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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第1017位 21件
(
2024年:第1272位 18件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第1006位 18件
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2024年:第909位 25件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7769725 | 半導体プロセス装置及びそのガス混合供給手段 | 2025年11月13日 | |
| 特許 7761772 | 温度制御方法 | 2025年10月28日 | |
| 特許 7761782 | プラズマ発生用コイル構造及び半導体プロセス装置 | 2025年10月28日 | |
| 特許 7759526 | 誘導コイルアセンブリの駆動システムおよびその制御方法、半導体プロセス装置 | 2025年10月23日 | |
| 特許 7746607 | 半導体プロセス装置及びそのプロセスチャンバー並びにトレイの検出方法 | 2025年 9月30日 | |
| 特許 7727098 | プラズマ半導体プロセス用の多層フォーカスリング | 2025年 8月20日 | |
| 特許 7727152 | 半導体プロセスチャンバー及び半導体プロセス機器 | 2025年 8月20日 | |
| 特許 7724388 | プロセスチャンバー、半導体プロセス機器及びプロセス方法 | 2025年 8月15日 | |
| 特許 7719296 | 複数の無線周波数(RF)電極を含む基板支持体 | 2025年 8月 5日 | |
| 特許 7710987 | シールド冷却アセンブリ、反応チャンバ、および半導体処理装置 | 2025年 7月22日 | |
| 特許 7704976 | 半導体プロセスレシピの取得方法、システム及び半導体プロセス装置 | 2025年 7月 8日 | |
| 特許 7704988 | 半導体プロセス機器及びその載置装置 | 2025年 7月 8日 | |
| 特許 7674605 | 配管温度制御装置及び配管温度制御方法 | 2025年 5月 9日 | |
| 特許 7662902 | 静電パレット及びベース | 2025年 4月15日 | |
| 特許 7651020 | 半導体プロセス装置及びその給気手段 | 2025年 3月25日 |
18 件中 1-15 件を表示
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7769725 7761772 7761782 7759526 7746607 7727098 7727152 7724388 7719296 7710987 7704976 7704988 7674605 7662902 7651020
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