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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7576176 | メタルハードマスクのエッチング方法 | 2024年10月30日 | |
特許 7576191 | プラズマを生成するためのコイル構造及び半導体プロセス装置 | 2024年10月30日 | |
特許 7558408 | 静電チャック及び半導体プロセス装置 | 2024年 9月30日 | |
特許 7557548 | 加熱装置および半導体処理装置 | 2024年 9月27日 | |
特許 7540090 | 半導体プロセス装置及び電力制御方法 | 2024年 8月26日 | |
特許 7530519 | シリコンチップのエッチング方法 | 2024年 8月 7日 | |
特許 7522931 | 酸化物薄膜の製造方法 | 2024年 7月25日 | |
特許 7495577 | 半導体反応チャンバ | 2024年 6月 4日 | |
特許 7482328 | 半導体プロセス装置及びプラズマ点火方法 | 2024年 5月13日 | |
特許 7478906 | インピーダンス整合方法、インピーダンス整合器及び半導体プロセス装置 | 2024年 5月 7日 | |
特許 7469561 | マニピュレーター | 2024年 4月16日 | |
特許 7457168 | 半導体デバイスのモデリング方法及び装置 | 2024年 3月27日 | |
特許 7457209 | 載置装置及び半導体反応チャンバ | 2024年 3月27日 | |
特許 7430846 | 半導体プロセス装置及びそのプロセスチャンバ | 2024年 2月13日 | |
特許 7428853 | 捕集ユニット及び半導体予備洗浄チャンバ | 2024年 2月 6日 |
19 件中 1-15 件を表示
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7576176 7576191 7558408 7557548 7540090 7530519 7522931 7495577 7482328 7478906 7469561 7457168 7457209 7430846 7428853
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