合系１１１の対向する面である。パルス１０６は面１１１ｂから第２の反射面１１５ｂに向かって反射する。その後、パルス１０６は第２の反射面１１５ｂに反射し、キャビティ１１６内を伝搬し、第１の反射面１１５ａに反射する。第１の反射面１１５ａに反射した後、パルス１０６内の光の一部は光結合系１１１の第１の面１１１ａ上の反射面と相互作用し、第１のドーターパルス（daughter pulse）１０６ａとしてキャビティ１１６の外に反射される。第１のドーターパルス１０６ａは概ねＺ方向に沿って伝搬する。パルス１０６内の残りの光はキャビティ１１６内を伝搬し続け、後続のドーターパルスとしてキャビティの外に反射されるまで反射面１１５ａ及び１１５ｂから反射する。図１Ａの例は、３つのドーターパルス１０６ａ、１０６ｂ、及び１０６ｃを示す。更に多くのドーターパルスが作られてもよいが３つだけ示されている。ドーターパルス１０６ｂ及び１０６ｃは、ドーターパルス１０６ａの後にキャビティ１１６から出てドーターパルス１０６ａよりも低い光学強度を有する。ドーターパルス１０６ａ～１０６ｃは、ドーターパルス１０６ａ～１０６ｃに作用するエンドユーザの応用に使用され又は装置に提供される。例えばドーターパルス１０６ａ～１０６ｃは、図５に示すリソグラフィ露光装置５６９に与えることができる。

【0033】

[0039] センサ１３０は、キャビティ１１６から出るパルス（ドーターパルス１０６ａ、１０６ｂ、及び１０６ｃ等）に関する情報を測定し、その情報をデータ１３２として制御システム１８０に提供する。データ１３２は、例えばドーターパルスのダイバージェンスの指示、ドーターパルスの画像、ドーターパルス間の時間の指示、ドーターパルスの時間的持続時間の指示、及び／又はドーターパルスの強度に関連する情報を含み得る。図１Ｂは、データ１３２が光結合系１１１に対して下流側（Ｚ方向）のＸ－Ｙ平面におけるドーターパルス１０６ａの２次元画像である一例を示す。Ｘ－Ｙ平面はパルス１０６ａの伝搬方向に対して概ね垂直である。ドーターパルス１０６ａは水平ダイバージェンス１３４及びポインティング１３３を有する。水平ダイバージェンス１３４は、伝搬方向に対して垂直な方向に沿ったパルス１０６ａの幅である（この例ではダイバージェンス１３４はＹ軸に沿っている）。水平ダイバージェンス１３４は、パルス１０６ａの幅（例えば全幅半値（ＦＷＨＭ））であり得る。ポインティング１３３は、Ｘ－Ｙ平面におけるパルス１０６ａの位置である。例えばポインティング１３３は、パルス１０６ａの空間的中心の位置又はパルス１０６ａのＦＷＨＭの空間的中心の位置であり得る。

【0034】

[0040] 制御システム１８０は、データ１３２を使用し、アクチュエータ１４０を制御することによってキャビティ長１１２を調節する。図１Ａの例では、アクチュエータ１４０は光学素子１１４ａに結合されている。アクチュエータ１４０を制御することは、反射面１１５ａを反射面１１５ｂの方に又は反射面１１５ｂから離れるように移動させ、それによりキャビティ長１１２をそれぞれ減少又は増加させる。

【0035】

[0041] 制御システム１８０は、キャビティ１１６の使用中にキャビティ長１１２を調節することを可能にする。製造時又は設置時にキャビティ長１１２を設定する従来の手法、又はキャビティ１１６内に光が伝搬しない整備事象中にのみキャビティ長１１２を手動で調節できる手法と比較し、キャビティ長１１２を使用中に調節することはパルスストレッチャー１１０の性能を改善し、システム１００のダウンタイムを短縮する。光のパルスとの相互作用が繰り返されることは反射面１１５ａ及び１１５ｂを加熱し、これらの熱影響が反射面１１５ａ及び１１５ｂの曲率半径を変化させる。熱影響によって引き起こされる曲率半径の変化は、キャビティ１１６から出るドーターパルスのポインティング１３３及び／又は水平ダイバージェンス１３４も変化させる。

【0036】

[0042] キャビティ１１６から出るドーターパルスの間で一定のポインティング及びダイバージェンスを維持することが望ましい。例えば上記で論じたように、ドーターパルスは別個のデバイス又はエンドユーザの応用に提供される。ドーターパルスのポインティング１３３及び／又はダイバージェンス１３４が経時的に変化する場合、別個のデバイス及び／又は応用は期待される全光量を受け取らない。このことは不十分な結果又は障害につながる可能性がある。パルスストレッチャー１１０の使用中にキャビティ長１１２を調節することは、キャビティ１１６から出るドーターパルスの間でポインティング１３３及びダイバージェンス１３４が一定に保たれることをもたらす。従って、動作使用中にキャビティ長１１２を調節することにより、制御システム１８０はパルスストレッチャー１１０の性能を改善する。

【0037】

[0043] 更に、製造及び／又は設置の際のばらつきにより、反射面１１５ａが経験する熱影響は反射面１１５ｂが経験する熱影響と異なる場合があり、反射面１１５ａ及び／又は１１５ｂは他のパルスストレッチャー内の反射面と異なる量の熱影響を経験する場合がある。更に、異なるエンドユーザは、自らの応用のニーズに基づいてパルスストレッチャー１１０を異なるように動作させ、特定のエンドユーザの応用のニーズは整備事象間で変わり得る。例えば一部のエンドユーザは、より高い強度のパルス及び／又はより高い繰り返し率のパルスをパルスストレッチャー１１０に通すことがあり、又はユーザは特定のパルスストレッチャー１１０を使用している間にかかる特性を素早く変えることがある。（例えば５００ヘルツを上回る）高い繰り返し率は低い繰り返し率よりも強い熱影響を引き起こし、キャビティ長を調節する必要性が高まる。このような動作上の違いは、パルスストレッチャー１１０内で発生する熱的加熱量も変える。制御システム１８０が様々なパルスストレッチャーと共に使用され得るように、データ１３２に基づいてキャビティ長１１２を使用中に調節することにより制御システム１８０はこれらの変化に対処する。最後に、キャビティ長１１２の能動的調節は、パルスストレッチャー１１０の整備中に行われる手動調節よりも作動的で迅速であり、制御システム１８０によって実行される能動的調節はより頻繁に実行され、従ってより安定的である。

【0038】

[0044] 図２Ａは、システム２００のブロック図である。システム２００は、パルスストレッチャー２１０及び制御システム２８０を含む。パルスストレッチャー２１０は共焦点ジオメトリを有する。一例では、湾曲反射面間の距離に等しい曲率半径をそれぞれ有する２つの湾曲反射面により（パルスストレッチャー２１０等の）共焦点ジオメトリを有するキャビティが形成される。他の例では、共焦点ジオメトリを有するキャビティは、キャビティ内の各往復中に循環光のビームを固定位置における少なくとも１つの焦点に集束させる２つ以上のミラーを含むことができる。

【0039】

[0045] パルスストレッチャー２１０は、光学素子２１４ａ及び２１４ｂを含む。光学素子２１４ａは、基板２１７ａ及び基板２１７ａ上の湾曲反射面２１５ａを含む。光学素子２１４ｂは、基板２１７ｂ及び基板２１７ｂ上の湾曲反射面２１５ｂを含む。反射面２１５ａ及び２１５ｂは、それぞれの基板２１７ａ及び２１７ｂ上に形成される光学的に反射性のコーティング又は膜である。反射面２１５ａ及び２１５ｂはキャビティ２１６を画定し、キャビティ２１６は反射面２１５ａと反射面２１５ｂとの間にあり、キャビティ長２１２を有する。

【0040】

[0046] 反射面２１５ａは曲率半径Ｒ１を有し、反射面２１５ｂは曲率半径Ｒ２を有する。Ｒ１及びＲ２の値は名目上同じであり、キャビティ長２１２もＲ１及びＲ２の値に名目上等しい。パルスストレッチャー２１０の使用中、反射面２１５ａに誘起される応力により曲率半径Ｒ１が公称値から外れる場合があり、及び／又は反射面２１５ｂに誘起される応力により曲率半径Ｒ２が変化する場合がある。例えばStoneyの式である式（１）によれば、

【数1】

式（１） ＲＯＣは曲率半径であり、σ_ｆは膜応力であり、ν_ｓは基板のポアソン比であり、Ｅｓは基板のヤング率であり、ｔは膜厚であり、ｄは基板厚さである。式１を用いて反射面２１５ａの実際の曲率半径を求めるには、σ_ｆは反射面２１５ａの応力であり、ν_ｓは基板２１７ａのポアソン比であり、ｔは反射面２１５ａの厚さであり、ｄは基板２１７ｃの厚さである。

【0041】

[0047] 動作条件下では、反射面２１５ａの応力（σ_ｆ）は１００から５００メガパスカル（ＭＰａ）の間とすることができ、ポアソン比は０．１から０．３の間とすることができ、ヤング率（Ｅｓ）は７０から８０ギガパスカル（ＧＰａ）の間とすることができ、反射面２１５ａの実際の曲率半径は公称Ｒ１値と比較して約３０から１７０マイクロメートル（μｍ）増加する可能性がある。波長が１９３ナノメートル（ｎｍ）のパルスでは、反射面２１５ａ及び２１５ｂの曲率半径が１７０μｍ変化することはドーターパルス２０６ａ～２０６ｃのダイバージェンスが約０．０６８ミリラジアン（ｍｒａｄ）増加することを引き起こし得る。曲率半径Ｒ１及び／又はＲ２の変化は、パルスストレッチャー２１０から出るパルス（ドーターパルス２０６ａ～２０６ｃ等）のポインティングも変える。

【0042】

[0048] 制御システム２８０は、パルスストレッチャー２１０の使用中に生じ得るＲ１及び／又はＲ２の変化を補償するために、センサ２３０からのデータ２３２に基づいてキャビティ長２１２を調節する。センサ２３０は、例えばカメラ又はドーターパルス内の波長に対して感度のあるフォトダイオードの２次元アレイとすることができる。図２Ｂ～図２Ｄも参照し、センサ２３０は、この例では２次元画像２３５ａ（図２Ｂ）、２３５ｂ（図２Ｃ）、及び２３５ｃ（図２Ｄ）を含むデータ２３２を生成する。データ２３２は、光結合系１１１に対して下流側（Ｚ方向）のＸ－Ｙ平面におけるドーターパルスの２次元画像である。Ｘ－Ｙ平面は、ドーターパルスの伝搬方向に対して概ね垂直である。データ２３２は、反射面２１５ａ及び／又は２１５ｂの曲率半径が変化したときに変化するドータービームの特性に関連する情報を提供する。

【0043】

[0049] 各画像２３５ａ、２３５ｂ、２３５ｃは、或る期間にわたってキャビティ２１６から出る複数のドーターパルスの表現を含む。各画像２３５ａ、２３５ｂ、２３５ｃは、１つのドーターパルスのみの表現を含む画像に基づく合成画像又は複合画像であり得る。一部の実装形態では、各画像２３５ａ、２３５ｂ、２３５ｃは、１つのドーターパルスの表現をそれぞれ含む個々の画像の集まりである。

【0044】

[0050] 画像２３５ａは、ドーターパルス２０６＿１’、２０６＿２’、及び２０６＿３’の表現を含む。ドーターパルス２０６＿１’、２０６＿２’、２０６＿３’は、キャビティ２１６から出る任意のドーターパルスである。例えばドーターパルス２０６＿１’、２０６＿２’、２０６＿３’は、ドーターパルス２０６ａ、２０６ｂ、２０６ｃの画像であり得る。別の例では、ドーターパルス２０６＿１’、２０６＿２’、２０６＿３’は、別々の元のパルスからそれぞれ生じるドーターパルスの画像である。例えばドーターパルス２０６＿２’及び２０６＿３’は、パルス２０６の数百パルス後の元のパルスから生じ得る。画像２３５ａの形態にかかわらず、画像２３５ａは時間の経過と共にキャビティ２１６から出る様々なドーターパルスの表現を含む。表現の特性は、キャビティ長２１２を調節すべきかどうかを示す。例えば画像２３５ａでは、ドーターパルス２０６ａ、２０６ｂ、及び２０６ｃのポインティングは一定ではなく、反射面２１５ａ又は２１５ｂ上の熱影響によってキャビティ長２１２が変化していることを示す。

【0045】

[0051] 画像２３５ｂ及び２３５ｃは、キャビティ２１６を出るドーターパルスの表現も含む。画像２３５ｂは、単一の表現２０６＿４’を含む。画像２３５ｂにおいて、ドーターパルスは一貫したポインティング及び水平ダイバージェンスを有し、従って互いに整列され、画像２３５ｂの同じ位置にあり、これは単一の表現２０６＿４’として現れる。単一の表現２０６＿４’は、キャビティ長２１２が熱影響によって変化していないことを示している。画像２３５ｃは、表現２０６＿５’、２０６＿６’、及び２０６＿７’を含む。各表現２０６＿５’、２０６＿６’、及び２０６＿７’は画像２３５ｂの異なる位置にあり、反射面２１５ａ及び／又は２１５ｂの曲率半径が熱影響によって変化しており、キャビティ長２１２を調節すべきであることを示している。

【0046】

[0052] データ２３２の他の形態も可能である。例えば一部の実装形態では、センサ２３０はフォトダイオード等の１次元センサである。これらの実装形態では、データ２３２は特定の時間における空間内の固定点における光量の表現である。データ２３２の形態にかかわらず、データ２３２は、ドーターパルスのポインティング及び／又はダイバージェンス等、反射面２１５ａ及び／又は２１５ｂの曲率半径の変化の影響を受ける特性を示す又は表す情報を含む。様々なドーターパルスの特性を解析することにより、制御システム２８０はキャビティ長２１６を調節するかどうか及びどのように調節するかを決定する。

【0047】

[0053] 制御システム２８０は、電子処理モジュール２８１、電子記憶デバイス２８２、及びＩ／Ｏインターフェイス２８３を含む。電子処理モジュール２８１は、汎用マイクロプロセッサ又は専用マイクロプロセッサ等のコンピュータプログラムの実行に適した１つ又は複数のプロセッサ、及び任意の種類のデジタルコンピュータの何れか１つ又は複数のプロセッサを含む。概して、電子プロセッサは、読み取り専用メモリ、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、又はその両方から命令及びデータを受信する。電子処理モジュール２８１は、任意の種類の電子プロセッサを含むことができる。電子処理モジュール２８１の電子プロセッサは命令を実行し、電子記憶デバイス２８２上に記憶されたデータにアクセスする。電子プロセッサは、電子記憶デバイス２８２にデータを書き込むこともできる。

【0048】

[0054] 電子記憶デバイス２８２は、ＲＡＭ等の揮発性メモリ又は不揮発性メモリとすることができる。一部の実装形態では、及び電子記憶デバイス２８２は不揮発性及び揮発性の部分又はコンポーネントを含む。電子記憶デバイス２８２は、制御システム２８０の動作に使用されるデータ及び情報を記憶する。例えば電子記憶デバイス２８２は、ドーターパルスのダイバージェンス及び／又はポインティングの許容値の範囲を規定する仕様情報を記憶することができる。許容値の範囲は、パルス繰り返し率又はキャビティ２１６の圧力等の様々な動作条件に関連して記憶することができる。許容値の範囲は、異なる動作条件ごとに異なってもよい。電子記憶デバイス２８２は、追加の仕様及びメトリクを記憶することができる。例えば電子記憶デバイス２８２は、２つのドーターパルス間のダイバージェンス又はポインティングの最大許容差を表す値又は規則を記憶することができる。

【0049】

[0055] 電子記憶デバイス２８２は、データ解析モジュール２８４及び作動制御モジュール２８５を定義する（例えばコンピュータプログラム形式の）機械実行可能命令も記憶する。データ解析モジュール２８４はデータ２３２を処理し、キャビティ長２１６を調節すべきかどうかの指示を生成する。一部の実装形態では、データ解析モジュール２８４は図４に示すプロセス４００を実装する。

【0050】

[0056] 作動制御モジュール２８５は、アクチュエータ２４０に制御信号２４７を与える。制御信号２４７は、データ解析モジュール２８４によって生成される指示によって指定されるようにアクチュエータ２４０にキャビティ長２１６を調節させる。制御信号２４７の形式は、アクチュエータ２４０の特性に依存する。例えば制御信号２４７は、アクチュエータ２４０の一部に印加される電圧信号、又はモータインターフェイスを制御する信号であり得る。アクチュエータ２４０は光学素子２１４ａに結合され、光学素子２１４ａをパス２４２に沿って移動させることができる。パス２４２は直線パスであり、図２Ａの例ではＹ軸に沿っている。光学素子２１４ａを＋Ｙ方向に移動することはキャビティ長２１２を短くする。光学素子２１４ａを－Ｙ方向に移動することはキャビティ長２１２を長くする。

【0051】

[0057] アクチュエータ２４０は、光学素子２１４ａを移動させることができる任意の種類のデバイスである。図２Ａに示す例では、アクチュエータ２４０は、プラットフォーム２４４に取り付けられた制御可能素子２４３を含む。光学素子２１５ａはプラットフォーム２４４に取り付けられる。プラットフォーム２４４は、例えばプレート又はステージであり得る。制御可能素子２４３は、作動制御モジュール２８５によって作動可能な任意の種類のデバイスである。例えば制御可能素子２４３は、プラットフォーム２４４に機械的に結合される出力を有するリニアモータであり得る。この実装形態では、作動制御モジュール２４３はモータを制御してパス２４２に沿ってプラットフォーム２４４を移動させる。別の例では、制御可能素子２４３は、印加される電圧信号に応答してパス２４２に沿って伸縮する圧電構造である。これらの実装形態では、圧電構造がパス２４２に沿って伸縮するように、作動制御モジュール２８５は電圧源（不図示）を制御して特定の大きさ及び極性を有する電圧を印加する。

【0052】

[0058] 電子記憶デバイス２８２は、制御システム２８０にシステム２００内の他のコンポーネント及びサブシステムと相互作用させる機械実行可能命令を記憶することもできる。例えば電子記憶デバイス２８２は、ドーターパルスのダイバージェンス及び／又はポインティングが許容値の範囲外にある場合に、アラーム又は感知可能な警告をＩ／Ｏインターフェイスに表示又は生成させる命令を記憶することができる。

【0053】

[0059] Ｉ／Ｏインターフェイス２８３は、制御システム２８０がオペレータ、センサ２３０、アクチュエータ２４０、及び／又は別の電子デバイス上で実行される自動化プロセスとデータ及び信号をやり取りすることを可能にする任意の種類のインターフェイスである。例えば電子記憶デバイス２８２上に記憶された規則、仕様、又は命令が編集され得る実装形態では、編集はＩ／Ｏインターフェイス２８３によって行うことができる。Ｉ／Ｏインターフェイス２８３は、視覚ディスプレイ、キーボード、並びにパラレルポート、ユニバーサルシリアルバス（ＵＳＢ）接続、及び／又は例えばイーサネット等の任意の種類のネットワークインターフェイス等の通信インターフェイスの１つ又は複数を含むことができる。Ｉ／Ｏインターフェイス２８３は、例えばIEEE802.11、Bluetooth、又は近距離無線通信（ＮＦＣ）接続により、物理的接触なしに通信を可能にすることもできる。

【0054】

[0060] 制御システム２８０は、データ接続２５４によってセンサ２３０及びアクチュエータ２４０に結合される。データ接続２５４は、物理ケーブル又は他の物理データ導管（データに基づくIEEE802.3の伝送をサポートするケーブル等）、無線データ接続（IEEE802.11又はBluetoothによってデータを提供するデータ接続等）、又は有線データ接続及び無線データ接続の組み合わせとすることができる。データ接続上で提供されるデータ及び情報は、任意の種類のプロトコル又はフォーマットによって設定することができる。データ接続２５４は、センサ２３０及びアクチュエータ２４０の一部である通信インターフェイスにおいてセンサ２３０及びアクチュエータ２４０にそれぞれ接続される。通信インターフェイスは、データを送受信することができる任意の種類のインターフェイスであり得る。例えばデータインターフェイスは、イーサネットインターフェイス、シリアルポート、パラレルポート、又はＵＳＢ接続の何れかであり得る。一部の実装形態では、データインターフェイスは無線データ接続によるデータ通信を可能にする。例えば各データインターフェイスは、IEEE811.11トランシーバ、Bluetooth、又はＮＦＣ接続であり得る。

【0055】

[0061] システム２００の他の実装形態も可能である。例えばアクチュエータ２４０は、プラットフォーム２４４なしで実装することができる。これらの実装形態では、制御可能素子２４３が光学素子２１４ａに直接結合される。例えば制御可能素子２４３は、光学素子２１４ａの面２１８ａの中心に直接取り付けられる圧電構造であり得る。更にアクチュエータは、光学素子２１４ａに取り付けられるのに加えて又はその代わりに、光学素子２１４ｂに取り付けることができる。アクチュエータ２４０が光学素子２１４ａに取り付けられ、別のアクチュエータが光学素子２１４ｂに取り付けられる実装形態では、アクチュエータ２４０及び他のアクチュエータは作動制御モジュール２８５によって制御される同一のデバイスであり得る。

【0056】

[0062] 図１Ａ及び図２Ａの例では、キャビティ長が２つの反射面のジオメトリ又は配置を表す。他の例では、キャビティ長は光キャビティ内の往復光路の長さ、又は光キャビティ内の往復光路の長さの一部を表し得る。

【0057】

[0063] 図３は、パルスストレッチャー３１０の別の例を含むシステム３００のブロック図である。パルスストレッチャー３１０は、パルスストレッチャー２１０（図２Ａ）と同様だが、パルスストレッチャー３１０はそれぞれの湾曲反射面３１５ａ＿１、３１５ａ＿２、３１５ｂ＿１、３１５ｂ＿２を含む４つの光学素子３１４ａ＿１、３１４ａ＿２、３１４ｂ＿１、３１４ｂ＿２を含む。

【0058】

[0064] 反射面３１５ａ＿１、３１５ａ＿２、３１５ｂ＿１、３１５ｂ＿２の公称曲率半径は、それぞれＲａ＿１、Ｒａ＿２、Ｒｂ＿１、Ｒｂ＿２である。湾曲反射面３１５ａ＿１、３１５ａ＿２、３１５ｂ＿１、３１５ｂ＿２は、共焦点ジオメトリを有するキャビティ３１６を画定する。つまり湾曲反射面３１５ａ＿１、３１５ａ＿２、３１５ｂ＿１、３１５ｂ＿２のそれぞれは、先行する反射面の曲率半径に等しい距離だけ先行する反射面から隔てられる。

【0059】

[0065] 動作使用時に、光のパルス３０６が光結合系１１１の面１１１ｂから反射して反射面３１５ｂ＿１に伝搬することによってキャビティ３１６に入る。パルス３０６は反射面３１５ｂ＿１から反射面３１５ａ＿２へ反射し、次いで反射面３１５ｂ＿２へ反射し、その後反射面３１５ａ＿１へ反射する。反射面３１５ａ＿１から反射した後、パルス３０６の一部が光結合素子１１１の面１１１ａと相互作用し、ドーターパルス３０６ａとしてキャビティ３１６から出る。図３に示す構成では反射面３１５ｂ＿１が反射面３１５ａ＿２に先行し、反射面３１５ａ＿２が反射面３１５ｂ＿２に先行し、反射面３１５ｂ＿２が反射面３１５ａ＿１に先行する。

【0060】

[0066] パルスストレッチャー３１０は、反射面３１５ａ＿２が反射面３１５ｂ＿１からＲｂ＿１に等しい距離隔てられ、反射面３１５ｂ＿２が反射面３１５ａ＿２からＲａ＿２に等しい距離隔てられ、反射面３１５ａ＿１が反射面３１５ｂ＿２からＲｂ＿２に等しい距離隔てられた状態で最初に構成される。しかし、パルスストレッチャー３１０の使用中に、様々な反射面３１５ａ＿１、３１５ａ＿２、３１５ｂ＿１、３１５ｂ＿２の曲率半径が熱応力によって変化することがある。曲率半径の変化はパルスがパルスストレッチャー内を移動するパス長を変化させ、それによりパルスストレッチャー３１０から出るパルスのポインティング及び水平ダイバージェンスを変化させる。

【0061】

[0067] 曲率半径の変化に対処するために、システム３００はセンサ２３０及び制御システム２８０を含む。センサ２３０は、キャビティ３１６から出る少なくとも２つのドーターパルスの１つ又は複数の特性を測定し、データ２３２を制御システム２８０に提供する。上記で論じたように、データ解析モジュール２８４はデータを解析し、アクチュエータ２４０を制御することによってキャビティ３１６の長さを調節するかどうかを判定する。例えばキャビティ３１６から出る２つのパルス間で水平ダイバージェンスが一定でない場合、又は水平ダイバージェンスが許容値の範囲外にある場合、制御システム２８０はアクチュエータ２４０を制御してキャビティ３１６の長さを調節する。

【0062】

[0068] 図３に示す例では、アクチュエータ２４０は光学素子３１４ａ＿１に取り付けられている。キャビティ３１６の長さを調節するために、作動制御モジュール２８５は、光学素子３１４ｂ＿２に向かって又は光学素子３１４ｂ＿２から離れて直線パス３４２に沿って移動するようにアクチュエータ２４０を制御する。他の実装形態も可能である。例えばアクチュエータ２４０は、光学素子３１４ａ＿２、３１４ｂ＿１、又は３１４ｂ＿２の何れかに結合することができる。更に、システム３００は、それぞれが異なる光学素子に結合されるアクチュエータ２４０の複数のインスタンスを含むことができる。これらの実装形態では、制御システム２８０はアクチュエータ２４０の全てのインスタンスを制御し、アクチュエータの各インスタンスを別々に制御することができる。例えば光学素子３１４ａ＿１、３１４ａ＿２、３１４ｂ＿１、及び３１４ｂ＿２のそれぞれがアクチュエータ２４０のインスタンスに結合される実装形態でさえ、制御システム２８０は光学素子３１４ａ＿１、３１４ａ＿２、３１４ｂ＿１、及び３１４ｂ＿２の一部だけを移動させることができる。

【0063】

[0069] 図４は、プロセス４００の一例のフローチャートである。このプロセス４００の例は、パルスストレッチャーの使用中にパルスストレッチャーのキャビティ長を調節するために使用される。換言すれば、パルスストレッチャー内で光が伝搬している間にプロセス４００が使用される。従って、プロセス４００を実行するためにパルスストレッチャーを使用停止にする必要はない。プロセス４００は、制御システム１８０又は制御システム２８０によって実行することができる。プロセス４００は、パルスストレッチャー２１０（図２Ａ）及び制御システム２８０に関して論じるが、パルスストレッチャー１１０（図１Ａ）又はパルスストレッチャー３１０（図３）等の他のパルスストレッチャーを用いて実行してもよい。

【0064】

[0070] キャビティ２１６から出る少なくとも２つのパルスは、センサ２３０（４１０）によって感知される。例えばパルス２０６ａ、２０６ｂ、及び２０６ｃはセンサ２３０によって感知され得る。別の例では、パルス２０６ａ及びパルス２０６の後にキャビティ２１６に入るパルスから生じるドーターパルスがセンサ２３０によって感知される。

【0065】

[0071] センサ２３０はデータ２３２を制御システム２８０に提供する。データ２３２は、ドーターパルスの伝搬方向に対して垂直なＸ－Ｙ平面における感知されたドーターパルスのポインティング又は位置決めに関連する情報、及び／又は水平ダイバージェンス（図２ＡにおけるＹ軸に沿った感知されたドーターパルスの程度）に関連する情報を含む。データ２３２は、例えば図２Ｂ、図２Ｃ、及び図２Ｄにそれぞれ示す画像２３５ａ、２３５ｂ、２３５ｃであり得る。

【0066】

[0072] センサ２３０によって感知される少なくとも２つのパルスそれぞれの１つ又は複数の特性を決定する（４２０）。データ２３２はデータ解析モジュール２８４によってアクセスされ、データ解析モジュール２８４は１つ又は複数の特性を決定する。特性は、反射面２１５ａ及び／又は２１５ｂの曲率半径が経時的に変化していることを示すドーターパルスの特性に関連する特性である。データ２３２は、特性を決定するために処理される。例えばデータ２３２が画像２３５ａを含む場合、画像２３５ａの残りの部分から表現を抽出するために、表現２０６＿１’、２０６＿２’、２０６＿３’にエッジ検出器又は他のフィルタが適用される。次に、抽出表現が解析され、特性が決定される。例えば一部の実装形態では、各ドーターパルスのポインティングの推定値を決定するために、データ解析モジュール２８４がそれぞれの抽出表現の空間的中心を決定するように構成される。他の実装形態では、各ドーターパルスの水平ダイバージェンスの推定値を決定するために、データ解析モジュール２８４がＹ軸に沿ったそれぞれの抽出表現の幅を決定するように構成される。

【0067】

[0073] 少なくとも２つのドーターパルスの１つ又は複数の特性を解析する（４３０）。例えば或るドーターパルスの特性を別のドーターパルスの特性と比較して、ドーターパルスの特性が時間と共に変化しているかどうかを判断する。この特性はキャビティの安定性メトリクを導出するために使用される。具体例を示すと、表現２０６＿１’から決定された推定ポインティングを、表現２０６＿２’及び２０６＿３’から決定された推定ポインティングと比較する。ポインティング値の差をキャビティの安定性メトリクとして決定し、ポインティング値の許容差範囲と比較する。ポインティングの差は、特定のＸ－Ｙ平面におけるドーターパルスの空間的分離の測度である。

【0068】

[0074] ポインティング値の許容差範囲は電子記憶デバイス２８１上に記憶され、Ｉ／Ｏインターフェイス２８３を介してエンドユーザによってプログラムされ又は編集され得る。許容可能な値域は、正の数及び負の数を含むことができる。一部の実装形態では、ポインティング値の許容範囲がゼロのみを含み、ドーターパルス間のポインティングのばらつきが許容できないと見なされることを示す。

【0069】

[0075] 同様に、水平ダイバージェンス等の他の特性もキャビティの安定性メトリクとして解析に使用することができる。水平ダイバージェンスを解析する実装形態では、少なくとも２つのドーターパルスの推定水平ダイバージェンスを比較してダイバージェンスの差を決定する。ダイバージェンスの差は許容値の範囲と比較される。

【0070】

[0076] 他の実装形態も可能である。例えば一部の実装形態では、複数のドーターの特性の差が許容値の範囲と比較される代わりに規則で試験される。規則は、或るドーターパルスの特性が別のドーターパルスの同じ特性と異なる値を有する場合、キャビティ長２１２を調節すべきであることを示し得る。

【0071】

[0077] キャビティ長を調節するかどうかを判定する（４４０）。キャビティ長２１２を調節するかどうかの判定は、（４３０）における解析に基づいて行われる。例えばキャビティの安定性メトリクとしてポインティングの差を使用する実装形態では、ポインティングの差を許容可能な値域又は試験と比較する。

【0072】

[0078] 差が許容可能な値域の内側にある場合又は差が試験を満たす場合、プロセス４００は（４１０）に戻る。差が許容可能な値域の外側にある場合又は差が試験を満たさない場合、キャビティ長２１２を調節し、プロセスはアクチュエータ２４０にコマンド信号を与えること（４５０）に進む。コマンド信号は、命じられた量だけアクチュエータ２４０に光学素子２１４ａを移動させる任意の種類の信号である。例えばアクチュエータ２４０が圧電デバイスを含む実装形態では、コマンド信号は圧電デバイスに印加される電圧信号である。電圧信号の大きさ及び極性は、（４３０）における解析から決定される。ポインティング値の差の大きさがより大きいことは、キャビティ長２１２の調節もポインティング値の差が小さい場合よりも大きくなるべきことを示す。この例では、熱影響によって引き起こされる曲率半径Ｒ１及び／又はＲ２の意図しない変化に対処するのに十分な距離だけ圧電デバイスが光学素子２１４ａを移動させるように電圧信号の大きさが大きくなる。

【0073】

[0079] プロセス４００はキャビティ長２１２を調節した後で（４１０）に戻り、パルスストレッチャー２１０から出るパルスのモニタを継続する。例えば一部の実装形態では少なくとも１つの追加のドーターパルスがデータ内で識別され、その追加のパルスの特性が、先に発生したドーターパルスの同じ特性と比較される。特性はポインティング又は空間的位置とすることができ、比較は特定のＸ－Ｙ平面における先のドーターパルスと後のドーターパルスとの間の空間的分離の測度を生成する。これらの実装形態では、２つのドーターパルス間の空間的分離が閾値未満になるまで制御システム２８０がキャビティ長２１２を調節し続ける。例えば制御システム２８０は、２つのドーターパルス間の空間的分離が０．０１ｍｒａｄ未満になるまでデータ２３２を処理し続けるように構成され得る。更に制御システム２８０は、空間閾値（又は他の特性閾値）に達した後でもデータ２３２のモニタリング及びプロセス４００の実行を続けるように構成され得る。

【0074】

[0080] 図５を参照し、フォトリソグラフィシステム５５０のブロック図が示されている。システム５５０はＤＵＶ光源５６０を含む。システム５５０は、パルスストレッチャー３１０及び制御システム２８０も含む。パルスストレッチャー３１０は、局所重力ベクトルに対して水平配置に又は局所重力ベクトルに対して垂直の向きに方向付けることができる。パルスストレッチャー３１０の向き（水平又は垂直）は用途によって決定され、最も効率的な構成になり最小のビーム方向変化をもたらす向きが使用される。

【0075】

[0081] 光源５６０は、パルスストレッチャー３１０に与えられるパルス光ビーム５４１を生成する。パルスストレッチャー３１０によって生成されるドーターパルスはリソグラフィ露光装置５６９に与えられる。光源５６０は、パワー増幅器（ＰＡ）５６８にシード光ビーム５４２を与える主発振器（ＭＯ）５６７を含む２段式レーザシステムである。ＭＯ５６７及びＰＡ５６８は、光源５６０のサブシステム又は光源５６０の一部であるシステムと考えることができる。ＰＡ５６８はＭＯ５６７からシード光ビーム５４２を受光し、シード光ビーム５４２を増幅してリソグラフィ露光装置５６９で使用するための光ビーム５４１を生成する。例えば一部の実装形態では、ＭＯ５６７は、１パルス当たり約１ミリジュール（ｍＪ）のシードパルスエネルギーを有するパルスシード光ビームを放射することができ、これらのシードパルスはＰＡ５６８によって約１０から１５ｍＪに増幅され得る。

【0076】

[0082] ＭＯ５６７は、２つの細長い電極５６２ａ＿１及び５６２ｂ＿１を有する放電チャンバ５６５＿１と、混合ガスである利得媒体５６１＿１と、電極５６２ａ＿１、５６２ｂ＿１間で混合ガスを循環させるためのファン（不図示）とを含む。放電チャンバ５６５＿１の一方の側のライン狭隘化モジュール５８６と、放電チャンバ５６５＿１の第２の側の出力カプラ５８１との間に共振器が形成される。

【0077】

[0083] 放電チャンバ５６５＿１は、第１のチャンバウィンドウ５６３＿１及び第２のチャンバウィンドウ５６４＿１を含む。第１のチャンバウィンドウ５６３＿１及び第２のチャンバウィンドウ５６４＿１は、放電チャンバ５６５＿１の両側にある。第１のチャンバウィンドウ５６３＿１及び第２のチャンバウィンドウ５６４＿１はＤＵＶ域の光を透過し、ＤＵＶ光が放電チャンバ５６５＿１に入ること及びそこから出ることを可能にする。

【0078】

[0084] ライン狭隘化モジュール５８６は、放電チャンバ５６５＿１のスペクトル出力を微調整する回折格子等の回折光学系を含むことができる。光源５６０は、出力カプラ５８１及びビーム結合光学系５８３から出力光ビームを受光する線中心解析モジュール５８４も含む。線中心解析モジュール５８４は、シード光ビーム５４２の波長を測定し又はモニタするために使用され得る測定システムである。線中心解析モジュール５８４は光源５６０内の他の位置に配置することができ、又は光源５６０の出力に配置することができる。

【0079】

[0085] 利得媒体５６１＿１である混合ガスは、用途に必要な波長及び帯域幅において光ビームを生成するのに適した任意のガスであり得る。エキシマ源では、混合ガス５６１＿１はヘリウム等の緩衝ガスとは別に、例えばアルゴン又はクリプトン等の希ガス（貴ガス）、例えばフッ素又は塩素等のハロゲン、及びキセノンの痕跡を含むことができる。混合ガスの具体例は、約１９３ｎｍの波長で発光するフッ化アルゴン（ＡｒＦ）、約２４８ｎｍの波長で発光するフッ化クリプトン（ＫｒＦ）、又は約３５１ｎｍの波長で発光する塩化キセノン（ＸｅＣｌ）を含む。従って光ビーム５４１及び５４２は、この実装形態ではＤＵＶ域の波長を含む。エキシマ利得媒体（混合ガス）は、細長い電極５６２ａ＿１、５６２ｂ＿１に電圧を印加することにより、高電圧放電において短い（例えばナノ秒の）電流パルスで励起される。

【0080】

[0086] ＰＡ５６８は、ＭＯ５６７からシード光ビーム５４２を受光し、シード光ビーム５４２を放電チャンバ５６５＿２によってビームターニング光学素子５８２に導くビーム結合光学系５８３を含み、ビームターニング光学素子５８２はシード光ビーム５４２が放電チャンバ５６５＿２内に再び送られるようにシード光ビーム５４２の方向を修正又は変更する。ビームターニング光学素子５８２及びビーム結合光学系５８３は、リング増幅器内への入力がビーム結合光学系５８３においてリング増幅器の出力と交差する循環及び閉ループ光路を形成する。

【0081】

[0087] 放電チャンバ５６５＿２は、１対の細長い電極５６２ａ＿２、５６２ｂ＿２と、利得媒体５６１＿２と、電極５６２ａ＿２、５６２ｂ＿２間で利得媒体５６１＿２を循環させるためのファン（不図示）とを含む。利得媒体５６１＿２を形成する混合ガスは、利得媒体５６１＿１を形成する混合ガスと同じであり得る。

【0082】

[0088] 放電チャンバ５６５＿２は、第１のチャンバウィンドウ５６３＿２及び第２のチャンバウィンドウ５６４＿２を含む。第１のチャンバウィンドウ５６３＿２及び第２のチャンバウィンドウ５６４＿２は、放電チャンバ５６５＿２の両側にある。第１のチャンバウィンドウ５６３＿２及び第２のチャンバウィンドウ５６４＿２は、ＤＵＶ域の光を透過し、ＤＵＶ光が放電チャンバ５６５＿２に入ること及びそこから出ることを可能にする。

【0083】

[0089] 出力光ビーム５４１は、リソグラフィ露光装置４６９に到達する前にビーム準備システム５８５によって導かれる。ビーム準備システム５８５は、ビーム５４１の様々なパラメータ（帯域幅又は波長等）を測定する帯域幅解析モジュールを含むことができる。ビーム準備システム５８５は、出力光ビーム５４１の各パルスを時間的に引き延ばすパルスストレッチャー３１０も含む。ビーム準備システム５８５は、例えば反射及び／又は屈折光学素子（例えばレンズ及びミラー等）、フィルタ、及び光学的開口（自動シャッタを含む）等のビーム５４１に作用することができる他のコンポーネントも含み得る。

【0084】

[0090] ＤＵＶ光源５６０は、ＤＵＶ光源５６０の内部５７８と流体連通しているガス管理システム５７９も含む。上記で論じたように、ガス管理システム５７９はパージガス４１２を内部５７８に与える。図５の例では、パージガス４１２はチャンバ５６５＿１及び５６５＿２を取り囲み、ＤＵＶ光源５６０のサブシステムの一部の光学コンポーネントも取り囲む。例えばパージガス４１２は、ライン狭隘化モジュール５８６、出力カプラ５８１、線中心解析モジュール５８４、ビーム結合光学系５８３、及びビームターニング光学素子５８２内の光学コンポーネントを取り囲む。パージガス４１２は内部５７８にあり、放電チャンバ５６５＿１及び５６５＿２並びに他の様々な光学コンポーネントを取り囲むが、パージガス４１２は放電チャンバ５６５＿１及び５６５＿２を貫通せず、利得媒体５６１＿１及び５６１＿２の化学組成を乱すこと又は変えることはない。

【0085】

[0091] フォトリソグラフィシステム５５０は、制御システム２８０も含む。制御システム２８０は、上記で論じたようにパルスストレッチャー３１０のキャビティ長を制御する。制御システム２８０は、リソグラフィ露光装置５６９に結合され、データ２３２をリソグラフィ露光装置５６９から又はセンサ２３０（図５には不図示）から受信することができる。

【0086】

[0092] リソグラフィ露光装置５６９は、例えば温度制御デバイス（空調デバイス及び／又は加熱デバイス等）、及び／又は様々な電気コンポーネント用の電源を含んでもよい。制御システム５８０は、これらのコンポーネントを制御することもできる。一部の実装形態では、制御システム５８０は、リソグラフィ露光装置５６９の制御の側面に充てられる少なくとも１つのサブ制御システム（リソグラフィコントローラ）と共に、複数のサブ制御システムを含むように実装される。これらの実装形態では、リソグラフィ露光装置４６９の側面を制御するために、リソグラフィコントローラを使用する代わりに又はリソグラフィコントローラに加えて制御システム５８０を使用することができる。

【0087】

[0093] 電極５６２ａ＿１、５６２ｂ＿１、又は５６２ａ＿２、５６２ｂ＿２にそれぞれ電圧を印加することによって利得媒体５６１＿１又は５６１＿２が励起されるとき、利得媒体５６１＿１及び／又は５６１＿２が発光する。電極に電圧が一定の時間間隔で印加されるとき、光ビーム５４１がパルス化される。従って、パルス光ビーム５４１の繰り返し率は電極に電圧が印加される速度によって決定される。パルスの繰り返し率は、様々な用途について約５００Ｈｚから約６，０００Ｈｚに及び得る。一部の実装形態では、繰り返し率は６，０００Ｈｚよりも大きくてもよく、例えば１２，０００Ｈｚ以上であり得るが、他の実装形態では他の繰り返し率が使用されてもよい。

【0088】

[0094] 実施形態は、以下の条項を用いて更に説明することができる：
１．第１の反射光学素子、
第２の反射光学素子、及び
光結合系であって、第１の反射光学素子と第２の反射光学素子との間の距離は光キャビティ内の分離距離を定め、光結合系は光のパルスをキャビティに入れるように、及び光のパルスがキャビティから出ることを可能にするように構成される、光結合系
を含む、光パルスストレッチャーと、
分離距離を制御するように構成される作動システムと、
キャビティから出る少なくとも２つの光のパルスに関連するデータを生成するように構成されるセンサと、
作動システムに結合される制御システムであって、データに基づいて作動システム及び分離距離を制御するように構成される、制御システムと
を含む、システム。
２．制御システムが、
作動システムを制御した後にセンサからの追加データを解析し、
解析した追加データに基づいて作動システムを再び制御するかどうかを判定する
ように更に構成される、条項１に記載のシステム。
３．制御システムが、データ内の少なくとも２つの光のパルスを識別するように、及びデータ内の識別された光のパルスの位置を決定するように構成され、決定した位置に基づいて作動システム及び分離距離を制御システムが制御する、条項１に記載のシステム。
４．センサが２次元イメージングセンサを含み、イメージングセンサからのデータが２次元画像を含む、条項３に記載のシステム。
５．データ内の識別された光のパルスの位置を決定することは、データ内で識別された少なくとも２つの光のパルス間の空間的分離を決定することを含み、制御システムは、決定された空間的分離に基づいて作動システム及び分離距離を制御する、条項４に記載のシステム。
６．制御システムが、第１の反射光学素子及び第２の光学素子の１つ又は複数を移動することによって作動システム及び分離距離を制御する、条項５に記載のシステム。
７．制御システムが、決定された空間的分離に基づいて第１の反射光学素子及び第２の反射光学素子の１つ又は複数を移動する方向を決定するように更に構成される、条項６に記載のシステム。
８．制御システムが、決定された空間的分離に基づいて第１の反射光学素子及び第２の反射光学素子の１つ又は複数を移動する量を決定するように更に構成される、条項７に記載のシステム。
９．決定された空間的分離が第１の決定された空間的分離を含み、制御システムが、
作動システムを制御した後にセンサからの追加データを解析すること、
追加データ内の少なくとも１つの追加の光のパルスを識別すること、
第２の空間的分離を決定することであって、第２の空間的分離は少なくとも１つの追加の識別された光のパルスと少なくとも１つの他の光のパルスとの間の空間的分離である、決定すること、
第１の空間的分離と第２の空間的分離とを比較すること、及び
比較に基づいて作動システムを再び制御するかどうかを判定すること
を行うように更に構成される、条項５に記載のシステム。
１０．制御システムは、第２の空間的分離が第１の空間的分離よりも閾値を超えて大きい場合にのみ作動システムを再び制御する、条項９に記載のシステム。
１１．空間的分離が、データ内で識別される少なくとも２つの光のパルスそれぞれの中心間である、条項５に記載のシステム。
１２．第１の反射光学素子が第１の湾曲反射面を含み、第２の反射光学素子が第２の湾曲反射面を含む、条項１に記載のシステム。
１３．分離距離が第１の湾曲反射面の中心と第２の湾曲反射面の中心との間の距離である、条項１２に記載のシステム。
１４．光結合系が、第１の反射光学素子及び第２の反射光学素子とは分離され別個のビームスプリッタを含む、条項１に記載のシステム。
１５．作動システムが、
第１の反射光学素子に結合される第１の作動モジュールであって、第１の活性化モジュールは制御システムからのコマンドに基づいて第１の反射光学素子を移動させるように構成される、第１の作動モジュールと、
第２の反射光学素子に結合される第２の作動モジュールであって、第２の活性化モジュールは制御システムからのコマンドに基づいて第２の反射光学素子を移動させるように構成される、第２の作動モジュールと
を含み、
制御システムが、第１の作動モジュール及び第２の作動モジュールの１つ又は複数にコマンドを出すことによって作動システムを制御するように構成される、
条項１に記載のシステム。
１６．キャビティが利得媒体を欠いている、条項１に記載のシステム。
１７．第１の湾曲光学面を含む第１の光学素子、及び
第２の湾曲光学面を含む第２の光学素子
を含む光学アセンブリであって、第１の湾曲光学面及び第２の湾曲光学面は光キャビティの少なくとも一部を画定する、光学アセンブリと、
キャビティから出る少なくとも２つの光のパルスに関連するデータを生成するように構成されるセンサと、
センサからのデータに基づいて第１の光学素子及び第２の光学素子の１つ又は複数の位置を制御し、それにより第１の湾曲光学面及び第２の湾曲光学面の１つ又は複数の曲率半径の変化を補償するように構成される制御システムと
を含む、システム。
１８．データが、キャビティから出る少なくとも２つの光のパルスの位置に関連する情報を含む、条項１７に記載のシステム。
１９．データが、キャビティから出る少なくとも２つの光のパルスのダイバージェンスに関連する情報を含む、条項１７に記載のシステム。
２０．第１の光学素子及び第２の光学素子の１つ又は複数に結合される作動システムを更に含む、条項１７に記載のシステム。
２１．第１の湾曲面が第１の公称曲率半径を有する第１の湾曲反射面であり、第２の湾曲面が第２の公称曲率半径を有する第２の湾曲面である、条項１７に記載のシステム。
２２．キャビティが共焦点キャビティを含む、条項２１に記載のシステム。
２３．第１の湾曲反射面と第２の湾曲反射面との間の距離がキャビティの長さを定め、制御システムが、キャビティの長さを調節することによって第１の湾曲光学面及び第２の湾曲光学面の１つ又は複数の曲率半径の変化を補償するように構成される、条項１７に記載のシステム。
２４．光学アセンブリがパルスストレッチャーを含む、条項１７に記載のシステム。
２５．光のパルスが、第１の光学素子及び第２の光学素子の１つを通ってキャビティから出る、条項１７に記載のシステム。
２６．光のパルスが、第１の光学素子及び第２の光学素子とは分離され別個の光学素子を通ってキャビティから出る、条項１７に記載のシステム。
２７．センサからのデータを解析するように構成されるデータ解析モジュールであって、センサは異なる時間に光キャビティから出る２つ以上の光のパルスの少なくとも一部を感知するように構成され、データ解析モジュールはデータを解析するためにセンサからのデータに基づいて光のパルスの少なくとも２つの１つ又は複数の特性を決定するように構成される、データ解析モジュール
を含み、
１つ又は複数の特性に基づいて光キャビティに結合される作動システムのためのコマンド信号を決定し、
光キャビティの長さを調節するために作動システムにコマンド信号を提供する
ように構成される作動制御モジュールを更に含む、
光パルスストレッチャーと共に使用するように構成される、制御システム。
２８．決定される１つ又は複数の特性が、光のパルスの伝搬方向に対して垂直な平面内の少なくとも２つの光のパルスそれぞれの位置を含む、条項２７に記載の制御システム。
２９．決定される１つ又は複数の特性が、光のパルスの伝搬方向に対して垂直な平面内の少なくとも２つの光のパルスそれぞれのダイバージェンスを含む、条項２８に記載の制御システム。
３０．増幅されたパルス光ビームをビームパス上で放射するように構成される光発振器と、
ビームパス上に配置されるように構成されるパルスストレッチャーであって、
第１の湾曲光学面を含む第１の光学素子、及び
第２の湾曲光学面を含む第２の光学素子
を含み、第１の湾曲光学面及び第２の湾曲光学面はキャビティを画定する、
パルスストレッチャーと、
キャビティから出る増幅されたパルス光ビームの少なくとも２つのパルスに関連するデータを生成するように構成されるセンサと、
センサからのデータに基づいて第１の光学素子及び第２の光学素子の１つ又は複数の位置を制御し、それにより第１の湾曲光学面及び第２の湾曲光学面の１つ又は複数の曲率半径の変化を補償するように構成される制御システムと
を含む、光学系。
３１．光発振器が、１つ又は複数のＤＵＶ波長を有する増幅光ビームを放出するように構成される深紫外（ＤＵＶ）光発振器である、条項３０に記載の光学系。

【0089】

[0095] 更に他の実装形態が添付の特許請求の範囲に含まれる。

【図1A】

【図1B】

【図2A】

【図2B】

【図2C】

【図2D】

【図3】

【図4】

【図5】

【国際調査報告】