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特表2024-526151ガス放電ステージ用のガス制御装置

書誌要約請求の範囲詳細な説明課題実施例実施するための形態図面の説明

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-07-17

(54)【発明の名称】ガス放電ステージ用のガス制御装置

(51)【国際特許分類】

H01S 3/036 20060101AFI20240709BHJP

H01S 3/02 20060101ALI20240709BHJP

【ＦＩ】

H01S3/036

H01S3/02

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2023578795

(86)(22)【出願日】2022-06-02

(85)【翻訳文提出日】2024-02-16

(86)【国際出願番号】 US2022032007

(87)【国際公開番号】W WO2023278097

(87)【国際公開日】2023-01-05

(31)【優先権主張番号】63/217,537

(32)【優先日】2021-07-01

(33)【優先権主張国・地域又は機関】US

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】513192029

【氏名又は名称】サイマーリミテッドライアビリティカンパニー

(74)【代理人】

【識別番号】100079108

【弁理士】

【氏名又は名称】稲葉良幸

(74)【代理人】

【識別番号】100109346

【弁理士】

【氏名又は名称】大貫敏史

(74)【代理人】

【識別番号】100117189

【弁理士】

【氏名又は名称】江口昭彦

(74)【代理人】

【識別番号】100134120

【弁理士】

【氏名又は名称】内藤和彦

(72)【発明者】

【氏名】チェン，シユ

(72)【発明者】

【氏名】ウィリアムズ，スペンサー，ライアン

【テーマコード（参考）】

5F071

5F172

【Ｆターム（参考）】

5F071AA06

5F071JJ08

5F172AD06

5F172DD03

5F172NN34

(57)【要約】

ガス制御装置は、ガス放電チャンバと通信する制御システムを含む。制御システムは、ガス放電チャンバの標準動作モード中に、及び、ガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較し、ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを比較に基づいて判定し、判定に基づいてガス回収設定の値を調整する、ように構成された性能モニタリングモジュールを含む。制御システムは、ガス回収方式を実施するように構成されたガス回収モジュールを含み、ガス回収モジュールは、現在のガス回収方式を実施するときに性能モニタリングモジュールからガス回収設定の最新の調整値にアクセスするように構成される。
【選択図】図４

【特許請求の範囲】

【請求項1】

光源内のガス放電チャンバに関連するガス制御装置であって、
前記ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定するように構成されたモニタリングシステムと、
前記モニタリングシステム及び前記ガス放電チャンバと通信する制御システムであって、前記ガス放電チャンバの標準動作モード中に、及び、ガス回収設定を使用するガス回収方式を前記ガス放電チャンバに対して実施する合間に、前記推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較し、前記ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを前記比較に基づいて判定し、前記判定に基づいて前記ガス回収設定の値を調整する、ように構成された、制御システムと、
を含む、ガス制御装置。

【請求項2】

前記ガス回収方式中に少なくとも１つのガス回収設定に従って及び前記制御システムの制御下でガス混合物の１種以上のガス成分を前記ガス放電チャンバに対して注入及び／又は除去するように構成されたガス供給システムを更に含む、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項3】

前記制御システムは、前記ガス放電チャンバの標準動作中に、及び、前記ガス回収設定を使用するガス回収方式を前記ガス放電チャンバに対して実施する合間に、前記ガス回収設定の前記調整値を保存するように構成される、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項4】

前記制御システムは、次のガス回収方式を実施するときに、前記ガス回収設定の最新の調整値にアクセスする、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項5】

前記ガス回収設定は、ガス特性の極端な動作値である、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項6】

前記ガス回収設定は、前記ガス放電チャンバ内の圧力の極値である、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項7】

前記ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定するように構成された前記モニタリングシステムは、前記ガス放電チャンバから出力される光ビームのエネルギー、前記ガス放電チャンバのエネルギー源アクチュエータのエネルギー変動予測子、前記ガス放電チャンバから出力される光ビームのスペクトルフィーチャ、前記エネルギー源アクチュエータを介して前記ガス放電チャンバに供給されるエネルギー、及び、アーク放電リスクの感度、のうちの１つ以上を推定する前記モニタリングシステムを含む、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項8】

前記判定に基づいて前記ガス回収設定の前記値を調整するように構成された前記制御システムは、最大極値と最小極値との間で増分量だけ前記ガス回収設定の前記値を調整することを含む、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項9】

前記推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較するように構成された前記制御システムは、各性能パラメータがそのそれぞれの閾値を超えているかどうかを判定することを含み、
性能パラメータは、そのそれぞれの閾値を超えている場合には許容値にある、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項10】

前記ガス放電チャンバの標準動作中に、及び、前記ガス回収設定を使用するガス回収方式を前記ガス放電チャンバに対して実施する合間に、前記モニタリングシステムは、前記ガス放電チャンバの前記１つ以上の性能パラメータを周期間隔で推定する、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項11】

前記制御システムは、前記１つ以上の性能パラメータが前記モニタリングシステムによって推定される度に、前記推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較し、前記ガス回収設定を調整すべきかどうかを前記比較に基づいて判定し、前記判定に基づいて前記ガス回収設定の前記値を調整する、ように構成される、請求項１０に記載のガス制御装置。

【請求項12】

前記制御システムは更に、前記ガス回収方式の開始を示す指令が受信されたときに前記ガス回収設定の前記値の調整を停止するように構成される、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項13】

前記制御システムは、前記ガス放電チャンバへのガス再充填を指示した後にガス回収方式を実施するように構成される、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項14】

前記モニタリングシステムは、主発振器ガス放電チャンバとパワー増幅器ガス放電チャンバとを含む２ステージ光源の少なくとも１つのガス放電チャンバをモニタするように構成される、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項15】

前記制御システムは、前記主発振器ガス放電チャンバ及び前記パワー増幅器ガス放電チャンバと通信し、
前記ガス回収設定は、前記パワー増幅器ガス放電チャンバに関する、請求項１４に記載のガス制御装置。

【請求項16】

前記ガス放電チャンバは、前記光源のガス放電ステージ内に実装され、
前記ガス放電ステージは、ガス混合物にエネルギーが与えられたときに前記ガス放電チャンバ内の前記ガス混合物中で生じる反転分布から増幅光ビームを生成する、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項17】

前記ガス放電チャンバの前記１つ以上の性能パラメータを推定するように構成された前記モニタリングシステムは、前記ガス放電チャンバの性能に関する１つ以上の態様を測定し、前記測定された態様を分析する前記モニタリングシステムを含む、請求項１に記載のガス制御装置。

【請求項18】

ガス放電光源内のガス放電チャンバのガス混合物を制御するための方法であって、
前記ガス放電チャンバの標準動作中に、及び、ガス回収設定を使用するガス回収方式を前記ガス放電チャンバに対して実施する合間に、
前記ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定することと、
前記推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較することと、
前記ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを前記比較に基づいて判定することと、
前記判定に基づいて前記ガス回収設定の値を調整することと、
を含む、方法。

【請求項19】

前記ガス放電チャンバの標準動作中に、及び、ガス回収設定を使用するガス回収方式を前記ガス放電チャンバに対して実施する合間に、前記ガス回収設定の前記調整値を保存することを更に含む、請求項１８に記載の方法。

【請求項20】

前記ガス回収設定の最新の調整値を次のガス回収方式に提供することを更に含む、請求項１８に記載の方法。

【請求項21】

前記ガス回収設定は、ガス特性の極端な動作値である、請求項１８に記載の方法。

【請求項22】

前記ガス回収設定は、前記ガス放電チャンバ内の圧力の極値である、請求項１８に記載の方法。

【請求項23】

前記ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定することは、前記ガス放電チャンバから出力される光ビームのエネルギー、前記ガス放電チャンバのエネルギー源アクチュエータのエネルギー変動予測子、前記ガス放電チャンバから出力される光ビームのスペクトルフィーチャ、前記エネルギー源アクチュエータを介して前記ガス放電チャンバに供給されるエネルギー、及び、アーク放電リスクの感度、のうちの１つ以上を推定することを含む、請求項１８に記載の方法。

【請求項24】

前記比較に基づいて前記ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを判定することは、前記推定された１つ以上の性能パラメータの全てがそれらのそれぞれの閾値を超えている場合には前記ガス回収設定を調整する必要がないと判定することを含む、請求項１８に記載の方法。

【請求項25】

性能パラメータは、その閾値よりも大きい場合にはその閾値を超えている、請求項２４に記載の方法。

【請求項26】

前記比較に基づいて前記ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを判定することは、前記推定された１つ以上の性能パラメータの１つがそのそれぞれの閾値を超えておらず、前記推定された１つ以上の性能パラメータの残りがそれらのそれぞれの閾値を超えている場合には前記ガス回収設定を調整する必要があると判定することを含む、請求項２４に記載の方法。

【請求項27】

前記比較に基づいて前記ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを判定することは、前記推定された１つ以上の性能パラメータの全てがそれらのそれぞれの閾値を超えていない場合には前記ガス回収設定を調整する必要がないと判定することを含む、請求項２４に記載の方法。

【請求項28】

前記判定に基づいて前記ガス回収設定の前記値を調整することは、最大極値と最小極値との間で増分量だけ前記ガス回収設定の前記値を調整することを含む、請求項１８に記載の方法。

【請求項29】

前記推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較することは、各性能パラメータがそのそれぞれの閾値を超えているかどうかを判定することを含み、
性能パラメータは、そのそれぞれの閾値を超えている場合には許容値にある、請求項１８に記載の方法。

【請求項30】

前記ガス放電チャンバの標準動作中に、及び、前記ガス回収設定を使用するガス回収方式を前記ガス放電チャンバに対して実施する合間に、前記ガス放電チャンバの前記１つ以上の性能パラメータは、周期間隔で推定される、請求項１８に記載の方法。

【請求項31】

前記１つ以上の性能パラメータが推定される度に、前記推定された１つ以上の性能パラメータがそれぞれの閾値と比較され、前記ガス回収設定を調整すべきどうかが前記比較に基づいて判定され、前記ガス回収設定の前記値が前記判定に基づいて調整される、ことを更に含む、請求項３０に記載の方法。

【請求項32】

前記ガス回収方式の開始を示す指令が受信されたときに前記ガス回収設定の前記値の調整を停止することを更に含む、請求項１８に記載の方法。

【請求項33】

前記ガス放電チャンバへのガス再充填が実施された後にガス回収方式を前記ガス放電チャンバに対して実施することを更に含む、請求項１８に記載の方法。

【請求項34】

前記ガス放電チャンバの前記１つ以上の性能パラメータを推定することは、前記ガス放電チャンバの性能に関する１つ以上の態様を測定し、前記測定された態様を分析することを含む、請求項１８に記載の方法。

【請求項35】

ガス放電チャンバに関連するガス制御装置であって、
前記ガス制御装置は、前記ガス放電チャンバと通信する制御システムを含み、
前記制御システムは、
前記ガス放電チャンバの標準動作モード中に、及び、ガス回収設定を使用するガス回収方式を前記ガス放電チャンバに対して実施する合間に、前記ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較し、前記ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを前記比較に基づいて判定し、前記判定に基づいて前記ガス回収設定の値を調整する、ように構成された性能モニタリングモジュールと、
前記ガス回収方式を実施するように構成されたガス回収モジュールであって、現在のガス回収方式を実施するときに前記性能モニタリングモジュールから前記ガス回収設定の最新の調整値にアクセスするように構成された、ガス回収モジュールと、
を含む、ガス制御装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

関連出願の相互参照
[0001] 本出願は、２０２１年７月１日に出願された、「GAS CONTROL APPARATUS FOR GAS DISCHARGE STAGE」という名称の米国特許出願第６３／２１７，５３７号の優先権を主張するものであり、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。

【0002】

[0002] 本開示の主題は、標準動作モード中にガス回収設定を推定するモジュールを含む、ガス放電ステージ用のガス制御装置に関する。

【背景技術】

【0003】

[0003] フォトリソグラフィで使用されるガス放電光源の一種は、エキシマ光源又はレーザと称される。典型的には、エキシマレーザは、アルゴン、クリプトン、又はキセノンを含み得る、１つ以上の希ガスと、フッ素又は塩素を含み得る、反応性ガスと、の組み合わせを使用する。エキシマレーザは、電気的シミュレーション（エネルギー供給されている）と（ガス混合物の）高圧の適切な条件下でエキシマ、すなわち擬似分子を形成することができ、エキシマは、エネルギーを与えられた状態でのみ存在する。エネルギーを与えられた状態のエキシマは、紫外線範囲の増幅光を生じさせる。エキシマ光源は、単一のガス放電チャンバ又は複数のガス放電チャンバを使用することができる。エキシマ光源が動作しているときに、エキシマ光源は、深紫外（ＤＵＶ）光ビームを生成する。ＤＵＶ光は、例えば、約１００ナノメートル（ｎｍ）～約４００ｎｍの波長を含むことができる。

【0004】

[0004] ＤＵＶ光ビームは、基板（シリコンウェーハなど）のターゲット部分上に所望のパターンを施す機械である、フォトリソグラフィ露光装置又はスキャナへ誘導することができる。ＤＵＶ光ビームは、投影光学システムと相互作用し、この投影光学システムは、マスクを通してウェーハのフォトレジスト上にＤＵＶ光ビームを投影する。このようにして、チップ設計の１つ以上の層がフォトレジスト上にパターニングされ、その後、ウェーハがエッチングされ、洗浄される。

【発明の概要】

【0005】

[0005] いくつかの一般的な態様では、ガス制御装置は、光源内のガス放電チャンバに関連付けられる。ガス制御装置は、ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定するように構成されたモニタリングシステムと、モニタリングシステム及びガス放電チャンバと通信する制御システムと、を含む。制御システムは、ガス放電チャンバの標準動作モード中に、及びガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較し、ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを比較に基づいて判定し、判定に基づいてガス回収設定の値を調整するように構成される。

【0006】

[0006] 実施態様は、以下のフィーチャの１つ以上を含むことができる。例えば、ガス制御装置は、ガス回収方式中に少なくとも１つのガス回収設定に従って及び制御システムの制御下でガス混合物の１種以上のガス成分をガス放電チャンバに対して注入及び／又は除去するように構成されたガス供給システムを更に含むことができる。

【0007】

[0007] 制御システムは、ガス放電チャンバの標準動作中に、及びガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、ガス回収設定の調整値を保存するように構成することができる。制御システムは、次のガス回収方式を実施するときに、ガス回収設定の最新の調整値にアクセスすることができる。ガス回収設定は、ガス特性の極端な動作値とすることができる。ガス回収設定は、ガス放電チャンバ内の圧力の極値とすることができる。

【0008】

[0008] ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定するように構成されたモニタリングシステムは、ガス放電チャンバから出力される光ビームのエネルギー、ガス放電チャンバのエネルギー源アクチュエータのエネルギー変動予測子、ガス放電チャンバから出力される光ビームのスペクトルフィーチャ、エネルギー源アクチュエータを介してガス放電チャンバに供給されるエネルギー、及びアーク放電リスクの感度のうちの１つ以上を推定するモニタリングシステムを含むことができる。

【0009】

[0009] 判定に基づいてガス回収設定の値を調整するように構成された制御システムは、最大極値と最小極値との間で増分量だけガス回収設定の値を調整することを含むことができる。推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較するように構成された制御システムは、各性能パラメータがそのそれぞれの閾値を超えているかどうかを判定することを含むことができる。性能パラメータは、そのそれぞれの閾値を超えている場合には許容値にある可能性がある。

【0010】

[0010] ガス放電チャンバの標準動作中に、及びガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、モニタリングシステムは、ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを周期間隔で推定することができる。制御システムは、１つ以上の性能パラメータがモニタリングシステムによって推定される度に、推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較し、ガス回収設定を調整すべきかどうかを比較に基づいて判定し、判定に基づいてガス回収設定の値を調整するように構成することができる。

【0011】

[0011] 制御システムは、ガス回収方式の開始を示す指令が受信されたときにガス回収設定の値の調整を停止するように構成することができる。制御システムは、ガス放電チャンバへのガス再充填を指示した後であって、ガス放電チャンバへのガス再充填が完了した後にガス回収方式を実施するように構成することができる。

【0012】

[0012] モニタリングシステムは、主発振器ガス放電チャンバとパワー増幅器ガス放電チャンバとを含む２ステージ光源の少なくとも１つのガス放電チャンバをモニタするように構成することができる。制御システムは、主発振器ガス放電チャンバ及びパワー増幅器ガス放電チャンバと通信することができ、ガス回収設定は、パワー増幅器ガス放電チャンバに関することができる。ガス放電チャンバは、光源のガス放電ステージ内に実装することができ、ガス放電ステージは、ガス混合物にエネルギーが与えられたときにガス放電チャンバ内のガス混合物中で生じる反転分布から増幅光ビームを生成する。

【0013】

[0013] ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定するように構成されたモニタリングシステムは、ガス放電チャンバの性能に関する１つ以上の態様を測定し、測定された態様を分析するモニタリングシステムを含むことができる。

【0014】

[0014] 他の一般的な態様では、方法は、ガス放電光源内のガス放電チャンバのガス混合物を制御するように構成される。方法は、ガス放電チャンバの標準動作中に、及びガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定することと、推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較することと、ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを比較に基づいて判定することと、判定に基づいてガス回収設定の値を調整することと、を含む。

【0015】

[0015] 実施態様は、以下のフィーチャの１つ以上を含むことができる。例えば、方法は、ガス放電チャンバの標準動作中に、及びガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、ガス回収設定の調整値を保存することを更に含むことができる。方法は、ガス回収設定の最新の調整値を次のガス回収方式に提供することを更に含むことができる。

【0016】

[0016] ガス回収設定は、ガス特性の極端な動作値とすることができる。ガス回収設定は、ガス放電チャンバ内の圧力の極値とすることができる。

【0017】

[0017] ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータは、ガス放電チャンバから出力される光ビームのエネルギー、ガス放電チャンバのエネルギー源アクチュエータのエネルギー変動予測子、ガス放電チャンバから出力される光ビームのスペクトルフィーチャ、エネルギー源アクチュエータを介してガス放電チャンバに供給されるエネルギー、及びアーク放電リスクの感度のうちの１つ以上を推定することによって推定することができる。

【0018】

[0018] ガス回収設定は、推定された１つ以上の性能パラメータの全てがそれらのそれぞれの閾値を超えている場合にはガス回収設定を調整する必要がないと判定することによって、比較に基づいて調整される必要があるものと判定することができる。性能パラメータは、その閾値よりも大きい場合にはその閾値を超えている可能性がある。ガス回収設定は、推定された１つ以上の性能パラメータの１つがそのそれぞれの閾値を超えておらず、推定された１つ以上の性能パラメータの残りがそれらのそれぞれの閾値を超えている場合にはガス回収設定を調整する必要があると判定することによって、比較に基づいて調整される必要があるものと判定することができる。ガス回収設定は、推定された１つ以上の性能パラメータの全てがそれらのそれぞれの閾値を超えていない場合にはガス回収設定を調整する必要がないと判定することによって、比較に基づいて調整される必要があるものと判定することができる。

【0019】

[0019] ガス回収設定の値は、最大極値と最小極値との間で増分量だけガス回収設定の値を調整することによって、判定に基づいて調整することができる。

【0020】

[0020] 各性能パラメータがそのそれぞれの閾値を超えているかどうかを判定することによって、推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較することができ、性能パラメータは、性能パラメータがそのそれぞれの閾値を超えている場合には許容値にある。

【0021】

[0021] ガス放電チャンバの標準動作中に、及びガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータは、周期間隔で推定することができる。方法は、１つ以上の性能パラメータが推定される度に、推定された１つ以上の性能パラメータがそれぞれの閾値と比較され、ガス回収設定を調整すべきどうかを比較に基づいて判定でき、ガス回収設定の値を判定に基づいて調整できることを更に含むことができる。

【0022】

[0022] 方法はまた、ガス回収方式の開始を示す指令が受信されたときにガス回収設定の値の調整を停止することを含むことができる。方法は、ガス放電チャンバへのガス再充填が実施された後にガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施することを更に含むことができる。

【0023】

[0023] ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータは、ガス放電チャンバの性能に関する１つ以上の態様を測定し、測定された態様を分析することによって推定することができる。

【0024】

[0024] 他の一般的な態様では、ガス制御装置は、ガス放電チャンバに関連付けられ、ガス制御装置は、ガス放電チャンバと通信する制御システムを含む。制御システムは、性能モニタリングモジュールと、ガス回収モジュールと、を含む。性能モニタリングモジュールは、ガス放電チャンバの標準動作モード中に、及びガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較し、ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを比較に基づいて判定し、判定に基づいてガス回収設定の値を調整するように構成される。ガス回収モジュールは、ガス回収方式を実施するように構成される。ガス回収モジュールは、現在のガス回収方式を実施するときに性能モニタリングモジュールからガス回収設定の最新の調整値にアクセスするように構成される。

【図面の簡単な説明】

【0025】

【図1】[0025]増幅光ビームを出力装置に供給する光源のガス放電チャンバに関連するガス制御装置のブロック図である。

【図2A】[0026]ガス放電チャンバ内の圧力に対する性能パラメータ、エネルギー変動予測子ｄＥ／ｄＶのグラフである。

【図2B】[0027]ガス放電チャンバ内の圧力に対する性能パラメータ、ガス回収方式を実施したときにガス放電チャンバに供給されるエネルギー（Ｅ１５０）のグラフである。

【図3】[0028]出力装置がフォトリソグラフィ露光装置である、図１の出力装置の実施態様のブロック図である。

【図4】[0029]ガス供給システムの実施様態が示されており、ガス供給システムがガス放電チャンバと流体連通している、図１のガス制御装置の実施態様のブロック図である。

【図5】[0030]デュアルステージ光源が示されている、図１のガス制御装置の実施態様のブロック図である。

【図6】[0031]図１のガス制御装置のモニタリングシステムの実施態様のブロック図である。

【図7】[0032]図１のガス制御装置の制御システムの実施態様のブロック図である。

【図8】[0033]いくつかの実施態様では、図１のガス制御装置によって実行される手順のフローチャートである。

【図9】[0034]いくつかの実施態様では、図８の手順のステップ８２４及び８２５に関する詳細を示すブロック図である。

【図10】[0035]図９を参照して述べた実施態様についての一セットのグラフを示し、これらのグラフでは、第１の性能パラメータはＥ１５０であり、第２の性能パラメータはｄＥ／ｄＶであり、ガス回収設定はｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓであり、グラフ１０３６は、ガス放電チャンバの３つの別個の標準動作中のＥ１５０対時間を示し、グラフ１０３７は、同じ別個の標準動作中のｄＥ／ｄＶ対時間を示し、グラフ１０３８は、同じ別個の標準動作中のガス放電チャンバ内の圧力ＣＰを示し、グラフ１０３９は、同じ別個の標準動作中のガス放電チャンバに対するガス回収設定ｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓを示す。

【発明を実施するための形態】

【0026】

[0036] 図１を参照すると、ガス制御装置１００は、光源１６０のガス放電チャンバ１５０に関連付けられる。光源１６０は、（ガス放電チャンバ１５０の出力から少なくとも一部が生成された）増幅光ビーム１６５を出力装置１８０に供給する（図１には図示しない光学フィードバックを含む）光学システムの一部として構成される。出力装置１８０は、例えば、マイクロ電子フィーチャをウェーハなどの基板上にパターニングするフォトリソグラフィ露光装置とすることができる。

【0027】

[0037] ガス制御装置１００は、モニタリングシステム１４０と、ガス供給システム１７０と、制御システム１０５と、を含む。制御システム１０５は、ガス回収方式をガス放電チャンバ１５０に対して実施するように構成されたガス回収モジュール１１０を含む。ガス回収方式は、制御システム１０５が、ガス放電チャンバ１５０へのガス再充填などのガス維持方式を実施して完了するようにガス供給システム１７０に指示した後、ガス放電チャンバ１５０に対して実施され、ガス回収方式は、典型的には、ガス再充填又は他のガス維持方式を実際に実施して完了した後に実施される。ガス再充填では、ガス放電チャンバ１５０内のガスの全ては、例えば、（例えば、古いガス混合物１５１をガスダンプへ抽気することで）ガス放電チャンバを空にし、その後、ガス放電チャンバ１５０に新鮮なガス混合物１５１を再充填することによって置換される。ガス再充填は、ガス放電チャンバ１５０内で特定の材料（フッ素など）の特定の圧力及び濃度を得る目的で実施することができる。ガス混合物１５１の１００％未満が置換される方式などの他のガス維持方式では、ガス放電チャンバ１５０内のガス混合物１５１の一部は、新鮮なガス混合物１５１がガス放電チャンバ１５０に注入される前に空にされるか又は抽気される。

【0028】

[0038] ガス回収方式は、ガス放電チャンバ１５０の標準動作条件を回復し、したがって、ガス放電チャンバ１５０の標準動作モードを可能にする目的で、ガス放電チャンバ１５０内のガス圧を最適化するために実施される。ガス放電チャンバ１５０の標準動作モード中に、光ビーム１６５は、出力装置１８０の要件に従って生成される。様々な実施態様において、光ビーム１６５は、出力装置１８０からの命令に従って生成することができる。ガス回収方式は、光源１６０内の別のガス放電チャンバに関連する圧力及び他の特性の考慮を含むことができる。例えば、ガス放電チャンバ１５０は、光源１６０のガス放電ステージ１５５に関連付けることができ、光源１６０は、第２のガス放電ステージ自体のガス放電チャンバを備えた第２のガス放電ステージを含むことができる（このようなデュアルステージ光源について図５を参照して説明する）。

【0029】

[0039] ガス回収方式の具体的な一実施態様において、ガス回収モジュール１１０は、より新鮮なガス混合物１５１を供給し、それによってガス放電チャンバ１５０内の圧力を最大圧力設定まで充填する又は上昇させるように、ガス供給システム１７０に命令する。ガス回収モジュール１１０は、ガス放電チャンバ１５０のエネルギー源１５２にエネルギーを供給し、それによってガス放電チャンバ１５０から増幅光ビーム１５３を生成するように、エネルギー源アクチュエータ１５４に命令する。増幅光ビーム１５３は、増幅光ビーム１６５に対応することができ、又は増幅光ビーム１５３は、増幅光ビーム１６５が生成される前駆光ビームとすることができる。次に、ガス回収モジュール１１０は、ガス回収方式に特有の一セットの性能閾値に対して光源１６０の性能を分析する。ガス回収モジュール１１０は、モニタリングシステム１４０によって追跡又はモニタされる性能パラメータにアクセスすることによって、この分析を実施することができる。例えば、モニタできる性能パラメータは、ガス放電チャンバ１５０に供給されるエネルギー（Ｅ１５０）、高電圧設定、又はエネルギー源アクチュエータ１５４のエネルギー変動予測子（ｄＥ／ｄＶ）を含む。エネルギー変動予測子は、入力（電圧とすることができる）の変化に伴うガス放電チャンバ１５０に供給されるエネルギーＥ１５０の変動を予測するために使用できる値である。したがって、エネルギー変動予測子ｄＥ／ｄＶは、ガス放電チャンバ１５０のエネルギーＥ１５０の一定の変化を得るために、電圧入力がどの程度変化する必要があるかを示す。したがって、エネルギー変動予測子ｄＥ／ｄＶは、エネルギー源アクチュエータ１５４の効率の指標である。モニタリングシステム１４０によって追跡又はモニタできる他の性能パラメータは、ガス放電チャンバ１５０から出力される光ビーム１５３（若しくは光ビーム１６５）のエネルギー、ガス放電チャンバ１５０から出力される光ビーム１５３のスペクトルフィーチャ、又はガス放電チャンバ１５０内のアーク放電に対するリスク感度を含む。

【0030】

[0040] ガス回収モジュール１１０は、光源１６０がガス回収方式に特有の性能閾値の範囲内で動作していないと判定した場合、１つ以上の条件が満たされるまでガス放電チャンバ１５０（又は光源１６０内のガス放電チャンバの全て）からガス混合物１５１を繰り返し抽気するようにガス供給システム１７０に命令することができる。満たすことができる１つの条件は、ガス回収設定に関する。例えば、１つのガス回収設定は、ガス放電チャンバ１５０内（又は光源１６０内の１つ以上のガス放電チャンバ内）の許容可能な最小圧力などのガス特性の極端な動作値に対応することができる。このガス回収設定は、ｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓと称される。回収モジュール１１０は、圧力の一部が逃がされて圧力の下限ｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓに達するまでガス放電チャンバ１５０からガス混合物１５１を繰り返し抽気するようにガス供給システム１７０に命令することができる。

【0031】

[0041] 従来のガス制御装置では、ガス回収設定（ｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓなど）は固定される。しかしながら、異なる光源１６０では又は使用年数の異なる同じ光源１６０でさえも、光源１６０の性能が異なる可能性があり、このことは、設定も同様に異なる可能性があることを意味する。そのような従来の状況では、ガス回収モジュール１１０によって実施されるガス回収方式は、不正確な設定を使用して動作する可能性があり、その結果、ガス回収方式が実施された後に、光源１６０の性能が損なわれる可能性がある。

【0032】

[0042] 例えば、図２Ａを参照すると、従来のガス制御装置では、ガス回収モジュール１１０は、ガス回収方式を実施するときに、（上述した）エネルギー変動予測子ｄＥ／ｄＶと称される性能パラメータを考慮又は追跡しない場合がある。概して、エネルギー変動予測子が高いほど、ガス放電チャンバ１５０の動作効率が良くなる。図２Ａのグラフ２１１では、ガス放電チャンバ１５０内の圧力が低減されるにつれて、エネルギー変動予測子ｄＥ／ｄＶが低下する。その一方で、図２Ｂのグラフ２１２を参照すると、ガス回収モジュール１１０は、ガス回収方式を実施したときにガス放電チャンバ１５０に供給される性能パラメータエネルギー（Ｅ１５０）を考慮し、追跡する。例えば、ガス回収モジュール１１０は、ガス回収方式中にエネルギーＥ１５０を閾値と比較し、エネルギーＥ１５０がその閾値の範囲内にない場合、ガス回収モジュール１１０は、ガス放電チャンバ１５０内の圧力の一部を逃がす。これは、図２Ｂに示すように、ガス放電チャンバ１５０内の圧力が低減されるにつれて性能パラメータエネルギーＥ１５０が増加するためである。よって、ガス回収モジュール１１０が、（エネルギーＥ１５０を改善するために）ガス放電チャンバ１５０からガス混合物１５１を繰り返し抽気するようにガス供給システム１７０に命令すると、エネルギー変動予測子ｄＥ／ｄＶが、許容できない値（閾値の範囲内にない値）まで低下し、したがってガス放電ステージ１５５の非効率的な動作につながる可能性がある又は可能性が高い。

【0033】

[0043] 再び図１を参照すると、ガス制御装置１００は、ガス放電チャンバ１５０の標準動作モード中に１つ以上の性能パラメータ（エネルギー変動予測子ｄＥ／ｄＶ及びエネルギーＥ１５０など）を連続して分析するように構成された性能モニタリングモジュール１１５を含む。ガス放電チャンバ１５０の標準動作モードは、ガス回収方式が完了した後に開始する。性能モニタリングモジュール１１５は、この分析に基づいてガス回収設定（ｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓなど）を連続的に更新し、更新されたガス回収設定を制御システム１０５内に記憶することができる。このようにして、次回にガス回収モジュール１１０がガス回収方式を実施するときに、制御システム１０５内に記憶されたガス回収設定の値は、エネルギー変動予測子ｄＥ／ｄＶの変化として現れる可能性がある光源１６０の性能の変化を考慮に入れるように既に調整されている。ガス回収モジュール１１０は、ガス回収方式を実施するときに最新版のガス回収設定を使用する。このようにして、ガス回収方式は、ガス放電ステージ１５５の効率的な動作及び性能を維持しながら実施することができる。その上、性能モニタリングモジュール１１５は、ガス回収設定を手動で調整する必要なしに、ガス回収設定の更新を実施する。ガス回収モジュール１１０によって使用される任意の設定に対する手動調整によって、光ビーム１６５の生成用に光源１６０を利用できる時間が低減される可能性があり、したがって、出力装置１８０の生成効率が低減される可能性がある。

【0034】

[0044] 次に、ガス制御装置１００の構造及び動作について述べる前に、モニタリングシステム１４０、光源１６０、ガス供給システム１７０、及び出力装置１８０を説明する。

【0035】

[0045] 図３を参照すると、いくつかの実施態様では、出力装置１８０は、フォトリソグラフィ露光装置３８０である。露光装置３８０は、例えば、光ビーム１６５が基板（ウェーハ）３８２へ誘導される途中で通過する、１つ以上の集光レンズとマスクと対物レンズ配置とを有する照明システム３８１を含む光学配置を含む。マスクは、１つ以上の方向に沿って、例えば光ビーム１６５の軸線に沿って又は光ビーム１６５の軸線に直交する平面内で、移動可能である。対物レンズ配置は、例えば、投影レンズを含み、マスクからウェーハ３８２上のフォトレジストへの像転写を可能にする。照明システム３８１は、マスクに衝突する光ビーム１６５の角度範囲を調整する。露光装置３８０は、中でも特にウェーハ３８２上に層がどのようにプリントされるかを制御するリソグラフィコントローラ３８３を、数あるフィーチャの中でも特に、含むことができる。リソグラフィコントローラ３８３は、制御システム１０５と通信することができる。

【0036】

[0046] 図４を参照すると、いくつかの実施態様では、ガス供給システム１７０の実施態様４７０が示されている。ガス供給システム４７０は、ガス放電チャンバ１５０と流体連通する。光源１６０は、出力装置１８０（マイクロ電子フィーチャをウェーハ上にパターニングするフォトリソグラフィ露光装置など）に増幅光ビーム１６５を供給する光学システム４４５の一部として構成される。光学システム４４５はまた、ビーム作製システム４６７を含み、ビーム作製システム４６７は、光源１６０から出力された増幅光ビーム４６６を受け取り、光ビーム４６６を修正して増幅光ビーム１６５を形成し、この増幅光ビーム１６５は、その後、出力装置１８０が使用するために出力される。

【0037】

[0047] いくつかの実施態様では、図５を参照して以下に述べるように、光源１６０は、複数のガス放電ステージを有するマルチステージシステムであり、各ガス放電ステージは、ガス放電チャンバ１５０と、ガス放電チャンバ１５０によって生成された光ビーム１５３と相互作用する他のコンポーネント（光学素子など）と、を含むガス放電ステージ１５５を含む。ガス制御装置４００（図４）は、マルチチャンバシステム内の各ガス放電チャンバ１５０と相互作用するように構成することができる。

【0038】

[0048] ガス放電ステージ１５５に焦点を当てると、エネルギー源１５２は、ガス放電チャンバ１５０のガス混合物１５１中の利得媒体にパルスエネルギー源を提供する。光源１６０がマルチステージシステムである場合、光源１６０の他のチャンバの各々内におけるガス混合物１５１の成分は、同一とすることができる。その上、例えば、マルチステージシステムでは、各チャンバの各ガス混合物１５１中の様々な成分の濃度は、異なる濃度とすることができる。

【0039】

[0049] ガス放電チャンバ１５０内で使用されるガス混合物１５１は、出力装置１８０が使用するために必要な波長、帯域幅、及びエネルギーの光ビーム１５３（ひいては光ビーム１６５）を生成するのに適したガスの組み合わせとすることができる。したがって、上述のように、ガス混合物１５１は、例えば、およそ１９３ｎｍの波長で光を放出する、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）、又はおよそ２４８ｎｍの波長で光を放出する、フッ化クリプトン（ＫｒＦ）を含むことができる。

【0040】

[0050] ガス供給システム４７０は、１つ以上のガス源４７１Ａ、４７１Ｂ、４７１Ｃと、ガス放電チャンバ１５０にガスを供給するための導管と、ガス源４７１Ａ、４７１Ｂ、４７１Ｃとガス放電チャンバ１５０との間に１つ以上の流体制御弁を含む弁システム４７２と、を含む。ガス源４７１Ａ、４７１Ｂ、４７１Ｃは、図５を参照して述べたように、例えば、各々がガス放電チャンバを含む複数のステージを光源１６０が含む場合などに、複数のガス放電チャンバにガスを供給することができる。ガス源４７１Ａ、４７１Ｂ、４７１Ｃは、例えば、密閉ガスボトル及び／又はキャニスタとすることができる。一例として、ガス混合物１５１は、アルゴン、ネオン、及び場合により合計で全圧Ｐとなる異なる分圧の他のガスを含む他のガスと共に、フッ素などのハロゲンを含むことができる。更に、１つ以上のガス源４７１Ａ、４７１Ｂ、４７１Ｃは、弁システム４７２内の一セットの流体制御弁を介してガス放電チャンバ１５０に接続される。このシステムを用いて、ガス混合物１５１の特定の成分相対量でガスをガス放電チャンバ１５０内に注入することができる。例えば、ガス放電チャンバ１５０内の利得媒体がフッ化アルゴン（ＡｒＦ）である場合、ガス源の１つ４７１Ａは、ハロゲンであるフッ素、希ガスであるアルゴン、及びネオンのような不活性ガスを含む緩衝ガスなどの１種以上の他の希ガスを含むガスの混合物を収容することができる。説明した混合物を３成分ミックスと称することができる。この例では、ガス源４７１Ｂは、アルゴンと、フッ素を完全に除いた１種以上の他のガスと、を含むガスの混合物を収容することができる。説明した混合物を２成分ミックスと称することができる。３つのガス源４７１Ａ、４７１Ｂ、４７１Ｃのみが示されているが、ガス供給システム４７０は、３つよりも少ない又は３つよりも多いガス源を有することができる。

【0041】

[0051] 制御システム１０５は、１つ以上の信号を使用して弁システム４７２と通信し、ガス再充填において、弁システム４７２に１つ以上の特定のガス源４７１Ａ、４７１Ｂ、４７１Ｃからガス放電チャンバ１５０内にガスを移送させることができる。それに加えて又は代替的に、制御システム１０５は、必要な場合に弁システム４７２にガス放電チャンバ１５０からガスを抽気させるために、１つ以上の信号を使用して弁システム４７２と通信することができ、かかる抽気ガスをガスダンプ４７３へ排出することができる。追加的に、制御システム１０５は、ガス放電チャンバ１５０に対して再充填が実施されているかどうかを判定するために弁システム４７２内の１つ以上の流体制御弁のステータスをモニタする再充填ステータスモジュールを含むことができる。

【0042】

[0052] ガス放電光源１６０の動作中に、ガス放電チャンバ１５０内での光増幅のための利得媒体を提供する、フッ化アルゴン分子のフッ素が使用され、経時的に、ガス放電光源１６０の効率が低減される。それゆえ、増幅光ビーム１６５のエネルギーは、ガス放電チャンバ１５０が使用されるにつれて低減される。

【0043】

[0053] ガス放電チャンバ１５０に対して再充填が実施されるときに、ガス放電チャンバ１５０内のガスの全ては、一例として、ガス混合物１５１をガスダンプ４７３へ抽気することでガス放電チャンバ１５０を空にし、その後、ガス放電チャンバ１５０に新鮮な又は新たなガス混合物を再充填することによって置換される。再充填の目的は、ガス放電チャンバ１５０内でフッ素の特定の圧力及び濃度を得ることである。

【0044】

[0054] 複数のガス源４７１Ａ、４７１Ｂ、４７１Ｃが必要である理由は、フッ素ガス源４７１Ａが、典型的には、ガス放電チャンバ１５０の動作に望ましい分圧よりも高い特定の分圧にあるからである。所望のより低い分圧でガス放電チャンバ１５０にフッ素を加えるために、ガス源４７１Ａ内のガスを希釈することができ、ガス源４７１Ｂ内の非ハロゲン含有ガスをこの目的で使用することができる。

【0045】

[0055] 図示されていないが、弁システム４７２の流体制御弁は、ガス放電チャンバ１５０に割り当てられた複数の弁を含むことができる。例えば、弁システム４７２は、ガスがガス放電チャンバ１５０に第１の速度で出入りすることを可能にする注入弁と、ガスがガス放電チャンバ１５０に第１の速度と異なる第２の速度で出入りすることを可能にするチャンバ充填弁とを含むことができる。

【0046】

[0056] 上述のように、いくつかの実施態様では、光源１６０はマルチステージシステムである。図５に示す実施態様では、光源１６０は、２ステージ光源５６０である。光源５６０は、第１のステージとしての主発振器５６１Ａと、第２のステージとしてのパワー増幅器５６１Ｂと、を含む。主発振器５６１Ａは、主発振器ガス放電チャンバ５５０Ａを含み、パワー増幅器５６１Ｂは、パワー増幅器ガス放電チャンバ５５０Ｂを含む。主発振器ガス放電チャンバ５５０Ａは、エネルギー源５５２Ａとして、チャンバ５５０Ａ内のガス混合物５５１Ａにパルスエネルギー源を提供する２つの細長い電極を含む。パワー増幅器ガス放電チャンバ５５０Ｂは、エネルギー源５５２Ｂとして、チャンバ５５０Ｂ内のガス混合物５５１Ｂにパルスエネルギー源を提供する２つの細長い電極を含む。

【0047】

[0057] 主発振器５６１Ａは、パルス増幅光ビーム（シード光ビームと呼ばれる）５６２をパワー増幅器５６１Ｂに提供する。主発振器ガス放電チャンバ５５０Ａは、増幅が起こる利得媒体を含むガス混合物５５１Ａを収容し、主発振器５６１Ａは、光共振器などの光フィードバック機構を含む。光共振器は、主発振器ガス放電チャンバ５５０Ａの一方側のスペクトル光学システム５６３Ａと、主発振器ガス放電チャンバ５５０Ａの第２の側の出力カプラ５６４Ａと、の間に形成される。パワー増幅器ガス放電チャンバ５５０Ｂは、主発振器５６１Ａからのシード光ビーム５６２でシーディングされたときに増幅が起こる利得媒体を含むガス混合物５５１Ｂを収容する。パワー増幅器５６１Ｂは、再生リング共振器として設計される場合、パワーリング増幅器として説明されるが、この場合、十分な光フィードバックをリング設計から提供することができる。パワー増幅器５６１Ｂはまた、（リング増幅器への入力がリング増幅器から出る出力と交差する）循環及びループ経路を形成するために、（例えば反射によって）パワー増幅器ガス放電チャンバ５５２Ｂ内に戻るように光ビームを返すビームリターン（リフレクタなど）５６３Ｂと、シード光ビーム５６２を入力し、増幅光ビーム５６５を出力するための出力カプラ５６４Ｂと、をも含むことができる。光ビーム１５３は、シード光ビーム５６２又は増幅光ビーム５６５に対応することができる。

【0048】

[0058] それぞれの放電チャンバ５５０Ａ、５５０Ｂ内で使用されるガス混合物（例えば、ガス混合物５５１Ａ、５５１Ｂ）は、所要の波長、帯域幅及びエネルギー付近の増幅光ビームを生成するために適切なガスの組み合わせとすることができる。例えば、上述のように、ガス混合物５５１Ａ、５５１Ｂは、約１９３ｎｍの波長で光を放出する、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）、又は約２４８ｎｍの波長で光を放出する、フッ化クリプトン（ＫｒＦ）を含むことができる。

【0049】

[0059] 図６を参照すると、モニタリングシステム１４０の実施態様６４０が示されている。モニタリングシステム６４０は、光源１６０の態様を観測又は測定するように調整された一セットのサブユニット６４１、６４２、６４３を含む。例えば、モニタリングシステム６４０は、線中心分析サブユニット６４１と、スペクトルフィーチャサブユニット６４２と、アクチュエータサブユニット６４３と、を含む。線中心分析サブユニット６４１は、ガス放電ステージ１５５によって又はガス放電ステージ１５５内で生成された光ビーム１５３、１６５などの１つ以上の増幅光ビームのエネルギーを観測、測定、又は推定する。例えば、線中心分析サブユニット６４１は、光ビーム１５３、１６５の経路内に光パワーメータを含むことができる。追加的に、線中心分析サブユニット６４１は、光ビーム１５３、１６５の波長を測定するように構成された波長計を含むことができる。例えば、そのような波長計は、ビームスプリッタを使用して、ガス放電チャンバ１５０の出力の一部をサンプリングすることができる。追加的に、線中心分析サブユニット６４１は、十分に高い強度の広帯域光の存在を検出してガス放電チャンバ１５０内の利得媒体中の放電のタイミングを示す役割を果たすことができる広帯域光検出器を含むことができる。線中心分析サブユニット６４１は、決定された性能パラメータを示す値又は一セットの値を出力するように構成される。

【0050】

[0060] スペクトルフィーチャサブユニット６４２は、ガス放電ステージ１５５によって又はガス放電ステージ１５５内で生成された光ビーム１５３、１６５などの１つ以上の増幅光ビームの１つ以上のスペクトルフィーチャ（波長及び帯域幅など）を観測、測定、又は推定する。例えば、スペクトルフィーチャサブユニット６４２は、光ビームのこれらのスペクトルフィーチャを分析するために、光ビームの経路（又は光ビームの分離された部分）に配置された１つ以上の光学素子を含むことができる。光学素子は、分光デバイスを形成し、干渉計、回折格子、基準光源、基準帯域光源、共振器、及び／又はエタロンなどの素子を含むことができる。スペクトルフィーチャサブユニット６４２は、これらの決定されたスペクトルフィーチャを示す値又は一セットの値を出力するように構成される。

【0051】

[0061] アクチュエータサブユニット６４３は、ガス放電ステージ１５５を動作させることに関連するアクチュエータの他の動作特性を観測、推定、又は測定するように構成することができる。例えば、アクチュエータサブユニット６４３は、エネルギー源１５２からガス放電チャンバ１５０に供給されるエネルギー、又はエネルギー源１５２に供給される電圧を観測するように構成することができる。アクチュエータサブユニット６４３は、光ビーム１５３又は１６５をサンプリングして光ビーム１５３又は１６５の近視野プロファイルと遠視野プロファイルの両方を単一のカメラ像で捕捉するように構成されたビーム結像／分析モジュール内に存在することができる。このようなビーム結像／分析モジュールは、自動シャッタと、光ビームの性能をインシチュでモニタするために使用される追加のメトロロジとを含む。ビーム結像／分析モジュールは、ビームスプリッタによって光ビーム１５３又は１６５から分割された入力ビームを受け取る。自動シャッタは、閉鎖時に光ビーム１５３又は１６５の分割されない部分を遮断し、開放時に光ビームが干渉なしに出射することを可能にするように配置され、構成される。追加のメトロロジは、光ビーム１５３又は１６５の分割された部分を受け取るように配置され、様々な光検出器及び位置検出器を含むことができる。メトロロジはまた、光学システムと、光ビームの近視野及び遠視野２次元像であり得るが、中間像も含み得る、光ビームの像を捕捉する２次元カメラなどのイメージセンサとを含むことができる。したがって、ビーム結像／分析モジュールの１つの出力は、光ビームプロファイルの強度の２次元（２Ｄ）断面である。この２Ｄ断面は、光ビームプロファイルを測定するために及び歪み又は不規則性を検出するために使用することができる。そのデータは、即座に観測する目的で並びに長期間にわたって記憶及び検索する目的で、ビーム偏光、プロファイル、発散度、及び指向性に関する有用な情報を導出するために使用することができる。エネルギー変動予測子ｄＥ／ｄＶは、ビーム結像／分析モジュール内のサブモジュールからの読取値から推測することができる。

【0052】

[0062] 図７を参照すると、制御システム１０５の実施態様７０５が示されている。制御システム７０５は、モニタリングシステム１４０及びガス回収モジュール１１０と通信する、性能モニタリングモジュール１１５を含む。制御システム７０５はまた、モニタリングシステム１４０及びガス供給システム１７０と通信する、ガス回収モジュール１１０を含む。

【0053】

[0063] 制御システム７０５は、光ビーム１６５を生成するために光源１６０を動作させるように構成された光源モジュール７０６を更に含むことができる。したがって、光源モジュール７０６は、モニタリングシステム１４０と通信するサブモジュールと、ガス供給システム１７０と通信するサブモジュールと、光源１６０内のコンポーネント（光学アクチュエータ及び電動アクチュエータなど）と通信するサブモジュールとを含むことができる。

【0054】

[0064] 制御システム７０５はまた、ガス放電チャンバ１５０が再充填モードにあるか又は標準動作モードにあるかを判定するように構成されたステータスモジュール７０７を含むことができる。ステータスモジュール７０７は、ガス混合物１５１の再充填が現在行われているか又は完了したところであるか否かを示す情報をガス放電ステージ１５５及び／又はガス供給システム１７０から受信することができる。例えば、いくつかの実施態様では、ステータスモジュール７０７は、ガス供給システム１７０内の１つ以上の流体制御弁のステータスを受信する。流体制御弁は、再充填事象中に開いてガス放電チャンバ１５０にガスを供給し、その他のときには閉じるように構成される。流体制御弁の１つ以上が開いている場合、このことは、ガス放電チャンバ１５０が再充填状態にあることを示すことができる。いくつかの実施態様では、ステータスモジュール７０７は、ガス放電ステージ１５５、ガス放電チャンバ１５０、又はガス供給システム１７０によって生成又は設定される「ガスステータス」変数にアクセスすることができる。ガス放電チャンバ１５０のガスステータスは、例えば、再充填が要求されたこと及び／又は実施されていること、ガス回収方式が実施されていること、又はガス放電チャンバ１５０が標準動作モードで動作していることを示すことができる。

【0055】

[0065] 制御システム７０５はまた、ガス放電チャンバ１５０内へのガス混合物１５１の再充填を制御するように構成された再充填モジュール７１３を含む。例えば、再充填モジュール７１３は、ガス供給システム１７０、４７０と通信して再充填を制御することができる。再充填モジュール７１３は、弁システム４７２を介してガス混合物１５１をガスダンプ４７３へ抽気することによってガス放電チャンバ１５０を空にするようにガス供給システム１７０、４７０に命令し、次いで、ガス放電チャンバ１５０に新鮮な又は新たなガス混合物を再充填するようにガス供給システム１７０、４７０に命令することができる。再充填モジュール７１３は、弁システム４７２に１つ以上の信号を送信して、ガス再充填中に弁システム４７２に１つ以上の特定のガス源４７１Ａ、４７１Ｂ、４７１Ｃからガス放電チャンバ１５０内にガスを移送させることができる。

【0056】

[0066] 制御システム７０５は、制御システム７０５内のモジュールの１つ以上にアクセス可能であるメモリ７０８を含む。メモリ７０８は、制御システム７０５の動作中における他のモジュールによる様々な使用のために、これらのモジュールの各々から出力された情報又はモニタリングシステム１４０から受信した情報を記憶するように構成される。メモリ７０８は、読み取り専用メモリ及び／又はランダムアクセスメモリとすることができ、コンピュータプログラム命令及びデータを有形に具体化するのに適した記憶デバイスを提供することができる。

【0057】

[0067] 制御システム７０５はまた、１つ以上の入力及び／又は出力デバイス７０９（キーボード、タッチ対応デバイス、入力としての音声入力デバイス、及び出力用の音声又は映像など）と、１つ以上のプロセッサ７１０と、を含む。制御システム７０５は、説明しない他のモジュールを含むことができる。

【0058】

[0068] モジュール１１０、１１５、７０６、７０７、７１３の何れかとメモリ７０８との間の通信は、制御システム７０５のモジュールと、メモリ７０８と、ガス制御装置１００の他のコンポーネントと、の間で情報を自由にやり取りできるように、直接若しくは物理的接続（例えば有線接続）又は無線接続によるものとすることができる。

【0059】

[0069] 制御システム７０５は、コンポーネントの全てが同じ場所に位置するように見えるボックスとして表されているが、制御システム７０５は、互いに物理的に離れた所にあるコンポーネント（モジュール１１０、１１５、７０６、７０７、７１３など）で構成されることが可能である。モジュール１１０、１１５、７０６、７０７、７１３の各々は、データを受信してデータを分析するための専用の処理システムとすることができ、又はモジュール１１０、１１５、７０６、７０７、７１３の１つ以上は、単一の処理システムに組み合わせることができる。モジュール１１０、１１５、７０６、７０７、７１３の各々は、１つ以上のプログラム可能なプロセッサ７１０を含むか、又は１つ以上のプログラム可能なプロセッサ７１０にアクセスすることができ、各々、入力データに基づいて動作し適切な出力を生成することによって所望の機能を果たす命令のプログラムを実行することができる。モジュール１１０、１１５、７０６、７０７、７１３は、デジタル電子回路、コンピュータハードウェア、ファームウェア、又はソフトウェアの何れかに実装することができる。

【0060】

[0070] 図８を参照すると、手順８２０は、ガス放電チャンバ１５０のガス混合物１５１を制御するための制御システム１０５によって実施される。手順８２０は、ガス放電チャンバ１５０に対して実施されるガス維持方式（再充填など）及び／又はガス回収方式の実施（８２１）から開始する。例えば、ステップ８２１において、ガス回収モジュール１１０は、ガス再充填が完了した後にガス回収方式を実施することができる。手順８２０は、現時点でガス放電チャンバ１５０が標準動作モードで動作すべきかどうかを判定することを含む（８２２）。特に、制御システム１０５は、ガス回収方式が完了したと判定することができ、したがって、ガス放電チャンバ１５０は、標準動作モードで動作することができる。

【0061】

[0071] ガス回収モジュール１１０がガス回収方式を完了した場合（８２２）、ガス放電チャンバ１５０は、標準動作モードに入り、制御システム１０５は、ガス放電チャンバ１５０の標準動作モード中に１つ以上の性能パラメータを推定する（８２３）。特に、性能モニタリングモジュール１１５は、モニタリングシステム１４０からデータを受信し、性能パラメータを推定することができる（８２３）。モニタリングシステム１４０は、増幅光ビーム１５３、１６５、エネルギー蓄積アクチュエータ１５４、及びガス供給システム１７０を含む、光源１６０の１つ以上の態様を光源１６０の標準動作中に一定の時間間隔でモニタする。

【0062】

[0072] 制御システム１０５は、推定された性能パラメータをそれらのそれぞれの閾値と比較する（８２４）。例えば、性能パラメータが推定された時点で（８２３）、性能モニタリングモジュール１１５は、メモリ７０８内に記憶されたそれぞれの閾値にアクセスし、各性能パラメータをそのそれぞれの閾値と比較することができる。ある比較では、性能モニタリングモジュール１１５は、各性能パラメータがそのそれぞれの閾値よりも大きいかどうかを判定する。他の比較では、性能モニタリングモジュール１１５は、各性能パラメータがそのそれぞれの閾値よりも小さいかどうかを判定することができる。更に他の比較では、性能モニタリングモジュール１１５は、性能パラメータの１つ以上がそれらのそれぞれの閾値よりも大きいかどうか、また、性能パラメータの１つ以上がそれらのそれぞれの閾値よりも小さいかどうかを判定することができる。

【0063】

[0073] 制御システム１０５は、ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを８２４での比較に基づいて判定する（８２５）。例えば、いくつかの実施態様では、性能モニタリングモジュール１１５は、性能パラメータの１つ（及び１つのみ）がその閾値よりも大きくない場合、ガス回収設定を調整する必要があると判定する。他の実施態様では、性能モニタリングモジュール１１５は、性能パラメータの全てがそれらのそれぞれの閾値よりも大きくない場合、ガス回収設定を調整する必要があると判定することができる。次に、８２５においてガス回収設定を調整する必要があると判定された場合、制御システム１０５は、ガス回収設定を調整する（８２６）。例えば、性能モニタリングモジュール１１５は、ガス回収設定を上下の何れかに許容値の範囲内で段階的に変更し、次いで、次のガス回収方式が実施された（８２１）ときにガス回収モジュール１１０がガス回収設定にアクセスできるように、新たなガス回収設定をメモリ７０８内に保存することができる。

【0064】

[0074] 手順８２０におけるステップ８２３、８２４、８２５、８２６（性能モニタリングステップと称される）は、性能モニタリングモジュール１１５によって繰り返し、又はガス放電チャンバ１５０の標準動作モード中の一定秒数若しくは分数ごとに一度などの周期間隔で、実施される。一実施態様では、性能モニタリングステップは、標準動作中に２時間ごとに実施される。ガス回収設定の値（図１０に示すｍＣＰなど）は、標準動作中に何度も更新される可能性がある。この値は、次のガス回収方式が実施されるときにガス回収モジュール１１０によってメモリ７０８からアクセスされるｍＣＰの現在値である。手順８２０は、調整が行われた８２６後、ガス再充填及び／又はガス回収方式の開始を示す指令が受信されたとき８２１に性能モニタリングステップ８２３、８２４、８２５、８２６を終了すること（及びガス回収設定の更なる調整を停止すること）を更に含むことができる（８２２）。その上、ガス回収モジュール１１０は、ガス供給システム１７０を有効にし、ガス供給システム１７０が（再充填モジュール７１３の制御下で）ガス再充填を完了した後に、ガス供給システム１７０にガス回収方式を実施させる。

【0065】

[0075] 図９は、推定された性能パラメータがエネルギーＥ１５０（ＰＰ１）及びエネルギー変動予測子ｄＥ／ｄＶ（ＰＰ２）であり、ガス回収設定がガス放電チャンバ１５０内の圧力の下限（ｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓ又はｍＣＰ）である例を示す。ステップ８２３において、性能モニタリングモジュール１１５は、性能パラメータＰＰ１（Ｅ１５０）及びＰＰ２（ｄＥ／ｄＶ）を推定しており、これらは、更なる分析のためにステップ８２４に転送される９３０。上述のように、ステップ８２４において、性能モニタリングモジュール１１５は、推定された性能パラメータをそれらのそれぞれの閾値と比較する。この例では、Ｅ１５０（ＰＰ１）の値は、その閾値Ｔ１と比較され、ｄＥ／ｄＶ（ＰＰ２）の値は、その閾値Ｔ２と比較される。次いで、ステップ８２５において、性能モニタリングモジュール１１５は、ガス回収設定ｍＣＰを調整する必要があるかどうかを判定し、上述したように、この判定を次のステップ８２６に転送する９３５。

【0066】

[0076] 以下のように、４つの可能な比較状態９３１－１、９３１－２、９３１－３、９３１－４が可能である。第１の比較状態９３１－１では、Ｅ１５０は、その閾値Ｔ１よりも大きく、ｄＥ／ｄＶは、その閾値Ｔ２よりも大きい。性能モニタリングモジュール１１５は、８２４において状態９３１－１が真であると判定した場合、８２５においてガス回収設定ｍＣＰを調整する必要がない９３２－１と判定する。

【0067】

[0077] 第２の比較状態９３１－２では、Ｅ１５０は、その閾値Ｔ１よりも大きくなく、ｄＥ／ｄＶは、その閾値Ｔ２よりも大きくない。８２４において状態９３１－２が真であると性能モニタリングモジュール１１５が判定した場合、ガス回収設定ｍＣＰを調整する必要がない９３２－２と判定し、また、８２５において警告を発するべきであると判定する。警告は、（性能パラメータの両方が許容レベルにないことによって示すような）光源１６０の劣悪な実施態様に対処するために標準動作中に制御システム１０５の他のコンポーネントによって１つ以上の改善策が必要であり得ることを示す。

【0068】

[0078] 第３の比較状態９３１－３では、Ｅ１５０は、その閾値Ｔ１よりも大きく、ｄＥ／ｄＶは、その閾値Ｔ２よりも大きくない。性能モニタリングモジュール１１５は、８２４において状態９３１－３が真であると判定した場合、８２５において値を段階的に増加させることによってガス回収設定ｍＣＰを調整する必要がある９３２－３と判定する。例えば、ｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓと称される、ガス放電チャンバ１５０内（又は光源１６０内の１つ以上のガス放電チャンバ内）の最小圧力は、増加によって値が最大値と最小値との間の値の許容範囲内に維持される場合、５キロパスカル（ｋｐａ）の増分だけ増加させることができる。他の実施態様では、段階的な増加は、１０ｋｐａ、１５ｋｐａ、又は２０ｋｐａとすることができる。更なる実施態様では、段階的な増加は、任意の適切な値に構成可能及び修正可能とすることができる。図２Ａ及び図２Ｂを参照して上述したように、この特定の状態９３１－３では、Ｅ１５０が値の許容範囲内に収まるとしても、ｄＥ／ｄＶが低すぎる。したがって、ｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓは、ｄＥ／ｄＶも値の許容範囲内に収まる（及び状態が９３１－１に戻る）まで増加させる必要がある。

【0069】

[0079] 第４の比較状態９３１－４では、Ｅ１５０は、その閾値Ｔ１よりも大きくなく、ｄＥ／ｄＶは、その閾値Ｔ２よりも大きい。性能モニタリングモジュール１１５は、８２４において状態９３１－４が真であると判定した場合、８２５において値を段階的に減少させることによってガス回収設定ｍＣＰを調整する必要がある９３２－４と判定する。例えば、ｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓと称される、ガス放電チャンバ１５０内（又は光源１６０内の１つ以上のガス放電チャンバ内）の最小圧力は、減少によってｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓが最大値と最小値との間の値の許容範囲内に維持される場合、５キロパスカル（ｋｐａ）の増分だけ減少させることができる。他の実施態様では、段階的な減少は、１０ｋｐａ、１５ｋｐａ、又は２０ｋｐａとすることができる。更なる実施態様では、段階的な減少は、任意の適切な値に構成可能及び修正可能とすることができる。図２Ａ及び図２Ｂを参照して上述したように、この特定の状態９３１－４では、ｄＥ／ｄＶが値の許容範囲内に収まるとしても、Ｅ１５０が低すぎる。したがって、ｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓは、Ｅ１５０も値の許容範囲内に収まる（及び状態が９３１－１に戻る）まで減少させる必要がある。

【0070】

[0080] 図１０は、性能パラメータＰＰ１がＥ１５０であり、性能パラメータＰＰ２がｄＥ／ｄＶであり、ガス回収設定がｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓである、図９を参照して述べた例の一セットのグラフ１０３６、１０３７、１０３８、１０３９を示す。グラフ１０３６は、ガス放電チャンバ１５０の３つの別個の標準動作１０３４ａ、１０３４ｂ、１０３４ｃ中のＥ１５０（ＰＰ１）及びＥ１５０の閾値（Ｔ１）対時間を示し、グラフ１０３７は、ガス放電チャンバ１５０の同じ別個の標準動作１０３４ａ、１０３４ｂ、１０３４ｃ中のｄＥ／ｄＶ（ＰＰ２）及びｄＥ／ｄＶの閾値（Ｔ２）対時間を示し、グラフ１０３８は、同じ別個の標準動作１０３４ａ、１０３４ｂ、１０３４ｃ中のガス放電チャンバ１５０内の圧力ＣＰを示し、グラフ１０３９は、同じ別個の標準動作１０３４ａ、１０３４ｂ、１０３４ｃ中のガス放電チャンバ１５０に対するガス回収設定ｍｉｎＣｈａｍｂｅｒＰｒｅｓを示す。これらのグラフに示す時間窓では、標準動作１０３４ａの後に再充填１０３５ｄが続き、標準動作１０３４ｂの後に再充填１０３５ｅが続く。性能パラメータＥ１５０及びｄＥ／ｄＶの値は、この目的で、再充填中に又は各再充填の後に続くガス回収方式中には追跡されない。各グラフの縦軸は異なるものとすることができる。

【0071】

[0081] 標準動作１０３４ａ中に、グラフ１０３６に示すように、時間κ１まで、Ｅ１５０（ＰＰ１）は、概して、その閾値Ｔ１未満で動作しており、その一方で、ｄＥ／ｄＶ（ＰＰ２）は、その閾値Ｔ２を上回って動作している。その上、ガス放電チャンバ１５０内の圧力ＣＰは、ガス回収設定ｍＣＰの現在値の近傍にある、２５５ｋｐａである。性能モニタリングモジュール１１５は、光源１６０が第４の比較状態９３１－４で動作していると判定する。したがって、時間κ１では、性能モニタリングモジュール１１５は、ｍＣＰの値を増分δ１だけ低減する（第４の調整９３２－４）。例えば、ｍＣＰの値は、２５５ｋｐａから２５０ｋｐａに低減することができ、したがって、増分δ１は５ｋｐａである。再充填１０３５ｄが時間κ２で実施される。そして、ガス回収方式中（時間κ２と時間κ３との間）に、ガス放電チャンバ１５０内の圧力ＣＰを圧力限界（ｍＣＰ）まで良好に減少させる。その上、Ｅ１５０は、時間κ３後に改善したが、標準動作１０３４ｂ中には依然としてその閾値Ｔ１未満であり、したがって、光源１６０は依然として第４の比較状態９３１－４で動作している。よって、時間κ４では、性能モニタリングモジュール１１５は、ｍＣＰの値を増分δ２だけ低減する（第４の調整９３２－４）。例えば、ｍＣＰの値は、２５０ｋｐａから２４５ｋｐａに低減することができ、したがって、増分δ２は５ｋｐａである。第２の再充填１０３５ｅがκ５で実施される。第２の再充填１０３５ｅ後に、Ｅ１５０は、改善しており、ここでその閾値Ｔ１よりも大きく、ｄＥ／ｄＶは依然としてその閾値Ｔ２を上回っている。そして、ガス回収方式中（時間κ５と時間κ６との間）に、ガス放電チャンバ１５０内の圧力ＣＰを圧力限界（ｍＣＰ）のより近傍まで良好に減少させる。したがって、性能モニタリングモジュール１１５は、光源１６０が第１の比較状態９３１－１で動作しており、ｍＣＰの値を調整する措置を講じる必要がない（第１の調整９３２－１）と判定する。

【0072】

[0082] 実際には、図１０に示す再充填１０３５ｄ及び１０３５ｅなどの再充填は、例えば、数日ごとに（又は月に一度）行われる。

【0073】

[0083] 実施態様及び／又は実施形態について、以下の条項を使用して更に説明することができる。
１．光源内のガス放電チャンバに関連するガス制御装置であって、
ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定するように構成されたモニタリングシステムと、
モニタリングシステム及びガス放電チャンバと通信する制御システムであって、ガス放電チャンバの標準動作モード中に、及び、ガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較し、ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを比較に基づいて判定し、判定に基づいてガス回収設定の値を調整する、ように構成された、制御システムと、
を含む、ガス制御装置。
２．ガス回収方式中に少なくとも１つのガス回収設定に従って及び制御システムの制御下でガス混合物の１種以上のガス成分をガス放電チャンバに対して注入及び／又は除去するように構成されたガス供給システムを更に含む、条項１に記載のガス制御装置。
３．制御システムは、ガス放電チャンバの標準動作中に、及び、ガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、ガス回収設定の調整値を保存するように構成される、条項１に記載のガス制御装置。
４．制御システムは、次のガス回収方式を実施するときに、ガス回収設定の最新の調整値にアクセスする、条項１に記載のガス制御装置。
５．ガス回収設定は、ガス特性の極端な動作値である、条項１に記載のガス制御装置。
６．ガス回収設定は、ガス放電チャンバ内の圧力の極値である、条項１に記載のガス制御装置。
７．ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定するように構成されたモニタリングシステムは、ガス放電チャンバから出力される光ビームのエネルギー、ガス放電チャンバのエネルギー源アクチュエータのエネルギー変動予測子、ガス放電チャンバから出力される光ビームのスペクトルフィーチャ、エネルギー源アクチュエータを介してガス放電チャンバに供給されるエネルギー、及び、アーク放電リスクの感度、のうちの１つ以上を推定するモニタリングシステムを含む、条項１に記載のガス制御装置。
８．判定に基づいてガス回収設定の値を調整するように構成された制御システムは、最大極値と最小極値との間で増分量だけガス回収設定の値を調整することを含む、条項１に記載のガス制御装置。
９．推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較するように構成された制御システムは、各性能パラメータがそのそれぞれの閾値を超えているかどうかを判定することを含み、性能パラメータは、そのそれぞれの閾値を超えている場合には許容値にある、条項１に記載のガス制御装置。
１０．ガス放電チャンバの標準動作中に、及び、ガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、モニタリングシステムは、ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを周期間隔で推定する、条項１に記載のガス制御装置。
１１．制御システムは、１つ以上の性能パラメータがモニタリングシステムによって推定される度に、推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較し、ガス回収設定を調整すべきかどうかを比較に基づいて判定し、判定に基づいてガス回収設定の値を調整する、ように構成される、条項１０に記載のガス制御装置。
１２．制御システムは更に、ガス回収方式の開始を示す指令が受信されたときにガス回収設定の値の調整を停止するように構成される、条項１に記載のガス制御装置。
１３．制御システムは、ガス放電チャンバへのガス再充填を指示した後にガス回収方式を実施するように構成される、条項１に記載のガス制御装置。
１４．モニタリングシステムは、主発振器ガス放電チャンバとパワー増幅器ガス放電チャンバとを含む２ステージ光源の少なくとも１つのガス放電チャンバをモニタするように構成される、条項１に記載のガス制御装置。
１５．制御システムは、主発振器ガス放電チャンバ及びパワー増幅器ガス放電チャンバと通信し、ガス回収設定は、パワー増幅器ガス放電チャンバに関する、条項１４に記載のガス制御装置。
１６．ガス放電チャンバは、光源のガス放電ステージ内に実装され、ガス放電ステージは、ガス混合物にエネルギーが与えられたときにガス放電チャンバ内のガス混合物中で生じる反転分布から増幅光ビームを生成する、条項１に記載のガス制御装置。
１７．ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定するように構成されたモニタリングシステムは、ガス放電チャンバの性能に関する１つ以上の態様を測定し、測定された態様を分析するモニタリングシステムを含む、条項１に記載のガス制御装置。
１８．ガス放電光源内のガス放電チャンバのガス混合物を制御するための方法であって、
ガス放電チャンバの標準動作中に、及び、ガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、
ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定することと、
推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較することと、
ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを比較に基づいて判定することと、
判定に基づいてガス回収設定の値を調整することと、
を含む、方法。
１９．ガス放電チャンバの標準動作中に、及びガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、ガス回収設定の調整値を保存することを更に含む、条項１８に記載の方法。
２０．ガス回収設定の最新の調整値を次のガス回収方式に提供することを更に含む、条項１８に記載の方法。
２１．ガス回収設定は、ガス特性の極端な動作値である、条項１８に記載の方法。
２２．ガス回収設定は、ガス放電チャンバ内の圧力の極値である、条項１８に記載の方法。
２３．ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定することは、ガス放電チャンバから出力される光ビームのエネルギー、ガス放電チャンバのエネルギー源アクチュエータのエネルギー変動予測子、ガス放電チャンバから出力される光ビームのスペクトルフィーチャ、エネルギー源アクチュエータを介してガス放電チャンバに供給されるエネルギー、及び、アーク放電リスクの感度、のうちの１つ以上を推定することを含む、条項１８に記載の方法。
２４．比較に基づいてガス回収設定を調整する必要があるかどうかを判定することは、推定された１つ以上の性能パラメータの全てがそれらのそれぞれの閾値を超えている場合にはガス回収設定を調整する必要がないと判定することを含む、条項１８に記載の方法。
２５．性能パラメータは、その閾値よりも大きい場合にはその閾値を超えている、条項２４に記載の方法。
２６．比較に基づいてガス回収設定を調整する必要があるかどうかを判定することは、推定された１つ以上の性能パラメータの１つがそのそれぞれの閾値を超えておらず、推定された１つ以上の性能パラメータの残りがそれらのそれぞれの閾値を超えている場合にはガス回収設定を調整する必要があると判定することを含む、条項２４に記載の方法。
２７．比較に基づいてガス回収設定を調整する必要があるかどうかを判定することは、推定された１つ以上の性能パラメータの全てがそれらのそれぞれの閾値を超えていない場合にはガス回収設定を調整する必要がないと判定することを含む、条項２４に記載の方法。
２８．判定に基づいてガス回収設定の値を調整することは、最大極値と最小極値との間で増分量だけガス回収設定の値を調整することを含む、条項１８に記載の方法。
２９．推定された１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較することは、各性能パラメータがそのそれぞれの閾値を超えているかどうかを判定することを含み、性能パラメータは、そのそれぞれの閾値を超えている場合には許容値にある、条項１８に記載の方法。
３０．ガス放電チャンバの標準動作中に、及び、ガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータは、周期間隔で推定される、条項１８に記載の方法。
３１．１つ以上の性能パラメータが推定される度に、推定された１つ以上の性能パラメータがそれぞれの閾値と比較され、ガス回収設定を調整すべきどうかが比較に基づいて判定され、ガス回収設定の値が判定に基づいて調整されることを更に含む、条項３０に記載の方法。
３２．ガス回収方式の開始を示す指令が受信されたときにガス回収設定の値の調整を停止することを更に含む、条項１８に記載の方法。
３３．ガス放電チャンバへのガス再充填が実施された後にガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施することを更に含む、条項１８に記載の方法。
３４．ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータを推定することは、ガス放電チャンバの性能に関する１つ以上の態様を測定し、測定された態様を分析することを含む、条項１８に記載の方法。
３５．ガス放電チャンバに関連するガス制御装置であって、
ガス制御装置は、ガス放電チャンバと通信する制御システムを含み、
制御システムは、
ガス放電チャンバの標準動作モード中に、及び、ガス回収設定を使用するガス回収方式をガス放電チャンバに対して実施する合間に、ガス放電チャンバの１つ以上の性能パラメータをそれぞれの閾値と比較し、ガス回収設定を調整する必要があるかどうかを比較に基づいて判定し、判定に基づいてガス回収設定の値を調整する、ように構成された性能モニタリングモジュールと、
ガス回収方式を実施するように構成されたガス回収モジュールであって、現在のガス回収方式を実施するときに性能モニタリングモジュールからガス回収設定の最新の調整値にアクセスするように構成された、ガス回収モジュールと、
を含む、ガス制御装置。

【0074】

[0084] 他の実施態様も以下の特許請求の範囲内である。

【図1】