特表 2024-537016 半導体プロセス装置及びそのウェハ支持構造

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-10-10

(54)【発明の名称】半導体プロセス装置及びそのウェハ支持構造

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/677 20060101AFI20241003BHJP

   B65G 49/07 20060101ALI20241003BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 A

B65G49/07 F

【審査請求】有

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2024518149

(86)(22)【出願日】2022-09-26

(85)【翻訳文提出日】2024-03-21

(86)【国際出願番号】 CN2022121226

(87)【国際公開番号】W WO2023051437

(87)【国際公開日】2023-04-06

(31)【優先権主張番号】202111151107.2

(32)【優先日】2021-09-29

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】510182294

【氏名又は名称】北京北方華創微電子装備有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＢＥＩＪＩＮＧ ＮＡＵＲＡ ＭＩＣＲＯＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣＳ ＥＱＵＩＰＭＥＮＴ ＣＯ．， ＬＴＤ．

【住所又は居所原語表記】ＮＯ．８ Ｗｅｎｃｈａｎｇ Ａｖｅｎｕｅ Ｂｅｉｊｉｎｇ Ｅｃｏｎｏｍｉｃ－Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｃａｌ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ａｒｅａ， Ｂｅｉｊｉｎｇ １００１７６， Ｃｈｉｎａ

(74)【代理人】

【識別番号】110001771

【氏名又は名称】弁理士法人虎ノ門知的財産事務所

(72)【発明者】

【氏名】フゥァン ショウリン

(72)【発明者】

【氏名】ヂャン ジュン

(72)【発明者】

【氏名】ウェイ ジンフォン

(72)【発明者】

【氏名】シェァ チン

【テーマコード（参考）】

5F131

【Ｆターム（参考）】

5F131AA02

5F131BA01

5F131BA37

5F131CA09

5F131CA31

5F131DA33

5F131DA42

5F131DB06

5F131DB62

5F131DB76

5F131DB81

(57)【要約】

本願は、半導体プロセス装置及びそのウェハ支持構造を提供する。該ウェハ支持構造は、昇降ユニットと、支持ユニットと、カップリングユニットと、調整ユニットとを含み、昇降ユニットは昇降軸を含み、昇降軸の頂面に取付部が設けられ、支持ユニットの第１端に取付部に外嵌される取付孔が設けられ、取付孔の内周壁と取付部の外周壁が間隔を置いて設けられて調整空間を形成し、カップリングユニットは、取付部の外周に外嵌され、調整空間内に位置し、調整ユニットは支持ユニットに接続され、調整ユニットの一部は、調整空間内に位置し、カップリングユニットを押して変形させ、これにより、取付部と支持ユニットをロックし、そして、調整ユニットは、取付孔の円周方向における異なる位置でのカップリングユニットの押される程度を調整することができるように設けられ、これにより、支持ユニットの水平度及び／又は中線角度を調整する。本願は支持ユニットに対する水平の調整を迅速に実現することができ、それにより、着脱やメンテナンスのコストが低減する。
【選択図】図１Ａ

【特許請求の範囲】

【請求項1】

半導体プロセス装置の着脱チャンバ内に設けられ、ウェハを支持し、前記ウェハの昇降を駆動するためのウェハ支持構造であって、
昇降ユニットと、支持ユニットと、カップリングユニットと、調整ユニットと、を含み、
前記昇降ユニットは、昇降軸を含み、前記昇降軸の頂面に取付部が設けられ、前記支持ユニットの第１端に前記取付部に外嵌される取付孔が設けられ、前記取付孔の内周壁と前記取付部の外周壁が間隔を置いて設けられて調整空間を形成し、前記支持ユニットの第２端は、前記昇降軸の径方向に沿って延設され、
前記カップリングユニットは、前記取付部の外周に外嵌され、前記調整空間内に位置し、
前記調整ユニットは、前記支持ユニットに接続され、前記調整ユニットの一部は、前記調整空間内に位置し、前記カップリングユニットを押して変形させ、これにより、前記取付部と前記支持ユニットをロックし、そして、前記調整ユニットは、前記取付孔の円周方向における異なる位置での前記カップリングユニットの押される程度を調整できるように設けられ、これにより、前記支持ユニットの水平度及び／又は中線角度を調整することを特徴とするウェハ支持構造。

【請求項2】

前記カップリングユニットは、互いに嵌合する内ジョイント及び外ジョイントを含み、前記調整ユニットは、前記内ジョイントを押すことにより前記内ジョイント及び前記外ジョイントを互いに押して変形させ、前記内ジョイントは、押される時に前記外ジョイントに対して揺動することができるように設けられ、前記調整ユニットが前記内ジョイントに当接する時、前記内ジョイント及び前記外ジョイントは互いに押して変形することを特徴とする請求項１に記載のウェハ支持構造。

【請求項3】

前記内ジョイントの外周壁は、その周方向に沿って周回する第１斜面を含み、前記第１斜面と前記内ジョイントの軸線との間の間隔は、上から下へ漸減し、前記外ジョイントの内周壁は、その周方向に沿って周回する第２斜面を含み、前記第２斜面は前記第１斜面に係合され、このようにして、前記内ジョイントは押される時に前記外ジョイントに対して揺動することができる、ことを特徴とする請求項２に記載のウェハ支持構造。

【請求項4】

前記第２斜面と前記第１斜面は線接触である、ことを特徴とする請求項３に記載のウェハ支持構造。

【請求項5】

前記第２斜面は円弧状凸面であり、前記第１斜面は平面である、ことを特徴とする請求項４に記載のウェハ支持構造。

【請求項6】

前記外ジョイントの内周壁は、その周方向に沿って周回する第３斜面をさらに含み、前記第３斜面は、前記第２斜面の上方に位置し、前記第２斜面に接続されて連続的な表面を形成し、
前記第３斜面と前記外ジョイントの軸線との間の間隔は、上から下へ漸減し、前記内ジョイント及び外ジョイントが元の状態にある時、前記第３斜面は前記第１斜面と接触しない、ことを特徴とする請求項５に記載のウェハ支持構造。

【請求項7】

前記調整ユニットは、押さえスリーブと、調整部材とを含み、前記押さえスリーブは、前記取付部に外嵌され、前記押さえスリーブの底部は、前記調整空間内に延びて、前記内ジョイントを押すことに用いられ、前記押さえスリーブの頂部の外周に環状ボスを有し、前記環状ボスは、前記支持ユニットの上方に位置し、
複数の前記調整部材は、前記取付部の周方向に沿って前記取付部の周囲に分布し、各前記調整部材の底端は、上から下へ前記環状ボスを貫通し、前記支持ユニットに接続され、各前記調整部材と前記支持ユニットの垂直方向における相対位置を選択的に調整することにより、前記取付孔の円周方向における異なる位置での前記カップリングユニットの押される程度を調整する、ことを特徴とする請求項２～６のいずれか１項に記載のウェハ支持構造。

【請求項8】

前記調整部材は、螺着ロッドと、押当ブロックとを含み、前記押当ブロックは、前記環状ボスに押し当てられ、前記螺着ロッドの一端は、前記押当ブロックに一体に接続され、前記螺着ロッドの他端は、上から下へ前記環状ボスを貫通し、前記支持ユニットに螺着される、ことを特徴とする請求項７に記載のウェハ支持構造。

【請求項9】

複数の前記調整部材において、前記支持ユニットの延在方向に少なくとも１つの前記調整部材を有し、前記支持ユニットの延在方向の両側にいずれも少なくとも１つの前記調整部材を有する、ことを特徴とする請求項７に記載のウェハ支持構造。

【請求項10】

前記支持ユニットは、アダプタブロックと、クロスメンバと、ブラケットと含み、前記アダプタブロックに前記取付孔が設けられ、前記クロスメンバの一端は、前記支持ユニットの第１端として用いられ、前記アダプタブロックに固定接続され、前記クロスメンバの他端は、前記昇降軸の径方向に沿って延設され、
前記ブラケットは、前記クロスメンバに設けられ、前記ウェハを支持することに用いられる、ことを特徴とする請求項１に記載のウェハ支持構造。

【請求項11】

真空搬送チャンバと、フロントエンドチャンバと、着脱チャンバとを含み、
前記着脱チャンバは、前記真空搬送チャンバと前記フロントエンドチャンバとの間に設けられ、前記着脱チャンバに請求項１～１０のいずれか１項に記載のウェハ支持構造が設けられることを特徴とする半導体プロセス装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本願は半導体加工技術の分野に関し、具体的には、本願は半導体プロセス装置及びそのウェハ支持構造に関する。

【背景技術】

【0002】

現在、ウェハの搬送システムにおいて、ウェハを冷却し又は搬送するために、支持構造を使用することが多く、このような支持構造は様々な形式を有し、例えば中央クロスメンバ針式、中央クロスメンバブラケット式及びカンチレバークロスメンバブラケット式等である。

【0003】

従来技術において、支持構造は、半導体プロセス装置の着脱チャンバに設けられることが多く、主にフロントエンドチャンバから搬送されたウェハを一時的に預けておいてプロセスを完了したウェハを冷却するためのものである。具体的には、大気ロボットはウェハを支持構造に置き、着脱チャンバで真空引きを行い、次に真空ロボットによってウェハを着脱チャンバからプロセスチャンバに搬送してプロセスを行い、関連するプロセスは原子層堆積プロセス、ドライ洗浄プロセス及びプラズマ補強原子層堆積プロセス等を含む。ウェハはプロセスチャンバ内でプロセスを完了した後、真空ロボットによってウェハをプロセスチャンバから取り出し、その後、真空状態にある着脱チャンバ内の支持構造に搬送してから、支持構造はウェハを駆動して下降させ、ウェハを下方の冷却盤に下降させて冷却し、冷却が完了すると、着脱チャンバは大気状態に復帰し、その後、大気ロボットはウェハを着脱チャンバから搬出する。以上からわかるように、プロセスフロー全体の最前のステップ及び最後のステップでは、支持構造はいずれも重要な役割を果たすが、従来技術において、支持構造の構造設計の問題のため、それ自体の水平度が悪くて調整しにくいという問題があり、ウェハを載置する時にウェハずれ又は損傷の発生という問題を引き起こし、ひいてはプロセスの歩留まりに深刻な影響を与える。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本願は、従来方式の欠点に対し、従来技術に存在している支持構造の水平度が悪くて調整しにくいことによるウェハずれ又は損傷の技術的問題を解決するために、半導体プロセス装置及びそのウェハ支持構造を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0005】

第１態様では、本願の実施例は、半導体プロセス装置の着脱チャンバ内に設けられ、ウェハを支持し、前記ウェハの昇降を駆動するためのウェハ支持構造であって、昇降ユニットと、支持ユニットと、カップリングユニットと、調整ユニットと、を含み、
前記昇降ユニットは、昇降軸を含み、前記昇降軸の頂面に取付部が設けられ、前記支持ユニットの第１端に前記取付部に外嵌される取付孔が設けられ、前記取付孔の内周壁と前記取付部の外周壁が間隔を置いて設けられて調整空間を形成し、前記支持ユニットの第２端は、前記昇降軸の径方向に沿って延設され、
前記カップリングユニットは、前記取付部の外周に外嵌され、前記調整空間内に位置し、
前記調整ユニットは、前記支持ユニットに接続され、前記調整ユニットの一部は、前記調整空間内に位置し、前記カップリングユニットを押して変形させ、これにより、前記取付部と前記支持ユニットをロックし、そして、前記調整ユニットは、前記取付孔の円周方向における異なる位置での前記カップリングユニットの押される程度を調整できるように設けられ、これにより、前記支持ユニットの水平度及び／又は中線角度を調整することを特徴とするウェハ支持構造を提供する。

【0006】

本願の一実施例では、前記カップリングユニットは、互いに嵌合する内ジョイント及び外ジョイントを含み、前記調整ユニットは、前記内ジョイントを押すことにより前記内ジョイント及び前記外ジョイントを互いに押して変形させ、前記内ジョイントは、押される時に前記外ジョイントに対して揺動することができるように設けられる。

【0007】

本願の一実施例では、前記内ジョイントの外周壁は、その周方向に沿って周回する第１斜面を含み、前記第１斜面と前記内ジョイントの軸線との間の間隔は、上から下へ漸減し、前記外ジョイントの内周壁は、その周方向に沿って周回する第２斜面を含み、前記第２斜面は前記第１斜面に係合され、このようにして、前記内ジョイントは押される時に前記外ジョイントに対して揺動することができる。

【0008】

本願の一実施例では、前記第２斜面と前記第１斜面は線接触である。

【0009】

本願の一実施例では、前記第２斜面は円弧状凸面であり、前記第１斜面は平面である。

【0010】

本願の一実施例では、前記外ジョイントの内周壁は、その周方向に沿って周回する第３斜面をさらに含み、前記第３斜面は、前記第２斜面の上方に位置し、前記第２斜面に接続されて連続的な表面を形成し、
前記第３斜面と前記外ジョイントの軸線との間の間隔は、上から下へ漸減し、前記内ジョイント及び外ジョイントが元の状態にある時、前記第３斜面は前記第１斜面と接触しない。

【0011】

本願の一実施例では、前記調整ユニットは、押さえスリーブと、調整部材とを含み、前記押さえスリーブは、前記取付部に外嵌され、前記押さえスリーブの底部は、前記調整空間内に延びて、前記内ジョイントを押すことに用いられ、前記押さえスリーブの頂部の外周に環状ボスを有し、前記環状ボスは、前記支持ユニットの上方に位置し、
複数の前記調整部材は、前記取付部の周方向に沿って前記取付部の周囲に分布し、各前記調整部材の底端は、上から下へ前記環状ボスを貫通し、前記支持ユニットに接続され、各前記調整部材と前記支持ユニットの垂直方向における相対位置を選択的に調整することにより、前記取付孔の円周方向における異なる位置での前記カップリングユニットの押される程度を調整する。

【0012】

本願の一実施例では、前記調整部材は、螺着ロッドと、押当ブロックとを含み、前記押当ブロックは、前記環状ボスに押し当てられ、前記螺着ロッドの一端は、前記押当ブロックに一体に接続され、前記螺着ロッドの他端は、上から下へ前記環状ボスを貫通し、前記支持ユニットに螺着される。

【0013】

本願の一実施例では、複数の前記調整部材において、前記支持ユニットの延在方向に少なくとも１つの前記調整部材を有し、前記支持ユニットの延在方向の両側にいずれも少なくとも１つの前記調整部材を有する。

【0014】

本願の一実施例では、前記支持ユニットは、アダプタブロックと、クロスメンバと、ブラケットと含み、前記アダプタブロックに前記取付孔が設けられ、前記クロスメンバの一端は、前記支持ユニットの第１端として用いられ、前記アダプタブロックに固定接続され、前記クロスメンバの他端は、前記昇降軸の径方向に沿って延設され、
前記ブラケットは、前記クロスメンバに設けられ、前記ウェハを支持することに用いられる。

【0015】

第２態様では、本願の実施例は、真空搬送チャンバと、フロントエンドチャンバと、着脱チャンバとを含み、前記着脱チャンバは、前記真空搬送チャンバと前記フロントエンドチャンバとの間に設けられ、前記着脱チャンバに第１態様に係るウェハ支持構造が設けられる半導体プロセス装置を提供する。

【発明の効果】

【0016】

本願の実施例に係る技術的解決手段の有益な技術的効果は以下のとおりである。
本願の実施例は支持ユニットの第１端の取付孔を昇降軸の取付部に外嵌することにより、該取付孔の内周壁と取付部の外周壁が間隔を置いて設けられて調整空間を形成し、カップリングユニットは取付部の外周に外嵌され、調整空間内に位置し、及び調整ユニットと支持ユニットを接続し、該調整ユニットの一部は調整空間内に位置し、カップリングユニットを押して変形させ、支持ユニットの姿勢の微調整を実現することができ、これにより上記取付部と支持ユニットをロックし、同時に調整ユニットはカップリングユニットが取付孔の円周方向における異なる位置での押される程度を調整できるように設けられ、支持ユニットの水平度及び／又は中線角度を調整する。本願の実施例は支持ユニットの姿勢に対するレベリングを迅速に実現することができ、これにより、着脱やメンテナンスのコストが大幅に低減される。また、支持ユニットの姿勢レベリングを確保するため、ウェハの搬送中にウェハずれや損傷を発生させるリスクを大幅に低減することができ、これにより、本願の実施例の搬送効率が大幅に向上する。

【0017】

本願の付加的な態様及び利点は以下の説明において部分的に与えられ、これらは以下の説明から明らかになり、又は本願の実践によって了解される。

【0018】

本願の上記及び／又は付加的な態様及び利点は以下の図面を参照して実施例に対する説明から明らかになり且つ理解しやすくなる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1A】図１Ａは本願の実施例に係るウェハ支持構造の構造概略図である。

【図1B】図１Ｂは本願の実施例に係るウェハ支持構造の分解概略図である。

【図2A】図２Ａは本願の実施例に係るカップリングユニットの構造概略図である。

【図2B】図２Ｂは本願の実施例に係るカップリングユニットの断面概略図である。

【図2C】図２Ｃは本願の実施例に係るカップリングユニットの部分断面拡大概略図である。

【図3】図３は本願の実施例に係るウェハ支持構造の部分拡大断面概略図である。

【図4A】図４Ａは本願の実施例に係るウェハ支持構造の第１状態にある場合の部分断面概略図である。

【図4B】図４Ｂは本願の実施例に係るウェハ支持構造の第１状態にある場合の部分平面概略図である。

【図4C】図４Ｃは本願の実施例に係るウェハ支持構造の第２状態にある場合の部分断面概略図である。

【図4D】図４Ｄは本願の実施例に係るウェハ支持構造の第３状態にある場合の断面概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下は、本願について詳細に説明し、本願の実施例の例は図面に示され、終始同一又は類似の符号は、同一又は類似の部材、又は同一又は類似の機能を有する部材を示す。また、本願の特徴を示すことには従来技術の詳細な説明を必要としない場合、その説明を省略する。以下は、図面を参照して説明された実施例は、例示的なものであり、本願を説明することに用いられるだけであり、本願を限定するものと解釈することはできない。

【0021】

当業者であれば理解されるように、特に定義しない限り、ここで使用される全ての用語（技術用語及び科学用語を含む）は、本願の属する分野における当業者の一般的な理解と同じ意味を有する。また、一般的な辞書に定義されているような用語は、従来技術の文脈と同じ意味を持つものとして理解されるべき、ここのように特に定義されていない限り、理想的な意味や本格的な意味で解釈されることはない。

【0022】

以下は、特定の実施例で本願の技術的解決手段及び本願の技術的解決手段が上記技術的課題をどのように解決するかについて詳細に説明する。

【0023】

本願の実施例は、半導体プロセス装置の着脱チャンバ内に設けられ、ウェハを支持し、ウェハの昇降を駆動するためのウェハ支持構造を提供し、例えば、ウェハを着脱チャンバ内の冷却盤に移動して冷却し、図１Ａ及び図１Ｂに示すように、該ウェハ支持構造の構造概略図において、昇降ユニット１と、支持ユニット２と、カップリングユニット３と、調整ユニット４とを含み、昇降ユニット１は、着脱チャンバ（図示せず）内に設けられ、昇降ユニット１は、昇降軸１１を含み、該昇降軸１１の頂面に取付部１４が設けられ、支持ユニット２の第１端２１には、取付部１４に外嵌される取付孔１２が設けられ、該取付孔１２の内周壁と昇降軸１１の外周壁が間隔を置いて設けられて調整空間を形成し、支持ユニット２の第２端２２は昇降軸１１の径方向に沿って延設され、昇降軸１１は支持ユニット２を駆動して垂直方向に沿って昇降させることに用いられ、カップリングユニット３は、昇降軸１１の頂部に位置する取付部１４の外周に外嵌され、調整空間内に位置し、調整ユニット４は、昇降軸１１及び第１端２１の頂部に設けられ、支持ユニット２に接続され、調整ユニット４の一部は、調整空間内に位置し、カップリングユニット３を押してを変形させ、取付部１４と支持ユニット２をロックし、そして、調整ユニット４は、取付孔１２の円周方向における異なる位置でのカップリングユニット３の押される程度を調整できるように設けられ、これにより、支持ユニット２の水平度及び／又は中線角度を調整し、すなわち、支持ユニット２の姿勢を調整し、支持ユニット２をレベリングするようにする。

【0024】

図１Ａ及び図１Ｂに示すように、半導体プロセス装置は原子層堆積、ドライ洗浄及びプラズマ補強原子層堆積等のプロセスを実行するための装置であってもよいが、本願の実施例はこれらに限定されるものではなく、当業者は実際の状況に応じて自ら設定を調整することができる。昇降ユニット１は、着脱チャンバ（図示せず）内に設けられ、冷却盤（図示せず）の片側に位置するようにしてもよく、昇降ユニット１の昇降軸１１は垂直方向に沿って昇降することができる。該昇降軸１１の頂面には、取付部１４が設けられ、支持ユニット２の第１端２１には、取付部１４に外嵌される取付孔１２が設けられ、該取付孔１２の内周壁と昇降軸１１の外周壁が間隔を置いて設けられて調整空間を形成し、例えば、取付孔１２の内周壁は昇降軸１１の外周壁に遊嵌される。支持ユニット２の第２端２２は昇降軸１１の径方向に沿って延設され得て、すなわち、支持ユニット２は冷却盤の上方に横に配置され、支持ユニット２はウェハ１００を支持することに用いられ、そして、支持ユニット２は昇降軸１１の駆動により昇降することができ、ウェハ１００を駆動して下降させて冷却盤に置く。支持ユニット２が冷却盤の直上に延設されるため、中央クロスメンバブラケットを用いて冷却盤の体積を占用することによるウェハの冷却が不均一であるという欠点、及び中央クロスメンバ針式ものが針付きでウェハの歩留まりに影響を与えるという従来技術における問題を回避することができる。カップリングユニット３は取付部１４の外周に外嵌され得て、上記調整空間内に位置するようにしてもよく、カップリングユニット３の内周壁は取付部１４の外周壁に密接して設けられてもよく、カップリングユニット３の外周壁は取付孔１２の内周壁に密接して設けられてもよい。調整ユニット４は、昇降軸１１及び第１端２１の頂部に設けられ、支持ユニット２に接続されてもよい。調整ユニット４の一部、すなわち底部は、調整空間内に位置し、カップリングユニット３を押して変形させることに用いられ、これにより、調整ユニット４、支持ユニット２及び昇降軸１１を同時にロックする。実際に応用する時、調整ユニット４は支持ユニット２に接続されるとともに、取付孔１２の円周方向における異なる位置でのカップリングユニット３の押される程度を調整することができ、これにより支持ユニット２の姿勢を調整し、例えば、支持ユニット２の延在方向を水平方向に調整し、及び支持ユニット２の中線角度、すなわち支持ユニット２の中線の昇降軸１１の周方向での角度を調整する。

【0025】

本願の実施例は、支持ユニット２の第１端２１の取付孔１２を昇降軸１１の取付部１４に外嵌し、該取付孔１２の内周壁と取付部１４の外周壁が間隔を置いて設けられて調整空間を形成し、カップリングユニット３は、取付部１４の外周に外嵌され、調整空間内に位置し、及び、調整ユニット４を支持ユニット２に接続し、該調整ユニット４の一部は調整空間内に位置し、カップリングユニット３を押して変形させることにより、支持ユニット２の姿勢の微調整を実現することができ、これにより上記取付部１４と支持ユニット２をロックし、同時に、調整ユニット４は、取付孔１２の円周方向における異なる位置でのカップリングユニット３の押される程度を調整できるように設けられ、これにより、支持ユニット２の水平度及び／又は中線角度を調整する。本願の実施例は、支持ユニットの姿勢に対するレベリングを迅速に実現することができ、それにより、着脱やメンテナンスのコストが大幅に低減される。また、支持ユニットの姿勢レベリングを確保するため、ウェハの搬送中にウェハずれや損傷を発生させるリスクを大幅に低減することができ、それにより、本願の実施例の搬送効率が大幅に向上する。

【0026】

なお、本願の実施例はウェハ支持構造の具体的な応用シーンを限定せず、例えば、ウェハ支持構造は必ずしも着脱チャンバ内に設けられる必要がなく、他の位置に設けられてもよい。したがって、本願の実施例はこれらに限定されるものではなく、当業者は実際の状況に応じて自ら設定を調整することができる。

【0027】

本願の一実施例では、図１Ａ～図２Ｃに示すように、カップリングユニット３は、互いに嵌合する内ジョイント３１及び外ジョイント３２を含み、調整ユニット４は、内ジョイント３１を押すことにより内ジョイント３１及び外ジョイント３２を互いに押して変形させ、かつ、内ジョイント３１は、押される時に外ジョイント３２に対してその軸線を中心として回転できるように設けられる。

【0028】

図１Ａ～図２Ｃに示すように、内ジョイント３１及び外ジョイント３２はいずれもスリーブ構造を採用することができ、かつ、周壁に軸方向に沿って延びる切り欠き３３が開けられ、内ジョイント３１は外ジョイント３２の内部に嵌合され、平時の状態で内ジョイント３１の頂部は外ジョイント３２の頂部から露出する。実際に応用する時、調整ユニット４が当接して下降中で、内ジョイント３１及び外ジョイント３２は切り欠き３３の存在により同時に変形することができ、すなわち、外ジョイント３２の外径が大きくなり、内ジョイント３１の外径が縮小し、これにより、支持ユニット２と取付部１４をロックすることを実現する。さらに、内ジョイント３１は外ジョイント３２内で揺動することができ、すなわち、内ジョイント３１の軸線は外ジョイント３２の軸線に対して任意の方向に傾斜することができ、図２Ａ及び図２Ｂに示すように、カップリングユニット３は上記設計を採用するため、支持ユニット２は取付部１４に対して揺動することができ、それにより、支持ユニット２の水平度に対する調整を実現する。上記設計を採用することにより、本願の実施例の構造が簡単であるだけでなく、支持ユニット２の調整が容易になり、これにより、着脱やメンテナンスの効率が大幅に向上する。

【0029】

なお、本願の実施例は、カップリングユニット３の具体的な実施形態を限定せず、例えば、内ジョイント３１は外ジョイント３２の底部に嵌合され得て、調整ユニット４は外ジョイント３２を押すことに用いられる。したがって、本願の実施例はこれらに限定されるものではなく、当業者は実際の状況に応じて自ら設定を調整することができる。

【0030】

本願の一実施例では、図１Ａ～図２Ｃに示すように、内ジョイント３１の内周壁は取付部１４の外周壁に密接して設けられ、外ジョイント３２の外周壁は取付孔１２の内周壁に密接して設けられ、任意選択的に、内ジョイント３１の外周壁は、その周方向に沿って周回する第１斜面３１１を含み、該第１斜面３１１と内ジョイント３１の軸線との間の間隔は、上から下へ漸減し、外ジョイント３２の内周壁は、その周方向に沿って周回する第２斜面を含み、該第２斜面は第１斜面３１１に係合され、このようにして、内ジョイント３１は押される時に外ジョイント３２に対して揺動することができる。

【0031】

図１Ａ～図２Ｃに示すように、内ジョイント３１の内周壁全体は、円柱状構造であり、取付部１４に外嵌されることに用いられ、内ジョイント３１の内周壁は取付部１４の外周壁に密接して設けられる。内ジョイント３１の頂部は円柱状構造であり、底部は逆円錐状円錐台構造であり、すなわち、内ジョイント３１の外周壁に第１斜面３１１が形成され、該第１斜面３１１は、内ジョイント３１の押し下げ過程において外ジョイント３２を押すことに用いられ、このようにして、両者はいずれも変形する。外ジョイント３２は全体的に円柱状構造を採用し、外ジョイント３２は取付孔１２内に嵌合され、このようにして、外ジョイント３２の外周壁が取付孔１２の内周壁に密接して設けられる。外ジョイント３２の内周壁は、その周方向に沿って周回する第２斜面を含み、該第２斜面は例えば第３斜面３２１を含み、該第３斜面３２１は外ジョイント３２の内周壁の頂部に位置し、このようにして、外ジョイント３２の内周壁の頂部が漏斗状であり、内ジョイント３１の外斜面３１１に係合して案内し、内ジョイント３１を外ジョイント３２内に導入することに用いられる。

【0032】

本願の一実施例では、上記第２斜面と第１斜面３１１は線接触である。上記設計を採用することにより、内ジョイント３１の外周壁と外ジョイント３２の内周壁は線接触であり、両者間の抵抗を減少させ、それにより、内ジョイント３１が外ジョイント３２に対して揺動することが実現され、両者の変形量を向上させることができ、それにより、適用性及び適用範囲が向上する。

【0033】

上記第２斜面と第１斜面３１１との線接触を実現するために、第１斜面３１１は、例えば平面である。

【0034】

上記第２斜面と第１斜面３１１との線接触を実現するために、上記第２斜面は、様々な構造を有することができ、例えば、図１Ａ～図２Ｃに示すように、上記第２斜面は円弧状凸面３２２を含み、円弧状凸面３２２は環状面であり、すなわち、外ジョイント３２の内周壁の周方向に沿って延設され、円弧状凸面３２２は内（すなわち、外ジョイント３２の軸線に近接する）へ突起する弧面構造であり、円弧状凸面３２２は内ジョイント３１の外周壁と線接触する。

【0035】

本願の一実施例では、外ジョイント３２の内周壁は、上記第２斜面を含み、それ以外、その周方向に沿って周回する第３斜面３２１をさらに含み、該第３斜面３２１は、上記第２斜面（すなわち、円弧状凸面３２２）の上方に位置し、該第２斜面（すなわち、円弧状凸面３２２）に接続されて連続的な表面を形成し、第３斜面と外ジョイント３２の軸線との間の間隔は、上から下へ漸減し、かつ、内ジョイント３１及び外ジョイント３２が元の状態にある時、上記第３斜面３２１は第１斜面３１１と接触しない。

【0036】

具体的には、第３斜面３２１は外ジョイント３２の内周壁の頂部に位置し、このようして、外ジョイント３２の内周壁の頂部が漏斗状であり、内ジョイント３１の第１斜面３１１に係合して案内し、内ジョイント３１を外ジョイント３２内に導入することに用いられる。第３斜面３２１と円弧状凸面３２２は、いずれも環状面であり、すなわち、外ジョイント３２の内周壁の周方向に沿って延設され、円弧状凸面３２２は、第３斜面３２１の底部に位置し、第３斜面３２１に接続される。具体的には、第３斜面３２１と円弧状凸面３２２は、いずれも外ジョイント３２の内周壁の周方向に沿って延設され、図２Ｃに示すように、円弧状凸面３２２の上端は、第３斜面３２１の底端に接続され、かつ、両者の接続箇所は滑らかに移行し、すなわち、第３斜面３２１は内周壁の頂部に位置し、円弧状凸面３２２は第３斜面３２１の底部に位置する。円弧状凸面３２２の底部の内周壁は、外ジョイント３２の軸方向に沿って延設される。第３斜面３２１と軸方向に延在する内周壁との間には、円弧形である円弧状凸面３２２が接続され、すなわち、円弧状凸面３２２は第３斜面３２１の底部に位置し、かつ、円弧状凸面３２２は外ジョイント３２の軸線へ突起する弧面構造である。実際に応用する時、内ジョイント３１の第１斜面３１１は円弧状凸面３２２と接触し、これにより両者の間の線接触を実現し、それにより、内ジョイント３１は外ジョイント３２に対して揺動することを実現することができる。上記設計を採用することにより、本願の実施例は簡単な構造を採用して内ジョイント３１が外ジョイント３２に対して揺動することを実現することができ、応用やメンテナンスのコストを大幅に低減することができるだけでなく、故障率を低減して耐用年数を延長することができる。

【0037】

なお、本願の実施例は、内ジョイント３１の外周壁及び外ジョイント３２の内周壁の具体的な構造を限定せず、例えば、内ジョイント３１の外周壁全体はいずれも斜面構造であり、外ジョイント３２の内周壁全体はいずれも斜面構造である。したがって、本願の実施例はこれらに限定されるものではなく、当業者は実際の状況に応じて自ら設定を調整することができる。

【0038】

なお、本願の実施例は、第２斜面及び第１斜面の具体的な構造を限定せず、例えば、第２斜面は、内周壁に形成された凸リングであってもよく、該凸リングの断面形状は半円状構造であり、同様に、第１斜面との間の線接触を実現することができる。また、第１斜面は、平面以外の他の構造、例えば円弧状凸面であってもよい。したがって、本願の実施例はこれらに限定されるものではなく、当業者は実際の状況に応じて自ら設定を調整することができる。

【0039】

本願の一実施例では、図１Ａ、図１Ｂ及び図３に示すように、調整ユニット４は、押さえスリーブ４１と、調整部材４２とを含み、押さえスリーブ４１は、取付部１４に外嵌され、押さえスリーブ４１の底部は、調整空間内に延びて、内ジョイント３１を押すことに用いられ、押さえスリーブ４１の頂部の外周に環状ボス４３を有し、該環状ボス４３は、支持ユニット２の上方に位置し、複数の調整部材４２は、取付部１４の周方向に沿って取付部１４の周囲に分布し、各調整部材４２の底端は、上から下へ上記環状ボス４３を貫通し、支持ユニット２に接続され、各調整部材４２と支持ユニット２の垂直方向における相対位置を選択的に調整することにより、取付孔１２の円周方向における異なる位置でのカップリングユニット３の押される程度を調整し、これにより支持ユニット２の姿勢を調整することができ、支持ユニット２をレベリングするようにする。

【0040】

具体的には、押さえスリーブ４１は、取付部１４に外嵌され、環状ボス４３は、押さえスリーブ４１の頂部の外周に一体に形成され、かつ、該環状ボス４３には、複数の調整部材４２が１対１で対応して内に穿設されるための複数の光孔が開けられる。押さえスリーブ４１の底部は調整空間内に延びて、押さえスリーブ４１の底端は、内ジョイント３１の上端に当接することができる。複数の調整部材４２は、環状ボス４３の周方向に沿って配置され、それぞれ環状ボス４３の複数の光孔内に穿設され、支持ユニット２に接続されてもよい。実際に応用する時、調整部材４２は徐々に押さえスリーブ４１を下へ押し当てることができ、内ジョイント３１は圧力作用で徐々に外ジョイント３２に入り、かつ、複数の調整部材４２の押し込み深さを調整することにより、支持ユニット２を押し当て又は引っ張ることができ、これにより、支持ユニット２の姿勢のレベリングを実現し、レベリングが完了した後に複数の調整部材４２の押し込み深さを同じにし、支持ユニット２を支持ユニット２に押すことが実現され、かつ、カップリングユニット３の作用により、さらに支持ユニット２と昇降軸１１をロックする。上記設計を採用することにより、本願の実施例は調整が簡単で実現しやすくなり、安定性が高く、それにより作業効率が大幅に向上する。

【0041】

本願の一実施例では、図１Ａ、図１Ｂ及び図３に示すように、調整部材４２は、螺着ロッド４２１と、押当ブロック４２２とを含み、押当ブロック４２２は、環状ボス４３に押し当てられ、螺着ロッド４２１の一端は、押当ブロック４２２に一体に接続され、螺着ロッド４２１の他端は、上から下へ環状ボス４３を貫通し、支持ユニット２に螺着される。

【0042】

図１Ａ、図１Ｂ及び図３に示すように、調整部材４２は、具体的には、ボルトを採用することができ、螺着ロッド４２１はスクリュー部分であり、押当ブロック４２２はナット部分である。実際に応用する時、螺着ロッド４２１は光孔内にスライドして穿設され、かつ、底端は支持ユニット２に螺着されるが、押当ブロック４２２は環状ボス４３に位置し、押当ブロック４２２を操作することにより螺着ロッド４２１を支持ユニット２内にねじ込み、このようにして、調整部材４２は支持ユニット２を引っ張ることができ、これにより支持ユニット２の姿勢のレベリングを実現する。例えば、支持ユニット２に近接する調整部材４２を操作することにより、支持ユニット２の調整部材４２に対応する位置を環状ボス４３に近接させることができ、それにより支持ユニット２の調整部材４２に対応する側を上昇させる。上記設計を採用することにより、本願の実施例の応用やメンテナンスのコストを効果的に低減することができるだけでなく、調整効率を向上させることができる。

【0043】

本願の一実施例では、図１Ａ、図１Ｂ及び図３に示すように、複数の調整部材４２において、支持ユニット２の延在方向に少なくとも１つの調整部材４２を有し、かつ、支持ユニット２の延在方向の両側にいずれも少なくとも１つの調整部材４２を有する。具体的には、調整部材４２が３つある場合を例とし、３つの調整部材４２は等間隔に環状ボス４３に設けられ、それらうちの少なくとも１つは、支持ユニット２の延在方向に位置し、他の２つの調整部材４２は、それぞれ支持ユニット２の延在方向の両側に位置する。実際に応用する時、支持ユニット２の軸方向における調整部材４２を調整することにより、支持ユニット２の延在方向を水平方向に調整することができる一方、支持ユニット２の延在方向の両側の調整により、支持ユニット２が延在方向を中心線として両側に傾斜することを防止することができ、これにより、支持ユニット２全体の姿勢がいずれも水平状態であり、ウェハずれ又は損傷の発生という問題をさらに回避する。上記設計を採用することにより、本願の実施例の安定性を大幅に向上させることができるだけでなく、調整の柔軟性を向上させることができる。なお、本願の実施例は調整部材４２の具体的な数及び配置方式を限定せず、当業者は実際の状況に応じて自ら設定を調整することができる。

【0044】

本願の一実施例では、図１Ａ、図１Ｂ及び図３に示すように、支持ユニット２はクロスメンバ２３と、ブラケット２４と、アダプタブロック２５とを含み、アダプタブロック２５に上記取付孔１２が設けられ、該取付孔１２は昇降軸１１の頂部の取付部１４に外嵌され、クロスメンバ２３の一端（すなわち支持ユニット２として用いられる第１端２１）は、アダプタブロック２５に固定接続される。それはアダプタブロック２５に外嵌され、アダプタブロック２５に接続され、アダプタブロックの内周壁が昇降軸１１の外周壁に遊嵌されて調整空間を形成し、クロスメンバ２３の他端（すなわち、支持ユニット２として用いられる第２端２２）は、昇降軸１１の径方向に沿って延設され、ブラケット２４は、クロスメンバ２３上に設けられ、ウェハを支持することに用いられる。具体的には、アダプタブロック２５に上記取付孔１２が設けられ、該取付孔１２は昇降軸１１の頂部の取付部１４に外嵌され、アダプタブロック２５は金属材質で製造された円柱状構造を採用することができ、取付孔１２は、例えばアダプタブロック２５の頂部の中央位置に設けられ、取付部１４の外周壁と間隔を置いて設けられて調整空間を形成することに用いられる。クロスメンバ２３は金属材質で製造された棒状構造を用いることができ、クロスメンバ２３の一端（すなわち支持ユニット２として用いられる第１端２１）はアダプタブロック２５に外嵌され、アダプタブロック２５は、複数の締結具を用いてクロスメンバ２３の一端に固定接続することができ、その後、クロスメンバ２３とアダプタブロック２５の両方を昇降軸１１に外嵌する。アダプタブロック２５はクロスメンバ２３の高さを高くすることができるため、押さえスリーブ４１の長さを長くし、それによりクロスメンバ２３の水平度調整のために空間を提供する。また、アダプタブロック２５を設けることにより、クロスメンバ２３の加工コストを低減することができる。ブラケット２４は２つの対向して設けられた弧状支持具を含むことができ、弧状支持具に収容溝が開けられ、２つの弧状支持具は、いずれもクロスメンバ２３の底部に設けられ、ウェハの２つの対向する縁部を支持することに用いられる。上記設計を採用することにより、支持ユニット２の重量を大幅に低減することができるだけでなく、本願の実施例の構造が簡単で実現しやすくなり、これにより、応用やメンテナンスのコストが大幅に低減される。

【0045】

なお、本願の実施例は、アダプタブロック２５とクロスメンバ２３との接続方式を限定せず、例えば、両者は一体成形又は溶接方式を採用して固定接続することができる。したがって、本願の実施例はこれらに限定されるものではなく、当業者は実際の状況に応じて自ら設定を調整することができる。

【0046】

図１Ａ、図１Ｂ及び図３に示すように、昇降軸１１は本体部１３と、取付部１４とを含み、本体部１３の上端には、取付部１４が設けられ、本体部１３の直径は取付部１４の直径よりも大きく、アダプタブロック２５の取付孔１２は取付部１４に外嵌され、本体部１３の上端に載置される。具体的には、本体部１３は具体的に円柱状構造を採用することができ、その上端に円柱状の取付部１４を有する。取付部１４の直径は本体部１３の直径よりも小さく、このようにして、アダプタブロック２５の取付孔１２は、取付部１４に外嵌され、本体部１３の上端に載置されてもよく、それにより着脱やメンテナンスしやすく、かつ、アダプタブロック２５及びカップリングユニット３のサイズを小さくすることができ、それにより、本願の実施例の空間占有が大幅に低減される。任意選択的に、昇降軸１１は全体的に直径の寸法が小さく、上端に近接する位置には、支持ユニット２を載置するための環状フランジが一体に形成され、同様に、上記の技術的効果を達成することができる。したがって、本願の実施例は昇降軸１１の具体的な構造を限定せず、当業者は実際の状況に応じて自ら設定を調整することができる。

【0047】

本願の実施例の有益な効果をさらに説明するために、以下、図１～図４Ｄに示すように、本願の実施の具体的な調整過程を以下のように説明する。本願は、取り付け過程を実施する時に支持ユニット２の姿勢をレベリングする必要があり、一般的に以下の状況が存在し、第１に、支持ユニット２の第２端２２は垂下又は上昇し、すなわちクロスメンバ２３の延在方向は水平方向と角度をなし、第２に、ブラケット２４の一端部は垂下又は上昇し、すなわち支持ユニット２はクロスメンバ２３の延在方向を中心線として左に偏り又は右に偏る。図４Ｂに示すように、クロスメンバ２３の上方向が左側であり、下方向が右側である。説明の便宜上、３つの調整部材４２をそれぞれ第１調整部材４２１、第２調整部材４２２及び第３調整部材４２３と定義し、第１調整部材４２１はクロスメンバ２３の延在方向に位置するが、第２調整部材４２２及び第３調整部材４２３はそれぞれクロスメンバ２３の延在方向の上方及び下方に位置する。

【0048】

図４Ａに示すように、第１状況を例にしてレベリングを行い、調整過程において、全過程で電子ウェハをブラケット２４に置き、リアルタイムな水平監視を行う必要がある。複数の調整部材４２が締付した後にカップリングユニット３が予備的に押し、機構全体が予備的な固定状態にある。第１調整部材４２１及び第２調整部材４２２のモーメントを増加し続けることにより、カップリングユニット３を完全にカップリングさせ、該過程において内ジョイント３１を揺動させて左が低く右が高い状況を引き起こし、同時にアダプタブロック２５を介してクロスメンバ２３の右側を駆動して上昇させ、クロスメンバ２３の水平は緩和されるが幅が小さく、具体的には、図４Ｃに示される。システムが完全にカップリングするため、このときに第１調整部材４２１のモーメントを増加し、クロスメンバ２３はこのときに第１調整部材４２１の引張力を受け、このようにして、クロスメンバ２３の延在方向が水平方向に迅速に調整され、電子ウェハの数値表示により、最終的な水平要件を満たし、具体的には、図４Ｄに示す。同様に、クロスメンバ２３の第２端２２が上昇すると、第１調整部材４２１を締付し、次に第２調整部材４２２及び第３調整部材４２３を調整することにより調整を完了し、支持ユニット２がクロスメンバ２３の延在方向を中心線として左に偏ると、第３調整部材４２３を締付し、第２調整部材４２２を調整することにより調整を完了し、支持ユニット２がクロスメンバ２３の延在方向を中心線として右に偏ると、第２調整部材４２２を締付し、第３調整部材４２３を調整することにより調整を完了する。当然のことながら、調整過程において三点位置決めの方式を採用して調整部材４２を設けるため、ある調整部材４２を調整することによって問題を解決することができず、さらに他の調整部材４２を微調整し、総合的に調整して水平を実現する必要がある。

【0049】

同一の発明思想に基づき、本願の実施例は半導体プロセス装置を提供し、真空搬送チャンバ、フロントエンドチャンバ、着脱チャンバを含み、着脱チャンバは真空搬送チャンバとフロントエンドチャンバの間に設けられ、着脱チャンバに上記各実施例に係るウェハ支持構造が設けられる。

【0050】

本願の実施例を応用し、少なくとも以下の有益な効果を実現することができる。

【0051】

本願の実施例は支持ユニットの第１端の取付孔を昇降軸の取付部に外嵌することにより、該取付孔の内周壁と取付部の外周壁が間隔を置いて設けられて調整空間を形成し、カップリングユニットは取付部の外周に外嵌され、調整空間内に位置し、及び調整ユニットと支持ユニットを接続し、該調整ユニットの一部は調整空間内に位置し、カップリングユニットを押してを変形させ、支持ユニットの姿勢の微調整を実現することができ、これにより上記取付部と支持ユニットをロックし、同時に調整ユニットはカップリングユニットが取付孔の円周方向における異なる位置での押される程度を調整できるように設けられ、支持ユニットの水平度及び／又は中線角度を調整する。本願の実施例は支持ユニットの姿勢に対するレベリングを迅速に実現することができ、これにより、着脱やメンテナンスのコストが大幅に低減される。また、支持ユニットの姿勢レベリングを確保するため、ウェハの搬送中にウェハずれや損傷を発生させるリスクを大幅に低減することができ、これにより、本願の実施例の搬送効率が大幅に向上する。

【0052】

理解できるように、以上の実施形態は、本発明の原理を説明するために採用された例示的な実施形態にすぎないが、本発明はこれらに限定されない。当業者であれば、本発明の精神及び本質を逸脱せずに様々な変形及び改良を行うことができ、これらの変形及び改良も本発明の保護範囲とみなされる。

【0053】

なお、本願の説明において、用語「中心」、「上」、「下」、「前」、「後」、「左、「右」、「垂直」、「水平」、「頂」、「底」、「内」、「外」などで指示される方位又は位置関係は、図示される方位又は位置関係に基づくものであり、本発明の説明を容易にしたり簡略化したりするためのものであり、係る装置又は、素子が特定の方位を有したり、特定の方位で構成及び操作されたりすることを指示又は暗示しないため、本発明を限定するものではないと理解すべきである。

【0054】

用語「第１」、「第２」は、単に説明の目的に使用されるものであり、相対的な重要性を指示又は暗示せず、又は指示された技術的特徴の数を暗示しないと理解すべきである。これにより、「第１」、「第２」が限定された特徴は、明示的又は、暗黙的に１つ又は、複数の該特徴を含んでもよい。本発明の説明において、特に説明しない限り、「複数「の意味は、２つ又は、２つ以上である。

【0055】

なお、本願の説明において、特に明確な規定及び限定がない限り、用語「取り付け」、「連結」、「接続」は、広義に理解すべきであり、例えば、固定接続、着脱可能な接続又は一体的接続であってもよく、直接連結又は中間媒体を介する間接的連結であってもよく、２つの素子の内部の連通であってもよい。当業者であれば、具体的な状況に応じて上記用語の本発明における具体的な意味を理解することができる。

【0056】

本明細書の説明において、具体的な特徴、構造、材料又は特徴は、任意の１つ又は複数の実施例又は例示において適切な方式で組み合わせることができる。

【0057】

以上は、本願の一部の実施形態に過ぎず、説明すべきことは、当業者であれば、本願の原理から逸脱せずに、いくつかの改良及び修飾を行うことができ、これらの改良及び修飾も本願の保護範囲と見なされるべきである。

【図1A】

【図1B】

【図2A】

【図2B】

【図2C】

【図3】

【図4A】

【図4B】

【図4C】

【図4D】

【手続補正書】

【提出日】2024-04-09

【手続補正1】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３１

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0031】

図１Ａ～図２Ｃに示すように、内ジョイント３１の内周壁全体は、円柱状構造であり、取付部１４に外嵌されることに用いられ、内ジョイント３１の内周壁は取付部１４の外周壁に密接して設けられる。内ジョイント３１の頂部は円柱状構造であり、底部は逆円錐状円錐台構造であり、すなわち、内ジョイント３１の外周壁に第１斜面３１１が形成され、該第１斜面３１１は、内ジョイント３１の押し下げ過程において外ジョイント３２を押すことに用いられ、このようにして、両者はいずれも変形する。外ジョイント３２は全体的に円柱状構造を採用し、外ジョイント３２は取付孔１２内に嵌合され、このようにして、外ジョイント３２の外周壁が取付孔１２の内周壁に密接して設けられる。外ジョイント３２の内周壁は、その周方向に沿って周回する第２斜面を含み、該第２斜面は例えば第３斜面３２１を含み、該第３斜面３２１は外ジョイント３２の内周壁の頂部に位置し、このようにして、外ジョイント３２の内周壁の頂部が漏斗状であり、内ジョイント３１の第１斜面３１１に係合して案内し、内ジョイント３１を外ジョイント３２内に導入することに用いられる。

【手続補正2】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４７

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0047】

本願の実施例の有益な効果をさらに説明するために、以下、図１Ａ～図４Ｄに示すように、本願の実施の具体的な調整過程を以下のように説明する。本願は、取り付け過程を実施する時に支持ユニット２の姿勢をレベリングする必要があり、一般的に以下の状況が存在し、第１に、支持ユニット２の第２端２２は垂下又は上昇し、すなわちクロスメンバ２３の延在方向は水平方向と角度をなし、第２に、ブラケット２４の一端部は垂下又は上昇し、すなわち支持ユニット２はクロスメンバ２３の延在方向を中心線として左に偏り又は右に偏る。図４Ｂに示すように、クロスメンバ２３の上方向が左側であり、下方向が右側である。説明の便宜上、３つの調整部材４２をそれぞれ第１調整部材４２１、第２調整部材４２２及び第３調整部材４２３と定義し、第１調整部材４２１はクロスメンバ２３の延在方向に位置するが、第２調整部材４２２及び第３調整部材４２３はそれぞれクロスメンバ２３の延在方向の上方及び下方に位置する。

【手続補正3】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

半導体プロセス装置の着脱チャンバ内に設けられ、ウェハを支持し、前記ウェハの昇降を駆動するためのウェハ支持構造であって、
昇降ユニットと、支持ユニットと、カップリングユニットと、調整ユニットと、を含み、
前記昇降ユニットは、昇降軸を含み、前記昇降軸の頂面に取付部が設けられ、前記支持ユニットの第１端に前記取付部に外嵌される取付孔が設けられ、前記取付孔の内周壁と前記取付部の外周壁が間隔を置いて設けられて調整空間を形成し、前記支持ユニットの第２端は、前記昇降軸の径方向に沿って延設され、
前記カップリングユニットは、前記取付部の外周に外嵌され、前記調整空間内に位置し、
前記調整ユニットは、前記支持ユニットに接続され、前記調整ユニットの一部は、前記調整空間内に位置し、前記カップリングユニットを押して変形させ、これにより、前記取付部と前記支持ユニットをロックし、そして、前記調整ユニットは、前記取付孔の円周方向における異なる位置での前記カップリングユニットの押される程度を調整できるように設けられ、これにより、前記支持ユニットの水平度及び／又は中線角度を調整することを特徴とするウェハ支持構造。

【請求項2】

前記カップリングユニットは、互いに嵌合する内ジョイント及び外ジョイントを含み、前記調整ユニットは、前記内ジョイントを押すことにより前記内ジョイント及び前記外ジョイントを互いに押して変形させ、前記内ジョイントは、押される時に前記外ジョイントに対して揺動することができるように設けられ、前記調整ユニットが前記内ジョイントに当接する時、前記内ジョイント及び前記外ジョイントは互いに押して変形することを特徴とする請求項１に記載のウェハ支持構造。

【請求項3】

前記内ジョイントの外周壁は、その周方向に沿って周回する第１斜面を含み、前記第１斜面と前記内ジョイントの軸線との間の間隔は、上から下へ漸減し、前記外ジョイントの内周壁は、その周方向に沿って周回する第２斜面を含み、前記第２斜面は前記第１斜面に係合され、このようにして、前記内ジョイントは押される時に前記外ジョイントに対して揺動することができる、ことを特徴とする請求項２に記載のウェハ支持構造。

【請求項4】

前記第２斜面と前記第１斜面は線接触である、ことを特徴とする請求項３に記載のウェハ支持構造。

【請求項5】

前記第２斜面は円弧状凸面であり、前記第１斜面は平面である、ことを特徴とする請求項４に記載のウェハ支持構造。

【請求項6】

前記外ジョイントの内周壁は、その周方向に沿って周回する第３斜面をさらに含み、前記第３斜面は、前記第２斜面の上方に位置し、前記第２斜面に接続されて連続的な表面を形成し、
前記第３斜面と前記外ジョイントの軸線との間の間隔は、上から下へ漸減し、前記内ジョイント及び外ジョイントが元の状態にある時、前記第３斜面は前記第１斜面と接触しない、ことを特徴とする請求項５に記載のウェハ支持構造。

【請求項7】

前記調整ユニットは、押さえスリーブと、調整部材とを含み、前記押さえスリーブは、前記取付部に外嵌され、前記押さえスリーブの底部は、前記調整空間内に延びて、前記内ジョイントを押すことに用いられ、前記押さえスリーブの頂部の外周に環状ボスを有し、前記環状ボスは、前記支持ユニットの上方に位置し、
複数の前記調整部材は、前記取付部の周方向に沿って前記取付部の周囲に分布し、各前記調整部材の底端は、上から下へ前記環状ボスを貫通し、前記支持ユニットに接続され、各前記調整部材と前記支持ユニットの垂直方向における相対位置を選択的に調整することにより、前記取付孔の円周方向における異なる位置での前記カップリングユニットの押される程度を調整する、ことを特徴とする請求項２に記載のウェハ支持構造。

【請求項8】

前記調整部材は、螺着ロッドと、押当ブロックとを含み、前記押当ブロックは、前記環状ボスに押し当てられ、前記螺着ロッドの一端は、前記押当ブロックに一体に接続され、前記螺着ロッドの他端は、上から下へ前記環状ボスを貫通し、前記支持ユニットに螺着される、ことを特徴とする請求項７に記載のウェハ支持構造。

【請求項9】

複数の前記調整部材において、前記支持ユニットの延在方向に少なくとも１つの前記調整部材を有し、前記支持ユニットの延在方向の両側にいずれも少なくとも１つの前記調整部材を有する、ことを特徴とする請求項７に記載のウェハ支持構造。

【請求項10】

前記支持ユニットは、アダプタブロックと、クロスメンバと、ブラケットと含み、前記アダプタブロックに前記取付孔が設けられ、前記クロスメンバの一端は、前記支持ユニットの第１端として用いられ、前記アダプタブロックに固定接続され、前記クロスメンバの他端は、前記昇降軸の径方向に沿って延設され、
前記ブラケットは、前記クロスメンバに設けられ、前記ウェハを支持することに用いられる、ことを特徴とする請求項１に記載のウェハ支持構造。

【請求項11】

真空搬送チャンバと、フロントエンドチャンバと、着脱チャンバとを含み、
前記着脱チャンバは、前記真空搬送チャンバと前記フロントエンドチャンバとの間に設けられ、前記着脱チャンバに請求項１～１０のいずれか１項に記載のウェハ支持構造が設けられることを特徴とする半導体プロセス装置。

【国際調査報告】