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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-10-31
(54)【発明の名称】液体ターゲット材料を放射源に供給するための装置
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20241024BHJP
H05G 2/00 20060101ALI20241024BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 503
H05G2/00 K
【審査請求】未請求
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2024525002
(86)(22)【出願日】2022-11-18
(85)【翻訳文提出日】2024-06-18
(86)【国際出願番号】 EP2022082376
(87)【国際公開番号】W WO2023089082
(87)【国際公開日】2023-05-25
(31)【優先権主張番号】21209681.2
(32)【優先日】2021-11-22
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(31)【優先権主張番号】63/281,958
(32)【優先日】2021-11-22
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】504151804
【氏名又は名称】エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
(74)【代理人】
【識別番号】100079108
【弁理士】
【氏名又は名称】稲葉 良幸
(74)【代理人】
【識別番号】100109346
【弁理士】
【氏名又は名称】大貫 敏史
(74)【代理人】
【識別番号】100117189
【弁理士】
【氏名又は名称】江口 昭彦
(74)【代理人】
【識別番号】100134120
【弁理士】
【氏名又は名称】内藤 和彦
(72)【発明者】
【氏名】ヴァン ドレント，ウィリアム，ペーター
(72)【発明者】
【氏名】ヴェステルラケン，ジャン，スティーブン，クリスティアーン
(72)【発明者】
【氏名】ディレックス，ダニエル，ヨゼフ，マリア
(72)【発明者】
【氏名】ヤコブス，ヨハネス，ヘンリカス，ウィルヘルムス
(72)【発明者】
【氏名】ファイツ，マウリス，ヴィルヘルムス，レオナルドゥス，ヘンドリカス
(72)【発明者】
【氏名】ブイス，エドウィン，ヨハン
(72)【発明者】
【氏名】クナペン，バート，レオナーダス
(72)【発明者】
【氏名】ルーバース，ニコラス，ヨハネス，ウィルヘルムス
(72)【発明者】
【氏名】ヴァン デ ヴェン，バスチアーン，ランバータス，ウィルヘルムス，マリヌス
【テーマコード（参考）】
2H197
4C092
【Ｆターム（参考）】
2H197AA09
2H197AA10
2H197BA11
2H197CA10
2H197CB16
2H197CC16
2H197GA01
2H197GA04
2H197GA05
2H197GA24
2H197HA03
4C092AA06
4C092AA15
4C092AB10
4C092AC09
4C092BD18
(57)【要約】
本発明は、液体ターゲット材料を放射源に供給するための装置に関し、第１のリザーバと、油圧流体を加圧するように構成された加圧システムと、油圧流体を第１のリザーバ内の液体ターゲット材料から分離するように、及び、油圧流体から液体ターゲット材料へと圧力を伝達するように構成された分離デバイスと、を備える。本発明は、液体ターゲット材料を放射源に供給する関連付けられた方法にも関する。
【選択図】図７
【選択図】図７
【特許請求の範囲】
【請求項1】
液体ターゲット材料を放射源に供給するための装置であって、第１のリザーバと、
油圧流体を加圧するように構成された加圧システムと、
前記油圧流体を前記第１のリザーバ内の前記液体ターゲット材料から分離するように、及び、前記油圧流体から前記液体ターゲット材料へと圧力を伝達するように、構成された分離デバイスと、
を備える、装置。
【請求項2】
前記分離デバイスは、前記油圧流体のための前記第１のリザーバ内の容積を変更するために、前記油圧流体からの前記圧力下で変形するように構成された変形可能部材を備え、任意選択として、前記分離デバイスは、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン、タングステン、タンタル、モリブデンのうちの、少なくとも１つを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項3】
前記分離デバイスは、波形又は蛇腹状の側壁を有するベローズを備え、任意選択として、前記加圧システムは、前記油圧流体から前記液体ターゲット材料へと前記圧力を伝達するために、前記リザーバ内部の前記ベローズ内側又は前記ベローズ外部周辺の、前記油圧流体を加圧するように構成される、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項4】
前記加圧システムは、少なくとも３００バール、好ましくは少なくとも７００バール、より好ましくは少なくとも９００バール、更により好ましくは少なくとも１１００バール、及び最も好ましくは少なくとも１３００バールの圧力を、前記油圧流体に印加するように構成される、請求項１から３の何れか一項に記載の装置。
【請求項5】
前記第１のリザーバによって画定される容積の外側に配設され、前記第１のリザーバに熱を制御可能に印加するように構成された、少なくとも１つの外部加熱要素を備え、任意選択として、前記少なくとも１つの外部加熱要素は、被制御順に前記第１のリザーバの異なる領域まで熱を印加するように構成される、請求項１から４の何れか一項に記載の装置。
【請求項6】
前記第１のリザーバによって画定される前記容積の内部に配設され、前記第１のリザーバによって画定される前記容積に熱を制御可能に印加するように構成された少なくとも１つの内部加熱要素を備え、任意選択として、前記少なくとも１つの内部加熱要素は、前記第１のリザーバの入口／出口領域から遠くへ延在する、少なくとも１つの細長い加熱要素を備える、請求項１から５の何れか一項に記載の装置。
【請求項7】
前記第１のリザーバ内部での前記分離デバイスの変位を感知するように構成された少なくとも１つのセンサと、前記少なくとも１つのセンサに結合され、前記分離デバイスの感知された変位に基づいて、前記第１のリザーバにおける液体ターゲット材料のレベル、前記分離デバイスの変位が上限閾値又は下限閾値を超えた旨、及び／又は、前記分離デバイスの変位が予測された値から逸脱している旨、を決定するように構成された処理手段と、
を備える、請求項１から６の何れか一項に記載の装置。
【請求項8】
前記加圧システムは、前記油圧流体を保持するように構成され、前記第１のリザーバに前記油圧流体を供給するための前記第１のリザーバとの流体連絡のために構成された第２のリザーバを備え、任意選択として、前記第２のリザーバは、前記油圧流体に熱を印加するように構成された加熱チャンバとして構成される、請求項１から７の何れか一項に記載の装置。
【請求項9】
前記第２のリザーバによって画定される容積内に配設され、前記第２のリザーバ内に保持される前記油圧流体と直接接触するように構成された内部加熱要素、及び／又は、前記第２のリザーバ内に保持された前記油圧流体を加熱又は冷却するために、前記第２のリザーバの側壁の温度を制御するように構成された外部加熱及び／又は冷却要素、
のうちの、少なくとも１つを備える、請求項８に記載の装置。
【請求項10】
油圧流体を前記第２のリザーバに供給するための前記第２のリザーバとの流体連絡のために構成された容器を備え、前記容器が、重力が前記容器から前記第２のリザーバへの油圧流体の流れを誘導するように、前記第２のリザーバの上方に配設されるか、又は、
前記容器が、前記油圧流体を事前加圧するための油圧シリンダを備える、
請求項８又は９に記載の装置。
【請求項11】
前記容器は、入口を備え、前記加圧システムは、前記容器内の前記油圧流体を事前加圧するために加圧流体を前記入口に提供するように構成される、請求項１０に記載の装置。
【請求項12】
油圧流体リフレッシュメントシステムを備え、前記油圧流体リフレッシュメントシステムは、前記第１のリザーバとの、及び、請求項８に従属するときに前記第２のリザーバとの、流体連絡のために構成されたドレインタンクを備える、請求項１から１１の何れか一項に記載の装置。
【請求項13】
前記油圧流体は、前記油圧流体及び前記第２のリザーバの温度が上昇するとき、前記油圧流体の容積膨張が前記第２のリザーバの容積膨張を超えるように選択される、請求項１から１２の何れか一項に記載の装置。
【請求項14】
液体ターゲット材料を放射源に供給するための燃料放出器であって、前記システムは、
請求項１から１３の何れか一項に記載の第１の装置と、
請求項１から１３の何れか一項に記載の第２の装置と、を備え、
前記第１の装置及び前記第２の装置は、移送システムによって排出システムへの流体連絡において結合される、燃料放出器。
【請求項15】
請求項１４に記載の燃料放出器を備えるリソグラフィツールのための放射源であって、前記放射源は、ＥＵＶ放射を出力するように構成される、放射源。
【請求項16】
請求項１５に記載の放射源を備える、リソグラフィ装置。
【請求項17】
液体ターゲット材料を放射源に供給する方法であって、第１のリザーバ内の液体ターゲット材料は、油圧流体から前記液体ターゲット材料へと圧力を伝達するように構成された分離デバイスによって、前記第１のリザーバ内の前記液体ターゲット材料から分離された油圧流体を加圧することによって加圧される、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
関連出願の相互参照
[0001] 本願は、２０２１年１１月２２日出願の欧州特許出願第２１２０９６８１．２号及び２０２１年１１月２２日出願の米国出願第６３／２８１，９５８号の優先権を主張し、それらの全体が参照により本明細書に組み込まれる。
[0001] 本願は、２０２１年１１月２２日出願の欧州特許出願第２１２０９６８１．２号及び２０２１年１１月２２日出願の米国出願第６３／２８１，９５８号の優先権を主張し、それらの全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【0002】
[0002] 本発明は、リソグラフィ放射源に液体ターゲット材料を供給するための装置に関する。本発明は更に、そのような装置を含む燃料放出器、燃料放出器などを含む放射源、放射源などを含むリソグラフィ装置、及び、リソグラフィ放射源に液体ターゲット材料を供給するための方法に関する。
【背景技術】
【0003】
[0003] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に適用するように構築された機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。リソグラフィ装置は、例えばパターニングデバイス（例えばマスク）でのパターンを、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）の層に投影することができる。
【0004】
[0004] 基板上にパターンを投影するために、リソグラフィ装置は電磁放射を使用することができる。この放射の波長は、基板上に形成可能なフィーチャの最小サイズを決定する。４～２０ｎｍの範囲内、例えば６．７ｎｍ又は１３．５ｎｍの波長を有する極端紫外線（ＥＵＶ）放射を使用するリソグラフィ装置は、例えば１９３ｎｍの波長を有する放射を使用するリソグラフィ装置よりも小さいフィーチャを基板上に形成するのに使用することができる。
【0005】
[0005] ＥＵＶ放射は、基板又はシリコンウェーハに極めて小さな形状を生成するフォトリソグラフィプロセスで使用される。ＥＵＶ光を発生する方法は、必ずしも限定ではないが、例えばキセノン、リチウム、又はスズのような、ＥＵＶ範囲に輝線を有する元素を含む材料を、プラズマ状態に変換することを含む。しばしばレーザ生成プラズマ（「ＬＰＰ」）と呼ばれる１つのそのような方法では、例えば材料の小滴、プレート、テープ、流れ、又はクラスタの形態であるターゲット材料を、駆動レーザと称されることのある増幅光ビームで照射することにより、必要なプラズマを生成できる。このプロセスでは、プラズマは通常、例えば真空チャンバのような密閉容器内で生成され、様々なタイプのメトロロジ機器を用いて監視される。
【0006】
[0006] スズターゲット材料を液滴の形で供給するための現行の最先端装置において、液体スズを含むリザーバが、およそ２７５バールの圧力まで加圧されたアルゴンガスを使用して加圧される。次いで、加圧された液体スズは、プラズマを形成するために放射源によって照射されるべき液体スズの液滴のストリームを提供するように構成されたノズルへと移送される。
【0007】
[0007] 生成されるＥＵＶ放射の量は、照射によってプラズマに変換されるべき、照射サイトに提供される液体スズの量に依存する、時間期間当たり生成されるプラズマの量に依存する。ＥＵＶ放射の量は、時間単位当たりより多くの液体スズの液滴を提供することによって向上可能である。液滴の間隔を維持しながら秒当たりの液滴の数を増加させるためには、液滴ストリームのより速いスピードが必要である。ＥＵＶ放射の安定性は、連続する液滴間の空間を増加させることによって向上可能である。これにより、プラズマバーストとそれに続いて到着する次の液滴との間の相互作用が減少する。液滴間の間隔を増加させるためには、液滴ストリームのスピードを上昇させることが必要である。液滴ストリームのスピードを上昇させるための方法は、液体ターゲット材料に作用する圧力を増加させることである。スズターゲット材料を供給するための現行の最先端装置の欠点は、液体スズに作用する圧力を、将来のより高いＥＵＶ放射レベル又は電力レベルの需要に合致するように容易に増加できないことである。別の欠点は、液体スズが、相対的に高い温度において、及び、相対的に高い圧力において、反応性が高いことである。
【0008】
[0008] 米国出願第２０１０／２８２９８７Ａ１号は、液体放出器材料を使用して高温プラズマに基づくＥＵＶ放射を発生させるための配置を記述している。放出器材料供給ユニットは、リザーバ容器と、注入ユニットのための高放出器材料圧力を発生させるための注入デバイスとの間に、少なくとも第１の圧力容器及び第２の圧力容器を有する。圧力容器は、メガパスカル範囲内のガス圧を伴う高圧ガスシステムによって作用され、放出器材料供給ユニットは、高圧ガスシステムを、１つの圧力容器から他方の圧力容器に切り替えるための手段、及び、それに応じて代替として、注入ユニットを、加圧されているそれぞれの圧力容器の一定の放出器材料圧力に切り替えるための手段を有し、圧力容器のうちの少なくとも１つは、液滴発生及びプラズマ発生の連続動作中に再充填可能である。
【発明の概要】
【0009】
[0009] 上記を考慮すると、本発明の目的は、ＥＵＶリソグラフィ機械のためにより高いＥＵＶ放射レベルを提供できるようにすることである。
【0010】
[00010] 本開示の第１の態様に従い、液体ターゲット材料を放射源に供給するための装置が提供される。装置は、第１のリザーバと、油圧流体、例えば液体を加圧するように構成された加圧システムと、油圧流体を第１のリザーバ内の液体ターゲット材料から分離するように、及び、油圧流体から液体ターゲット材料へと圧力を伝達するように、構成された、分離デバイスと、を備える。
【0011】
[00011] 有利なことに、（従来技術の装置で使用されるような）ガスの代わりに油圧流体を使用することで、液体ターゲット材料を、加圧ガスを使用するときには達成できない可能性のある極端に高い圧力まで加圧させることができる。例えば、既存の装置は、リザーバ内の液体ターゲット材料に圧力を印加するために、加圧されたアルゴンガスを使用し得る。しかしながら、アルゴンガスの特性は、必要な極端に高い圧力において液体状の超臨界流体の特性に変化し、予測不可能になり得る。超臨界流体の圧縮の精密規制は、複雑且つ予測不可能になり得、油圧流体を使用することによって回避可能である。
【0012】
[00012] 有利なことに、分離デバイスの提供は、油圧流体と液体ターゲット材料との混合を防止する。
【0013】
[00013] 分離デバイスは、油圧流体のための第１のリザーバ内の容積を変更するために、油圧流体からの圧力下で変形するように構成された、変形可能及び／又は柔軟性部材を備える。
【0014】
[00014] 有利なことに、変形可能及び／又は柔軟性部材の使用は、高圧に耐えるために必要となる構成要素間の部品及び／又はシールの移動のための要件を軽減し、それによって装置内の潜在的な障害点を減少させる。
【0015】
[00015] 分離デバイスは、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン、タングステン、タンタル、モリブデンのうちの、少なくとも１つを含み得る。
【0016】
[00016] 分離デバイスは、波形又は蛇腹状の側壁を有するベローズを備え得る。
【0017】
[00017] 有利なことに、波形又は蛇腹状の側壁は、圧力が印加されたとき、分離デバイスの予測可能及び被制御の変形を提供し得る。
【0018】
[00018] 加圧システムは、油圧流体から液体ターゲット材料へと圧力を伝達するために、リザーバ内部のベローズ内側又はベローズ外部周辺の、油圧流体を加圧するように構成され得る。
【0019】
[00019] すなわち、ベローズは、油圧流体及び液体ターゲット材料のうちの一方のためのリザーバ内の使用可能容積を増加させ、同時に、油圧流体及び液体ターゲット材料のうちの他方のためのリザーバ内の使用可能容積を減少させるように、またその逆のように、変形し得る。
【0020】
[00020] 加圧システムは、少なくとも３００バール、好ましくは少なくとも７００バール、より好ましくは少なくとも９００バール、更により好ましくは少なくとも１１００バール、及び最も好ましくは少なくとも１３００バールの圧力を、油圧流体に印加するように構成され得る。
【0021】
[00021] 加圧システムは、３００から２０００バールの範囲内の圧力を印加するように、構成され得る。いくつかの例では、加圧システムは、最高１４００バールまでの圧力を印加するように構成され得る。
【0022】
[00022] 有利なことに、液体ターゲット材料に作用する圧力を増加させることで、上述のように、実質的に液滴ストリームのスピードを増加させ得、それによって、開示された装置を採用する放射源において生成されるＥＵＶ放射の量及び安定性を増加させる。
【0023】
[00023] 装置は、第１のリザーバによって画定される容積の外側に配設され、第１のリザーバに熱を制御可能に印加するように構成された、少なくとも１つの外部加熱要素を備え得る。
【0024】
[00024] 有利なことに、第１のリザーバを加熱することによって、大気温度より実質的に上の融点を有し得る液体ターゲット材料は、液体の形で維持され得る。
【0025】
[00025] 少なくとも１つの外部加熱要素は、被制御順に第１のリザーバの異なる領域まで熱を印加するように構成され得る。
【0026】
[00026] 第１のリザーバを動作温度まで加熱するとき、液体ターゲット材料は溶融し、固体から液体への移行において容積変化を招き得る。この容積変化は結果として、システムが被制御様式で加熱されない場合、下記でより詳細に説明するように、分離デバイスの障害を生じさせ得る。
【0027】
[00027] 装置は、第１のリザーバによって画定される容積の内部に配設され、第１のリザーバによって画定される容積に熱を制御可能に印加するように構成された、少なくとも１つの内部加熱要素を備え得る。
【0028】
[00028] 少なくとも１つの内部加熱要素は、第１のリザーバの入口／出口領域から遠くへ延在する、少なくとも１つの細長い加熱要素を備え得る。
【0029】
[00029] 第１のリザーバを動作温度まで加熱するとき、液体ターゲット材料は溶融し、固体から液体への移行において容積変化を招き得る。この容積変化は結果として、システムが被制御様式で加熱されないとき、分離デバイスの障害を生じさせ得る。少なくとも１つの内部加熱要素を提供することは、装置の底部における供給ラインから装置の頂部側に向かう順序で、及びまた、分離デバイスの内側部分から分離デバイスの外側部分に向かって放射状に、溶融する、液体ターゲット材料の実装を可能にし得る。
【0030】
[00030] 装置は、第１のリザーバ内部での分離デバイスの変位を感知するように構成された少なくとも１つのセンサを備え得る。
【0031】
[00031] センサは、ホール効果センサを含み得る。センサは、ホール効果センサと組み合わせた磁石を備え得る。磁石は分離デバイスに結合され得、ホール効果センサは、分離デバイスの変形に起因する磁石の相対的な動きを感知し得る。
【0032】
[00032] 装置は、少なくとも１つのセンサに結合され、分離デバイスの感知された変位に基づいて、第１のリザーバにおける液体ターゲット材料のレベルを決定するように構成された、処理手段を備え得る。
【0033】
[00033] したがって、第１のリザーバの液体ターゲット材料が枯渇し、再充填が必要になったときに、指示が与えられ得る。
【0034】
[00034] 装置は、少なくとも１つのセンサに結合され、分離デバイスの感知された変位に基づいて、分離デバイスの変位が上限閾値又は下限閾値を超えた旨を決定するように構成された、処理手段を備え得る。
【0035】
[00035] 有利なことに、印加される圧力に起因する分離デバイスの変形の程度を制限することによって、分離デバイスへの損傷が防止され得る。
【0036】
[00036] 装置は、少なくとも１つのセンサに結合され、分離デバイスの感知された変位に基づいて、分離デバイスの変位が予測された値から逸脱している旨を決定するように構成された、処理手段を備え得る。
【0037】
[00037] 有利なことに、分離デバイスの障害が検出され得る。例えば、装置の外側への油圧流体の漏れ又は分離デバイスの外側への液体ターゲット材料の漏れは、結果として、油圧流体に圧力が印加されたときに、分離デバイスの変形を最小限又は無しとし得る。こうした静的な分離デバイス又は分離デバイスにおけるこうした最小限の動きは検出可能であり得、障害を示し得る。
【0038】
[00038] 加圧システムは、油圧流体を保持するように構成され、第１のリザーバに油圧流体を供給するための第１のリザーバとの流体連絡のために構成された、第２のリザーバを備え得る。
【0039】
[00039] 有利なことに、第２のリザーバは、下記でより詳細に説明するように、油圧流体を加圧するために使用され得る。
【0040】
[00040] 第２のリザーバは、油圧流体に熱を印加するように構成された加熱チャンバとして構成され得る。
【0041】
[00041] 有利なことに、油圧流体の容積は加熱されるに従って増加し得、それによって油圧流体の圧力の被制御増加を提供し得る。
【0042】
[00042] 装置は、第２のリザーバによって画定される容積内に配設され、第２のリザーバ内に保持される油圧流体と直接接触するように構成された、内部加熱要素を備え得る。
【0043】
[00043] 有利なことに、内部加熱要素を油圧流体と直接接触させることによって、内部加熱要素の温度を油圧流体の温度に設定するように制御するとき、高速応答が達成され得る。
【0044】
[00044] 装置は、第２のリザーバ内に保持された油圧流体を加熱又は冷却するために、第２のリザーバの側壁の温度を制御するように構成された、外部加熱及び／又は冷却要素を備え得る。
【0045】
[00045] 装置は、油圧流体を第２のリザーバに供給するための第２のリザーバとの流体連絡のために構成された容器を備え得る。
【0046】
[00046] 容器は、重力が容器から第２のリザーバへの油圧流体の流れを誘導するように、第２のリザーバの上方に配設され得る。
【0047】
[00047] 容器は、油圧流体を第２のリザーバに供給するための供給タンクとして働き得る。
【0048】
[00048] 容器は、油圧流体を事前加圧するための油圧シリンダを備え得る。
【0049】
[00049] 有利なことに、油圧シリンダは、第２のリザーバに提供される容器内の油圧流体の圧力の相対的に粗野な制御を提供し得、第２のリザーバは、その後、例えば、第２のリザーバの温度を制御することによって、第１のリザーバへの油圧流体の圧力の相対的に微細な制御を提供し得る。
【0050】
[00050] 容器は、油圧流体を事前加圧するためのガスシリンダを備え得る。
【0051】
[00051] 有利なことに、ガスシリンダは、第２のリザーバに提供される容器内の油圧流体の圧力の相対的に粗野な制御を提供し得、第２のリザーバは、その後、例えば、第２のリザーバの温度を制御することによって、第１のリザーバへの油圧流体の圧力の相対的に微細な制御を提供し得る。
【0052】
[00052] 容器は入口を備え得、加圧システムは、容器内の油圧流体を事前加圧するために加圧流体を入口に提供するように構成され得る。
【0053】
[00053] 有利なことに、加圧流体、例えばガスを、容器に提供することは、第２のリザーバに提供される容器内の油圧流体の圧力の相対的に粗野な制御を提供し得、第２のリザーバは、その後、第１のリザーバへの油圧流体の圧力の相対的に微細な制御を提供し得る。
【0054】
[00054] 装置は、油圧流体リフレッシュメントシステムを備える。油圧流体リフレッシュメントシステムは、第１のリザーバとの流体連絡のために構成されたドレインタンクを備え得る。油圧流体リフレッシュメントシステムは、第２のリザーバとの流体連絡のために構成されたドレインタンクを備え得る。
【0055】
[00055] ドレインタンクは、弁を介して第２のリザーバに接続され得る。第２のリザーバの急速冷却が必要な場合、第２のリザーバからの油圧流体は、ドレインタンクに向かってフラッシュし得る。フレッシュな油圧流体は供給タンク、例えば容器から取り込まれ得る。この場合、第２のリザーバの温度は急速にリセット可能である。
【0056】
[00056] 油圧流体リフレッシュメントシステムは、第１のリザーバからドレインタンクへの戻りラインを備え得る。これにより、劣化の場合の油圧流体のリフレッシュメントを可能にし得る。油圧流体は、第２のリザーバ及び第１のリザーバから、例えば分離デバイス内から除去され、ドレインタンク内に格納され得る。その後、新しい油圧流体が供給タンク、例えば容器から供給され得る。
【0057】
[00057] 装置は、油圧流体との組み合わせで提供され得る。
【0058】
[00058] 油圧流体は、油圧流体及び第２のリザーバの温度が上昇するとき、油圧流体の容積膨張が第２のリザーバの容積膨張を超えるように、選択され得る。
【0059】
[00059] 有利なことに、油圧流体の圧力の非常に精密な制御が達成され得る。
【0060】
[00060] 有利なことに、圧力を制御するために加熱された第２のリザーバ内の油圧流体の膨張を使用することによって、圧力を発生させるための油圧シリンダの使用に関連付けられ得る「スティックスリップ」及び圧力パルスを回避し得る。
【0061】
[00061] 本開示の第２の態様に従い、液体ターゲット材料を放射源に供給するための燃料放出器が提供され、システムは、第１の態様に従った第１の装置と、第１の態様に従った第２の装置と、を備える。第１の装置及び第２の装置は、移送システムによって排出システムへの流体連絡において結合される。
【0062】
[00062] 移送システムは、液体ターゲット材料を第１の装置及び第２の装置から排出システムへと交互に供給するように構成され得る。
【0063】
[00063] 移送システムは、第１の装置及び第２の装置の各々の第１のリザーバ内の圧力を均等化するように構成され得る。例えば、移送システムは、液体ターゲット材料を第１の装置及び第２の装置の両方から排出システムへと供給する以前に、及び／又は、供給すると同時に、第１の装置及び第２の装置の各々の第１のリザーバ内の圧力を均等化するように構成され得る。
【0064】
[00064] 排出システムは、液滴のストリームを放射源のプラズマ形成ロケーションに向けて排出するように構成され得る。
【0065】
[00065] 燃料放出器は、液滴のストリームを監視するように構成された、液滴監視システムを備え得る。燃料放出器は、液滴監視デバイスの出力に基づいて、各それぞれのリザーバ内の液体ターゲット材料に各加圧システムによって印加される圧力を調整するように構成された、制御ユニットを備え得る。
【0066】
[00066] 本開示の第３の態様に従い、第２の態様に従った燃料放出器を備えるリソグラフィツールのための放射源が提供され、放射源はＥＵＶ放射を出力するように構成される。
【0067】
[00067] 本開示の第４の態様に従い、第３の態様に従った放射源を備えるリソグラフィ装置が提供される。
【0068】
[00068] 本開示の第５の態様に従い、液体ターゲット材料を放射源に供給する方法が提供され、第１のリザーバ内の液体ターゲット材料は、油圧流体から液体ターゲット材料へと圧力を伝達するように構成された分離デバイスによって、第１のリザーバ内の液体ターゲット材料から分離された油圧流体を加圧することによって加圧される。
【0069】
[00069] 液体ターゲット材料は、少なくとも３００バール、好ましくは少なくとも７００バール、より好ましくは少なくとも９００バール、更により好ましくは少なくとも１１００バール、及び最も好ましくは少なくとも１３００バールの圧力まで、加圧される。
【0070】
[00070] 第２のリザーバが第１のリザーバとの流体連絡において提供され、油圧流体は、油圧流体及び第２のリザーバの被制御温度が上昇したときに、油圧流体の容積膨張が第２のリザーバの容積膨張を超えるように、選択され得る。
【0071】
[00071] 液体ターゲット材料はスズを含み得る。
【0072】
[00072] 本発明の第２の態様に従い、第１の態様に従った装置を備える燃料放出器、及び排出システムが提供される。
【0073】
[00073] 本発明の第３の態様に従い、第２の態様に従った燃料放出器を備えるリソグラフィツールのための放射源が提供される。
【0074】
[00074] 本発明の更に別の実施形態に従い、第３の態様に従った放射源を備えるリソグラフィ装置が提供される。
【0075】
[00075] 上記の概要は、単なる例示であり、限定するものではない。本開示は、その組み合わせ又は単独で具体的に記載されているか否か（特許請求の範囲を含む）にかかわらず、単独又は様々な組み合わせの１つ以上の対応する態様、実施形態、又は特徴を含む。本開示の任意の態様に従って上記で定義された特徴、又は本開示の任意の特定の実施形態に関連する以下の特徴は、単独で、又は他の任意の態様又は実施形態において、又は他の定義された特徴と組み合わせて、利用され得ることが理解されるべきである。これは本開示の更なる態様又は実施形態を形成する。
【図面の簡単な説明】
【0076】
[00076] 本発明の実施形態を、添付の概略図を参照して、単なる例示として以下に説明する。
【0077】
【図1】リソグラフィ装置及び放射源を備えるリソグラフィシステムを示す図である。
【図2】本発明の実施形態に従った放射源を示す概略図である。
【図3a】液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の実施形態に従った装置を示す概略図であり、装置は第１の状況にある。
【図4】本発明の実施形態に従った燃料放出器を示す概略図である。
【図5】液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の別の実施形態に従った装置を示す概略図である。
【図6】液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の更なる実施形態に従った装置を示す概略図である。
【図7】液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の別の実施形態に従った装置を示す概略図である。
【図8a】液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の別の実施形態に従った装置を示す概略断面図である。
【図8b】液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の別の実施形態に従った装置を示す概略断面図である。
【図9a】液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の別の実施形態に従った装置内のセンサ配置を示す概略断面図である。
【図9b】液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の別の実施形態に従った装置内のセンサ配置を示す概略断面図である。
【図10】液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の更に別の実施形態に従った装置を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0078】
[00077] 図１は、放射源ＳＯ及びリソグラフィ装置ＬＡを備えるリソグラフィシステムを示す。放射源ＳＯは、ＥＵＶ放射ビームＢを発生させるように、及び、ＥＵＶ放射ビームＢをリソグラフィ装置ＬＡに供給するように、構成される。リソグラフィ装置ＬＡは、照明システムＩＬ、パターニングデバイスＭＡ（例えば、マスク）を支持するように構成された支持構造ＭＴ、投影システムＰＳ、及び基板Ｗを支持するように構成された基板テーブルＷＴを備える。
【0079】
[00078] 照明システムＩＬは、ＥＵＶ放射ビームＢがパターニングデバイスＭＡに入射する前にＥＵＶ放射ビームＢを調節するように構成される。そのため、照明システムＩＬは、ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１を備えることができる。ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１は共に、ＥＵＶ放射ビームＢに所望の断面形状と所望の強度分布とを与える。照明システムＩＬは、ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１に加えて又はこれらの代わりに、他のミラー又はデバイスを備えることができる。
【0080】
[00079] このように調節された後、ＥＵＶ放射ビームＢはパターニングデバイスＭＡと相互作用する。この相互作用の結果、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’が生成される。投影システムＰＳは、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’を基板Ｗに投影するように構成される。この目的のため、投影システムＰＳは、基板テーブルＷＴにより保持された基板Ｗにパターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’を投影するように構成された複数のミラー１３、１４を備えることができる。投影システムＰＳは、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’に縮小係数を適用し、これによってパターニングデバイスＭＡにおける対応するフィーチャよりも小さいフィーチャの像を形成することができる。例えば、４又は８の縮小係数を適用することができる。投影システムＰＳは、図１では２つのミラー１３、１４のみを有するものとして示されているが、投影システムＰＳは様々な数のミラー（例えば６個又は８個のミラー）を備えることができる。
【0081】
[00080] 基板Ｗは、前もって形成されたパターンを含むことができる。このような場合、リソグラフィ装置ＬＡは、パターン付きＥＵＶ放射ビームＢ’により形成された像を、基板Ｗ上に前もって形成されたパターンと位置合わせする。
【0082】
[00081] 相対真空、すなわち大気圧を大きく下回る圧力の少量のガス（例えば水素）を、放射源ＳＯ、照明システムＩＬ、及び／又は投影システムＰＳ内に供給することができる。
【0083】
[00082] 図１に示されている放射源ＳＯは、例えば、レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）放射源と呼ぶことがあるタイプである。例えばＣＯ２レーザを含み得るレーザシステム１は、レーザビーム２を介して、例えば燃料放出器３から与えられるスズ（Ｓｎ）のような燃料にエネルギーを堆積するよう配置されている。以下の記載ではスズに言及するが、任意の適切な燃料を使用すればよい。燃料は、例えば液体の形態とすることや、例えば金属又は合金とすることが可能である。燃料放出器３は、例えば小滴の形態のスズを、プラズマ形成領域４へ向かう軌道に沿って誘導するよう構成されたノズルを備えることができる。レーザビーム２は、プラズマ形成領域４においてスズに入射する。レーザエネルギーのスズへの堆積は、プラズマ形成領域４においてスズプラズマ７を生成する。プラズマイオンによる電子の脱励起及び再結合の間に、プラズマ７からＥＵＶ放射を含む放射が放出される。
【0084】
[00083] プラズマからのＥＵＶ放射は、コレクタ５によって収集され集束される。コレクタ５は、例えば近法線入射放射コレクタ５を含む（より一般的に法線入射放射コレクタと呼ばれることもある）。コレクタ５は、ＥＵＶ放射（例えば、１３．５ｎｍ等の所望の波長を有するＥＵＶ放射）を反射するように配置された多層ミラー構造を有し得る。コレクタ５は、２つの焦点を有する楕円構成を有し得る。焦点のうち第１のものはプラズマ形成領域４にあり、焦点のうち第２のものは中間焦点６にあり得る。これについては以下で検討する。
【0085】
[00084] レーザシステム１は、放射源ＳＯから空間的に分離してもよい。これが当てはまる場合、レーザビーム２は、例えば適切な誘導ミラー及び／又はビームエキスパンダ及び／又は他の光学系を含むビームデリバリシステム（図示せず）によって、レーザシステム１から放射源ＳＯへ渡すことができる。レーザシステム１、放射源ＳＯ、及びビームデリバリシステムは、共に放射システムと見なすことができる。
【0086】
[00085] コレクタ５によって反射された放射は、ＥＵＶ放射ビームＢを形成する。ＥＵＶ放射ビームＢは、中間焦点６で集束されて、プラズマ形成領域４に存在するプラズマの中間焦点６での像を形成する。中間焦点６の像は、照明システムＩＬの仮想放射源として作用する。放射源ＳＯは、中間焦点６が放射源ＳＯの閉鎖構造９の開口８に又は開口８の近くに位置付けられるように配置されている。
【0087】
[00086] 図２は、図１のリソグラフィ装置ＬＡにおいて実装され得る本発明の実施形態に従った放射源ＳＯを概略的に示す。放射源ＳＯは、図１の燃料放出器３と同様の燃料放出器１１１１を含む。燃料放出器１１１１は、低圧水素環境１１０１において、ターゲットＴｐがプラズマ形成ロケーションＰＦに送達されるように、ターゲットＴのストリームＳＴを放出する。ターゲットＴｐはターゲット材料を含む。ターゲット材料は、プラズマ状態にあるとき、ＥＵＶ放射を放出する任意の材料である。例えば、ターゲット材料は、水、スズ、リチウム、及び／又はキセノンを含むことができる。
【0088】
[00087] 動作中、放射源ＳＯの容器１１０７は、水素供給システム及びポンプシステム（どちらも図示せず）を用いて、低圧水素環境１１０１の下で維持される。放射源ＳＯは、レーザビームなどの光ビームＬＢを発生させるように、及び、光ビームＬＢを光路ＯＰに沿って低圧水素環境１１０１へと送達するように構成された、光源ＯＳを備える。光源ＯＳは、約９３００ｎｍ又は約１０６００ｎｍの放射を生成し、例えばＲＦ励起を用いて、例えば１０ｋＷ又はそれ以上の相対的に高電力で動作し、例えば４０ｋＨｚ又はそれ以上の高パルス繰り返し数の、パルスレーザデバイス、例えばパルスガス放電ＣＯ２レーザデバイスを含み得る。パルス繰り返し数は、例えば、５０ｋＨｚ、６０ｋＨｚ、７０ｋＨｚ、８０ｋＨｚ、９０ｋＨｚ、１００ｋＨｚ、又はそれ以上であり得る。プラズマ形成ロケーションＰＦは光ビームＬＢを受け取る。光ビームＬＢとターゲットＴｐ内のターゲット材料との間の相互作用が、ＥＵＶ放射を放出するプラズマＰＬを生成する。
【0089】
[00088] 燃料放出器１１１１は、リザーバシステム１１１２に流体的に結合された毛細管１１０４ｃｔを含み得る、排出システム１１０４を含む。毛細管１１０４ｃｔはオリフィス１１０４ｏを画定する。リザーバシステム１１１２は高圧Ｐｎの下でターゲット材料を含む。伝達アセンブリは、リザーバシステム１１１２と排出システム１１０４との間に提供され得る。ターゲット材料は溶融状態にあり、流れることが可能であり、低圧水素環境１１０１Ｐｅｘｔ内の圧力は、圧力Ｐｎよりもかなり低い。したがって、ターゲット材料はオリフィス１１０４ｏを介して流れる。毛細管は、音響定在波が発展するように管内のターゲット材料を励起させる、圧電素子（図示せず）によって囲まれ得る。ターゲット材料１０２は、ターゲット材料のジェット又は連続ストリーム１１０４ｃｓとしてオリフィス１１０４ｏを出ることができる。ターゲット材料のジェットは、個々のターゲットＴ（液滴とすることができる）を粉砕する。ジェット１１０４ｃｓの粉砕は、個々の液滴が、所望の数、例えば数十ｋＨｚ、例えば５０ｋＨｚ又はそれ以上でプラズマ形成ロケーションＰＦに到達する、より大きな液滴にまとまるように制御可能である。ストリームＳＴ内のターゲットＴは、直径が約１５～４０マイクロメートルの範囲内、例えば約３０マイクロメートルの、ほぼ球形とすることができる。ターゲットＴのストリームは、リザーバシステム１１１２内の圧力と、圧電素子（図示せず）によって排出システム１１０４に印加される振動との組み合わせによって、排出システム１１０４から排出され得る。
【0090】
[00089] 動作中、レーザエネルギーであり得る光ビームＬＢは、各液滴ＴｐをプラズマＰＬに変化させるために放射のインパルスを送達するように、燃料放出器１１１１の動作と同期して送達される。実際には、レーザエネルギーＬＢは、少なくとも２つのパルスで送達され得、制限付きエネルギーを伴うプレパルスは、ターゲット材料液滴をディスク様形状に変形するために、プラズマ形成ロケーションＰＦに達する前に液滴に送達され得る。次いで、レーザエネルギーＬＢのメインパルスは、プラズマＰＬを発生させるために、プラズマ形成ロケーションＰＦにおける変形されたターゲット材料に送達され得る。バケット１１３０が、プラズマに変化しない任意のターゲット材料をキャプチャするために、反対側の排出システム１１０４上に提供され得る。
【0091】
[00090] 放射源ＳＯは、光ビームＬＢが通過し、プラズマ形成ロケーションＰＦに到達できるようにするためのアパーチャ１１４０を有する、集光ミラー１１０５を含み得る。集光ミラー１１０５は、例えば、プラズマ形成ロケーションＰＦにおける一次焦点及び中間ロケーション１１０６（中間焦点又はＩＦとも呼ばれる）における二次焦点を有する、楕円ミラーとすることが可能であり、ＥＵＶ放射は放射源ＳＯからの出力であり、例えば、図１のリソグラフィ装置ＬＡなどのリソグラフィツールへの入力とすることができる。
【0092】
[00091] 放射源ＳＯは、１つ以上のパラメータを測定するための監視システム１１５０を更に含み得る。監視システム１１５０は、例えば、プラズマ形成ロケーションＰＦに関する液滴の位置を示す出力を提供し、この出力を主コントローラ１１６０に提供する、例えば１つ以上のターゲット又は液滴イメージャを含み得る。次いで、主コントローラ１１６０は、液滴毎又は平均のいずれかで液滴位置エラーが計算可能な、液滴位置及び／又は軌道を計算するように構成され得る。監視システム１１５０は、追加又は代替として、パルスエネルギー、波長の関数としてのエネルギー分布、特定の波長帯域内のエネルギー、特定の波長帯域外のエネルギー、及び、ＥＵＶ強度及び／又は平均パワーの角度分布を含むが、限定されない、１つ以上のＥＵＶ放射パラメータを測定する、１つ以上の放射源ディテクタを含み得る。
【0093】
[00092] 主コントローラ１１６０は、低圧水素環境１１０１内の光ビーム焦点のロケーション及び／又は集光力を調整又は設定するために、例えば、光ビーム位置、方向、形状、及び／又はタイミングを調整又は設定するように、光源ＯＳを制御するように構成され得る。主コントローラ１１６０は、追加又は代替として、リザーバシステム１１１２内の圧力、及び／又は、正しい量のターゲット材料を所望の時点においてプラズマ形成ロケーションＰＦに送達可能にするために排出システム１１０４によって解放される際のターゲットＴの解放点を、調整又は設定するために、燃料放出器１１１１の排出システム１１０４及び／又はリザーバシステム１１１２を制御するように構成され得る。
【0094】
[00093] 図３ａ及び図３ｂは、液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の実施形態に従った装置４００を概略的に示す。装置４００は、図２内の燃料放出器１１１１の装置１１１２であり得る。
【0095】
[00094] 装置４００は、移送システムを介して排出システムに接続されるように構成されたリザーバ４１０を含む、リザーバシステムを備える。図３ａ及び図３ｂでは、移送システムの一部４３０のみが見えている。
【0096】
[00095] リザーバシステムは、リザーバ４１０内の液体ターゲット材料を加圧するための加圧システム４２０を更に備える。加圧システム４２０は、任意の好適な油圧流体、例えば油、グリコール、又は他の液体を使用して、リザーバ４１０内の液体ターゲット材料を加圧し得る。加圧システム４２０は、入口４１１を介してリザーバ４１０に接続される。加圧システム４２０は、リザーバ４１０内部に配置された分離デバイス４４０及び周囲の入口４１１を更に含む。分離デバイス４４０は、リザーバ４１０内の液体ターゲット材料と接触するように構成され、更に、油圧流体から液体ターゲット材料へと圧力を伝達するように構成される。この例において、分離デバイス４４０は、更なる設計の自由度を油圧流体に提供する、液体ターゲット材料と油圧流体との間のバリアとして働く。油圧流体は、液体ターゲット材料の温度、圧力、及び反応性の組み合わせに耐え得るように、選択される必要はない。したがって、油圧流体の選択は、油圧流体がターゲット材料と接触していない際に使用されるターゲット材料から独立させることができる。これにより、時間期間当たりに生成されるＥＵＶ放射の量を増加させるために、排出システム及びしたがってプラズマ形成ロケーションに、より多くのターゲット材料を供給できるように、液体ターゲット材料に作用する圧力を増加させるために、好適な油圧流体及び構成を見つけることを容易にする。
【0097】
[00096] 分離デバイスは、この例では、分離デバイス４４０をベローズとして実装することによって、変形可能部材であるか、又は変形可能部材を含む。ベローズ４４０は、クローズドエンド４４０ａ、及びオープンエンド４４０ｂ、並びに、クローズドエンド４４０ａとオープンエンド４４０ｂとの間に延在する変形可能側壁４４０ｃを伴う、管形状を有する。変形可能部材、すなわち変形可能ベローズ４４０は、ベローズ４４０の可変内部容積、及びそれによって、液体ターゲット材料のためにリザーバ４１０内で使用可能な可変容積を提供する。
【0098】
[00097] 図３ａ及び図３ｂの実施形態において、ベローズ４４０は、ベローズ４４０内部に油圧流体を保持するように構成される。ベローズ４４０の変形可能な性質により、ベローズは、ベローズ４４０の内部容積が相対的に小さい第１の構成、及び、ベローズ４４０の内部容積が相対的に大きい第２の構成を、有することができる。ベローズ４４０が第１の構成である状況が図３ａに示され、第１の状況と呼ばれる。ベローズ４４０が第２の構成である状況が図３ｂに示され、第２の状況と呼ばれる。
【0099】
[00098] 加圧システム４２０を使用してベローズ４４０内の油圧流体を押し付けることで、ベローズ４４０に、移送システム４３０内の液体ターゲット材料を排出システムに向けて拡張及び押し付けさせることになる。利点は、動作中、ベローズ内部の圧力、すなわち油圧流体内の圧力が、リザーバ４１０内の圧力、すなわち液体ターゲット材料内の圧力と実質的に等しいことであり、したがって、ベローズに対する負荷を相対的に低く維持することが可能であり、ベローズの変形可能性に対して有益な、相対的に小さな壁厚みを可能にする。ベローズ４４０、すなわち分離デバイス４４０は、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン、タングステン、モリブデン、及びタンタルのうちの１つ以上の材料を含み得る。ベローズ４４０全体は同じ材料であり得るが、他の材料はコアとして使用され、前述の材料はコーティングとして使用されることも可能である。前述の材料は更に、例えば合金、例えば、２．５％タングステンのタンタルタングステン合金として組み合わせられ得る。
【0100】
【0101】
[000100] 燃料放出器５００は、排出システム５１０、及び、液体ターゲット材料を排出システム５１０に供給するための装置５２０を備える。装置５１０は、第１のリザーバシステム５１１、第２のリザーバシステム５１２、プライミングシステム５１３、第１の移送システム５１４、及び第２の移送システム５１５を備える。
【0102】
[000101] 第１及び第２のリザーバシステム５１１、５１２は、本実施形態では、どちらもそれぞれリザーバ５１１ａ、５１２ａ、及び、それぞれ加圧システム５１１ｂ、５１２ｂを備え、リザーバ５１１ａ、５１２それぞれにおいて液体ターゲット材料を加圧するように構成される、という点で、等しいか又は少なくとも同様である。この加圧は、それぞれ矢印５１１ｃ、５１２ｃを使用して象徴的に示される。
【0103】
[000102] 加圧システム５１１ｂは、リザーバ５１１ａ内に移動可能に配置されたピストン５１１ｄ、及び、ピストン５１１ｄとリザーバ５１１ａの反対側の底部壁５１１ｆとの間に延在するベローズ５１１ｅを含み、それによってピストン５１１ｄの下方のリザーバ５１１ａ内の空間を、ベローズ５１１ｅ内部の空間５１１ｇ及びベローズ５１１ｅ外部の空間５１１ｈとして示される、２つの分離空間に分割する。同様に、加圧システム５１２ｂは、リザーバ５１２ａ内に移動可能に配置されたピストン５１２ｄ、及び、ピストン５１２ｄとリザーバ５１２ａの反対側の底部壁５１２ｆとの間に延在するベローズ５１２ｅを含み、それによってピストン５１２ｄの下方のリザーバ５１２ａ内の空間を、ベローズ５１２ｅ内部の空間５１２ｇ及びベローズ５１２ｅ外部の空間５１２ｈとして示される、２つの分離空間に分割する。
【0104】
[000103] 本実施形態において、ベローズ５１１ｅ及び５１２ｅは、液体ターゲット材料を保持するように構成され、液体ターゲット材料が空間５１１ｇ及び５１２ｇ内に存在することを意味する。
【0105】
[000104] ピストン５１１ｄ及び５１２ｄは、それぞれのベローズのクローズドエンドとして作用する剛性部材を形成する。ピストン５１１ｄ及び５１２ｄは、それぞれの空間５１１ｈ及び５１２ｈを更に閉鎖し、空間５１１ｈ及び５１２ｈを油圧流体で充填できるようにする。したがって、ピストン５１１ｄ及び５１２ｄ、すなわち剛性部材は、適用可能であれば、それぞれの加圧システムの一部として、それぞれの空間５１１ｈ及び５１２ｈ内の油圧流体と、ピストン５１１ｄ及び５１２ｄの反対のエンドにおいて提供される圧力流体との間の、バリアとして作用し得る。空間５１１ｈ及び５１２ｈ内の油圧流体の利点は、反対圧力がベローズ５１１ｅ及び５１２ｅそれぞれに印加可能であり、それによって、ベローズ５１１ｅ及び５１２ｅの望ましくない負荷又は変形を最小限にすることである。ピストンが移動されるとき、空間５１１ｇ、５１１ｈ、５１２ｇ、及び５１２ｈの容積は増加又は減少し、結果として、空間５１１ｈ及び５１２ｈ内並びにそれぞれ空間５１１ｇ及び５１２ｇ内の、油圧流体間の圧力変化が生じ得る。第１のリザーバシステム５１１のための圧力規制システム５１６及び第２のリザーバシステム５１２のための圧力規制システム５１７が、油圧流体内の圧力を、それぞれのベローズ内部の液体ターゲット材料内の圧力と実質的に等しく維持するために、提供され得る。
【0106】
[000105] ピストン５１１ｄ、５１２ｄを加圧することは、機械アクチュエータを使用して実施され得るが、ピストン５１１ｄ、５１２ｄの反対側に提供され、それぞれのベローズ５１１ｅ、５１２ｅを変形させるように構成された、圧力流体、例えば、油圧流体又はガスを使用しても実施され得る。
【0107】
[000106] 図４には示されていないが、各加圧システムは、それぞれのリザーバ内の対応するピストン５１１ｄ、５１２ｄの位置を決定するためのセンサを備え得る。対応するピストン５１１ｄ、５１２ｄの位置は、液体ターゲット材料内の圧力を制御するために使用可能であるが、代替又は追加として、リザーバがほぼ空の時を決定するために使用可能である。
【0108】
[000107] 図４には示されていないが、各リザーバシステム５１１、５１２は、リザーバを加熱するための加熱システムを備え得る。熱は、好ましくは、油圧流体及びベローズ５１１ｅ、５１２ｅそれぞれによって、液体ターゲット材料の温度をターゲット材料の融点より上で維持するために、液体ターゲット材料へと伝達される。
【0109】
[000108] 図５は、液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の別の実施形態に従った装置６００を概略的に示す。装置６００は、図２の燃料放出器１１１１の装置１１１２であってよい。
【0110】
[000109] 装置６００は、移送システムを介して排出システムに接続されるように構成された、リザーバ６１０を含むリザーバシステムを備える。
【0111】
[000110] リザーバシステムは、リザーバ６１０内の液体ターゲット材料を加圧するための加圧システム６２０を、更に備える。本実施形態では、加圧システム６２０は、リザーバ６１０内の液体ターゲット材料を加圧するために、任意の好適な油圧流体を使用し得る。加圧システム６２０は、入口６１１を介してリザーバ６１０に接続される。加圧システム６２０は、クローズドエンド６４０ａとオープンエンド６４０ｂとの間に延在する、ベローズ６４０の側壁である、変形可能部材６４０ｃを伴うベローズ６４０を備える。
【0112】
[000111] リザーバ６１０は、入口６１１を伴う第１の壁部分６１０ａ、開口６１２を伴う第２の壁部分６１０ｂ、及び、第１の壁部分６１０ａと第２の壁部分６１０ｂとの間に延在する側壁６１０ｃを備える。この場合、第１の壁部分６１０ａ及び第２の壁部分６１０ｂは、リザーバ６１０内が相対的に高圧の場合に有益であるそれぞれのねじ接続６１３を介して、側壁６１０ｃに接続される。
【0113】
[000112] ベローズ６４０のオープンエンド６４０ｂは、本実施形態において、移送システムの管６３０に接続されるように、コネクタ部分６５０によって形成される。コネクタ部分６５０は、シール６６０によって示されるように、リザーバ６１０の第２の壁部分６１０ｂに密封接続される。この構成の利点は、ベローズ６４０が、ベローズ６４０内部に含まれる内容物が、第１の壁部分６１０ａ、第２の壁部分６１０ｂ、又は側壁６１０ｃに接触することなく、移送システムに接続されることである。本実施形態において、液体ターゲット材料は、ベローズ６４０内部に配置されるように構成される。リザーバ６１０内部の残りの容積は、リザーバ６１０の入口６１１と流体連絡しており、油圧流体が充填されるように構成される。
【0114】
[000113] 加圧システム６２０は、加熱チャンバ６２２を充填及び加圧可能にし、好ましくは、緊急時、解放及び膨張タンクとしても作用する、油圧流体供給６２１を、更に備える。加熱チャンバ６２２は、リザーバ６１０の入口６１１と流体連絡している。加熱チャンバ６２２を充填することは、リザーバ６１０、及び、加熱チャンバ６２２と入口６１１との間の管を充填することも含む。加圧システムが流体供給６２１を使用して充填されると、流体供給６２１と加熱チャンバ６２２との間の弁６２３が閉じ得る。加熱チャンバ６２２は、好ましくはベローズ６４０内のターゲット材料の溶融温度より上の、油圧流体を加熱するために使用される。加熱チャンバ６２２内の油圧流体の温度は、圧力流体内の圧力を正確に制御するために使用され得る。圧力センサ６６５は、油圧流体の圧力を感知するために提供され得、制御ユニット６７０は、油圧流体内で測定される実際の圧力及び油圧流体内の所望の圧力に依存して、加熱チャンバ６２２内部の油圧流体の温度を制御するために提供され得る。
【0115】
[000114] 図４に関して既に説明したように、加圧システム６２０は、リザーバ６１０内のベローズ６４０のクローズドエンド６４０ａの、ここではオープンエンド６４０ｂに関する位置を測定するための、センサ６８０を含み得る。センサは、例えば、ベローズのクローズドエンドに取り付けられた磁気部材、及び、磁気部材の位置を検出するためのリザーバの外側の磁気ディテクタを含み得る。磁気部材は、ベローズのクローズドエンドからも支持され得、例えば、入口６１１内部又は入口６１１を介して配置され得、リザーバの壁厚みが相対的に大きい可能性がある際に、磁気部材と磁気ディテクタとの間のより小さな距離を可能にする。代替又は追加として、センサは、音響波を放出するための音響放出器と、クローズドエンド６４０ａの位置を決定できるようにするベローズ６４０のクローズドエンド６４０ａの一部であるか又はクローズドエンド６４０ａに接続された、音響放出器によって放出され、表面で反射された、音響波を受け取るための音響受信器とを、含み得る。音響放出器及び受信器は、単一構成要素を形成するように統合され得る。
【0116】
[000115] 図６は、液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の別の実施形態に従った装置７００を概略的に示す。装置７００は、図２の燃料放出器１１１１の装置１１１２であってよい。
【0117】
[000116] 装置７００は、図５の装置６００と同様である。相違点は加圧システム内にある。装置７００の他の特徴を過度に繰り返すのを避けるために、下記の説明ではこれらの相違点に注目する。
【0118】
[000117] 加熱チャンバ７２２は、弁７２３を介して油圧シリンダ７２１に接続され、油圧シリンダ７２１は加熱チャンバ７２２のための流体供給として作用する。
【0119】
[000118] 油圧シリンダ７２１は、第１のハウジング部分７２１ａ及び第２のハウジング部分７２１ｂを伴うハウジングと、第１のハウジング部分７２１ａ内の移動可能な第１のピストン部分７２４ａ及び第２のハウジング部分７２１ｂ内の移動可能な第２のピストン部分７２４ｂを伴うピストン７２４と、を有する。第１のピストン部分７２４ａは（したがって第１のハウジング部分７２１ａも）、第２のピストン部分７２４ｂ（及びしたがって第２のハウジング部分７２１ｂも）の断面積よりも大きな断面積を有する。利点は、第１のピストン部分７２４ａ上で作用する圧力流体が、所望のとおり加熱チャンバ７２２に供給されるべき油圧流体内の圧力よりも低い圧力であり得る、という点である。したがって、ピストン７２４は、相対的に低い圧力を相対的に高い圧力に変換することができる。圧力流体は、例えばガスであり得る。
【0120】
[000119] 図７は、液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の別の実施形態に従った装置８００を概略的に示す。図７の装置は、概して図５の例示の実施形態に対応する特徴を有する。したがって、共通の特徴についての参照番号は、２００ずつ増分されている。
【0121】
[000120] 装置８００は、図２の燃料放出器１１１１の装置１１１２であってよい。
【0122】
[000121] 装置８００は、移送システムを介して排出システムに接続されるように構成された、第１のリザーバ８１０を含むリザーバシステムを備える。リザーバシステムは、第１のリザーバ８１０内の液体ターゲット材料を加圧するための加圧システム８２０を更に備える。加圧システム８２０は、入口８１１を介してリザーバ８１０に接続される。装置８００は、分離デバイス８４０を備える。分離デバイス８４０は、下記でより詳細に説明するように、第１のリザーバ内の液体ターゲット材料から油圧流体を分離するように、及び、油圧流体から液体ターゲット材料へと圧力を伝達するように、構成される。
【0123】
[000122] 例示の実施形態において、分離デバイス８４０は、油圧流体のための第１のリザーバ内の容積を変化させるために、油圧流体からの圧力の下で変形するように構成された、変形可能部材８４０である。分離デバイス８４０は、例示の目的で、波形又は蛇腹状の側壁を有するベローズとして実装される。
【0124】
[000123] 例示の装置において、加圧システム８２０は、油圧流体から液体ターゲット材料へと圧力を伝達するために、第１のリザーバ８１０内の分離デバイス８４０、例えばベローズの、外部周辺の油圧流体を加圧するように構成される。他の例示の実施形態において、加圧システム８２０は、図３ａ及び図３ｂの実施形態を参照しながら上述したように、油圧流体から液体ターゲット材料へと圧力を伝達するために、第１のリザーバ８１０内の分離デバイス８４０、例えばベローズ内部の、油圧流体を加圧するように構成され得る。
【0125】
[000124] 加圧システム８２０は、加熱チャンバとして構成された第２のリザーバ８２２を充填及び加圧するための油圧流体供給として作用し得る容器８２１を、更に備える。容器８２１は、緊急時の解放及び膨張タンクとしても作用し得る。
【0126】
[000125] 第２のリザーバ８２２は、第１のリザーバ８１０の入口８１１と流体連絡している。
【0127】
[000126] いくつかの実施例において、第２のリザーバ８２２は、例えば第２のリザーバ８２２と入口８１１との間の管を介して、第１のリザーバ８１０を充填するために使用され得る。
【0128】
[000127] 使用中、第２のリザーバ８２２が流体容器８２１を油圧流体供給として使用して十分に充填されると、容器８２１と第２のリザーバ８２２との間の弁８２３が閉じ得る。第２のリザーバ８２２は、好ましくは分離デバイス８４０内のターゲット材料の溶融温度より上の、油圧流体を加熱するために使用され得る。第２のリザーバ８２２内の油圧流体の温度は、油圧流体内の圧力を正確に制御するために使用され得る。圧力センサ８６５は、油圧流体の圧力を感知するために提供され得る。制御ユニット８７０は、油圧流体の感知された実際の圧力及び油圧流体の所望の圧力に依存して、第２のリザーバ８２２内部の油圧流体の温度を制御するために提供され得る。
【0129】
[000128] より具体的には、油圧流体は、油圧流体及び第２のリザーバ８２２の温度が上昇したとき、油圧流体の容積膨張が第２のリザーバ８２２の容積膨張を超え、それによって油圧流体の圧力を増加させるように選択され得る。
【0130】
[000129] 一例として、一実施形態において、油圧流体／液体ターゲット材料の１００ミリメートル未満の移動可能容積が予見され得る。実施形態において、最大移動可能容積は、第２のリザーバ８２２のサイズ及び分離デバイス８４０の変形の範囲、例えば分離デバイス８４０が支持する膨張の程度によって制約され得る。更に、例えばヒータの最大温度に起因する油圧流体の最大温度は、分離デバイス８４０の動き及び／又は変形も制限し得る。
【0131】
[000130] 第２のリザーバ８２２内の油圧流体を加熱することによって発生する膨張の量、及びしたがって圧力の量は、非限定的な例を参照して下記で説明するように、選択された油圧流体の特性及び第２のリザーバ８２２の特性に依存し得る。
【0132】
[000131] 非限定的な例において、５０Ｃから２５０Ｃの第２のリザーバにおける温度範囲が、油圧流体膨張に使用され得る。既知の油圧流体の容積熱膨張係数は、＝０．０００８／Ｋ ＝８００ＰＰＭ／Ｋの範囲内であり得る。したがって、油圧流体を５０Ｃから２５０Ｃまで加熱するとき、油圧流体は、０．０００８＊２００＝０．１６＝１６％だけ膨張し得る。
【0133】
[000132] 例えば、閉鎖容積内での温度の上昇によって生じる圧力増加に起因して、油圧流体が圧縮されるとき、油圧流体は容積もある程度まで減少し得る。既知の油圧流体の圧縮率は、５Ｅ－１０Ｐａ－１の範囲内であり得る。言い換えれば、圧縮率の逆数である体積弾性率は、２ＧＰａの範囲内であり得る。
【0134】
[000133] ターゲット圧力は、１４００バール＝１．４Ｅ３＊１Ｅ５＝１．４Ｅ８ Ｐａの範囲内であり得る。圧力下で、油圧流体は、１．４Ｅ８／２Ｅ９＝７Ｅ－２＝７％だけ圧縮し得る。したがって、油圧流体の容積全体が、およそ１６－７＝９％だけ増加し得る。
【0135】
[000134] 第２のリザーバ８２２の容積膨張も、第２のリザーバ８２２の温度の上昇に起因して生じる。例えば、３次元の各々における２０ＰＰＭの推定される熱膨張係数（ＣＴＥ）について、温度の上昇に起因する第２のリザーバの膨張は、６０ＰＰＭ／Ｋの範囲内である。
【0136】
[000135] 上記の例を続けると、５０Ｃから２５０Ｃまでの温度の上昇の場合、第２のリザーバの容積が、およそ６０ＰＰＭ＊２００Ｋ＝１．２％だけ増加し得る。
【0137】
[000136] したがって、２００Ｋ周辺の温度の上昇に起因する既知の油圧流体の使用可能容積全体の増加は、１６－７－１．２＝およそ７．８％である。
【0138】
[000137] すなわち、既知の油圧流体及び第２のリザーバ８２２の温度が上昇するとき、油圧流体の容積膨張は第２のリザーバ８２２の容積膨張を超え、それによって、油圧流体の圧力を上昇させ、分離デバイス８４０によって油圧流体から伝達される圧力を介して、液体ターゲット材料の圧力を増加させるために、既知の油圧流体の使用可能容積の増加を提供する。
【0139】
[000138] 既知の油圧流体についての非限定的な例の上記の説明を続けると、第２のリザーバが１リットルの既知の油圧流体を保持するように構成された場合、第２のリザーバは、１００～２００Ｃだけ温度を上昇させることによって、１４００バール圧力において５０～１００ｍｌの範囲内で追い出し得る。
【0140】
[000139] 例において、第２のリザーバ８２２は、第２のリザーバ８２２によって画定される容積内に配設され、第２のリザーバ８２２内に保持される油圧流体と直接接触するように構成された、内部加熱要素８５０を備える。
【0141】
[000140] 例示の実施形態において、内部加熱要素８５０は、正確な圧力規制を可能にするために、要素又はワイヤの加熱が制御可能、例えばオン及びオフを迅速に切り替え可能であるように構成された、加熱要素又はワイヤを備え得る。例において、内部加熱要素８５０は、使用中、油圧流体内に配設されるように構成された、タングステンワイヤを備え得る。すなわち、油圧流体と直接接触している内部加熱要素８５０を有することによって、高速温度応答が達成され得る。
【0142】
[000141] 例において、第２のリザーバ８２２は、第２のリザーバ内に保持される油圧流体を加熱又は冷却するための、第２のリザーバ８２２の側壁の温度を制御するように構成された、外部加熱及び／又は冷却要素８５５も備える。
【0143】
[000142] 図７の例示の実施形態では、外部冷却要素８５５のみが示されている。しかしながら、いくつかの例では、追加の外部加熱要素が実装可能であるか、又は、外部冷却要素８５５も加熱要素として構成可能であるかの、いずれかであり得る。圧力が低下する事象において第２のリザーバ８２２の熱制御を維持するために、外部冷却要素８５５を使用して、第２のリザーバ８２２の温度を低下させることが必要であり得る。
【0144】
[000143] 図７には、容器８２１上の真空接続８６０も示されている。第２のリザーバ８２２への供給タンクとして作用し得る容器８６０は、油圧流体内のガス、例えば空気の気泡なしに充填されることが望ましい場合がある。これは、こうした気泡が、油圧流体の圧縮率に対して高度に圧縮可能であり、したがって加圧システム８２０の効率に著しく影響を与え得るためである。
【0145】
[000144] 使用中、容器８２１は、示された戻りライン８６５などの、入口を介して充填され得、真空接続は、容器８２１内の１０ｍｂａｒの範囲内などの低圧力を維持するために使用され、それによって油圧流体をガス抜きし得る。
【0146】
[000145] ドレインタンク８７０も示されている。ドレインタンク８７０は弁８７１を介して第２のリザーバ８２２に接続され得る。第２のリザーバ８２２の急速冷却が必要な場合、第２のリザーバ８２２からの油圧流体は、ドレインタンク８７０に向けてフラッシュされ得る。新鮮な油圧流体が、容器８２１から取り出されて第２のリザーバ８２２に供給され得る。このようにして、第２のリザーバ８２２の温度が急速にリセット可能である。更に、説明するシステムはクローズドシステムであり、それによって油圧流体の流出機会を最小限にし、汚染のリスクを最小限にする。
【0147】
[000146] 場合によっては、油圧流体の交換が必要な可能性がある。例えば、上昇した温度及び／又は圧力が、油圧流体を経時的に劣化させる可能性がある。戻りライン８６５はドレインタンク８７０と共に、油圧流体リフレッシュメントシステムを提供し得る。
【0148】
[000147] 油圧流体は、第１のリザーバ８１０及び第２のリザーバ８２２から除去され、ドレインタンク８７０に格納され得る。その後、新しい油圧流体が容器８２１から供給され得る。
【0149】
[000148] 使用中、第２のリザーバ８２２内の油圧流体は事前加圧され得る。例えば、加圧ガスを使用して油圧流体を事前加圧することができる。第２のリザーバ８２２の温度を上昇させずに、油圧流体の圧力を上昇させ得る。これは有利なことに、加熱サイクルの始めに、第２のリザーバ８２２を加熱することによってより高速な圧力増加を可能にし得る。更に、これはまた有利なことに、第２のリザーバ８２２内の最大加熱温度をより低くし得る。
【0150】
[000149] 他の実施形態において、事前加圧は他の手段によって実装され得る。例えば、図６に示されたような油圧シリンダ７２１配置を使用して、第２のリザーバ内の油圧流体を事前加圧し得る。
【0151】
[000150] すなわち、いくつかの例において、第２のリザーバ８２２内の油圧流体は、図６の油圧シリンダ７２１配置などのコース方法を使用して、およそ１４００バールなどの高圧まで事前加圧され得る。その後、液滴発生の間、油圧流体の圧力の微細な規制は、第２のリザーバ８２２の温度を制御することによって制御され得る。
【0152】
[000151] 装置８００の使用の例示的方法は、下記のとおりである。
【0153】
[000152] 第１のリザーバ８１０及び第２のリザーバ８２２を油圧流体で最初に充填する場合、容器８２１と第２のリザーバとの間の弁８２３が開かれ、油圧流体が第１のリザーバ８１０及び第２のリザーバ８２２を充填できるようになる。前述のように、被制御圧力を使用して、油圧流体をガス抜きし得る。
【0154】
[000153] 更にまた前述のように、いくつかの実施例において、事前加圧は、加圧ガスの使用を介して、又は油圧シリンダ配置によっての、いずれかで実施し得る。
【0155】
[000154] 次いで弁８２３が閉じられ、第２のリザーバ８２２の加熱による加圧が開始され得る。分離デバイス８４０によって液体ターゲット材料から分離された第１のリザーバ８１０内の油圧流体は、下記でより詳細に説明するように、第１のリザーバ８１０の加熱が開始したときに、膨張もすることになる。
【0156】
[000155] いくつかの例において、システムから圧力を即時に除去しなければならない場合、弁８２３を作動させて、油圧流体の流れを容器８２１内に戻すことができる。
【0157】
[000156] 容器８２１は、不活性ガスによって加圧し得るか、又は真空に保ち得る。
【0158】
[000157] 迅速ベントの後、再度加圧を開始しなければならないとき、油圧流体を冷却することが望ましい可能性がある。油圧流体が冷却される際、油圧流体は容器８２１から第２のリザーバ８２２内へと流れる。同時に、システムが油圧流体の既知の容積にリセットされるように、第１のリザーバ８１０内の油圧流体をつぎ足し得る。次いで、弁８２３は閉じられ、加熱サイクルが開始可能である。
【0159】
[000158] いくつかの例において、例えば、最大許容可能圧力を超えた場合、容器８２１内への油圧流体の流入を許可することによって圧力を解放するために、バーストデバイス（図示せず）などの受動圧安全デバイスを、弁８２３の近くに取り付けることができる。他の例において、解放弁は、圧力を低減及び／又は除去するように実装され得る。
【0160】
[000159] 図５、図６、及び図７は各々、単一の装置６００、７００、８００のみを示しているが、完全な実施形態は、図４の例に示されるように２つの装置を備え得る。すなわち、実施形態は、第１の装置６００、７００、８００及び第２の装置６００、７００、８００を備え、各々が上述のように図５、図６、又は図７の装置に対応し、各々が移送システムによって排出システムに流体連絡で結合されている。
【0161】
[000160] いくつかの例において、移送システムは、液体ターゲット材料を、第１の装置６００、７００、８００及び第２の装置６００、７００、８００から排出システム１１０４に交互に供給するように構成され得る。いくつかの例において、移送システムは、第１及び第２の装置６００、７００、８００の各々の第１のリザーバ６１０、７１０、８１０内の圧力を均等化し、第１の装置及び第２の装置６００、７００、８００の両方から排出システム１１０４に液体ターゲット材料を供給するように、構成され得る。すなわち、第１の装置の第１のリザーバ６１０、７１０、８１０が充填され得、その後、この第１のリザーバ６１０、７１０、８１０内の圧力は、両方の装置が液体ターゲット材料をしばらくの間排出システム１１０４に供給するように、第２の装置６００、７００、８００の第１のリザーバ６１０、７１０、８１０内の圧力と均等化され得る。ある時点で、油圧流体圧力レベルが低くなったとき、第１の装置６００、７００、８００の第１のリザーバ６１０、７１０、８１０は、液体ターゲット材料の新しい負荷を取り込んで加圧するための準備をする。液体ターゲット材料のこの新しい負荷の圧力は、その後、第２の装置６００、７００、８００の第１のリザーバ６１０、７１０、８１０と均等化され得るなどとなる。
【0162】
【0163】
[000162] 図８ａ（ＸＺ断面）及び図８ｂ（ＹＺ断面）の装置９００内部の容積がリザーバを画定し、前述の、例えば図５、図６、及び図７の実施形態のうちのいずれかの、リザーバ６１０、７１０、８１０に対応し得る。
【0164】
[000163] リザーバにおいて、分離デバイス９０５が、ベローズ、例えば変形可能な波形の側壁を備えるベローズとして提供される。
【0165】
[000164] 分離デバイス９０５は、分離デバイス９０５の外部周辺の油圧流体９１０を、分離デバイス９０５内の液体ターゲット材料９１５、例えばスズから分離する。
【0166】
[000165] リザーバの上部表面における入口９２０が、図７に示されるように、加圧された油圧流体９１０を装置９００に供給するために、第２のリザーバ、例えば第２のリザーバ８２２に結合され得る。
【0167】
[000166] リザーバの下部表面における出口９２５が、液体ターゲット材料９１５を排出システム１１０４に提供するために、移送システム（図８ａ及び図８ｂには図示せず）に結合され得る。図８ｂにおいて、液体ターゲット材料９１５を出口９２５に運ぶための供給導管９３０が示される。
【0168】
[000167] 一例において、リザーバは、１４００バール圧力を超えて耐えるように構成された、厚壁ステンレス鋼圧力容器として提供される。
【0169】
[000168] 例示の装置９００は、リザーバによって画定された容積内に配設され、リザーバによって画定された容積に制御可能に熱を印加するように構成された、１対の内部加熱要素９３０ａ、９３０ｂを備える。１対の加熱要素９３０ａ、９３０ｂが示されているが、他の実施形態では、わずかに単一の加熱要素、又は２つより多くの加熱要素が実装され得る。
【0170】
[000169] 各例示の加熱要素９３０ａ、９３０ｂは、リザーバの出口９２５の領域から遠くへ延在する細長い加熱要素として実装される。
【0171】
[000170] 装置９００は、矢印９４０によって表される、リザーバによって画定された容積の外側に配設され、リザーバに熱を制御可能に印加するように構成された、少なくとも１つの外部加熱要素も備える。少なくとも１つの外部加熱要素９４０は、リザーバの異なる領域に被制御順に熱を印加するように構成され得る。
【0172】
[000171] 使用中、装置９００を動作温度まで加熱するとき、ターゲット材料は液体ターゲット材料９１５を提供するために溶融し得る。一例において、液体ターゲット材料９１５は、固体から液体への移行において３％の容積変化を表し得る、スズを含む。こうした容積変化は、装置９００が被制御様式で加熱されない場合、液体スズ閉じ込めに起因して、結果として分離デバイス９０５の障害を生じさせ得る。
【0173】
[000172] したがって、実施形態において、被制御ターゲット材料溶融順序は、少なくとも１つの外部加熱要素９４０及び内部加熱要素９３０ａ、９３０ｂを使用して実装され得る。
【0174】
[000173] 一例において、被制御ターゲット材料溶融順序は、出口９２５の領域から始まり、リザーバの頂部側へと向かい、分離デバイス９０５内部から、分離デバイス９０５の外側へと放射状にも向かう。
【0175】
[000174] 有利なことに、こうした被制御溶融順序、及び具体的には、ターゲット材料をリザーバの内部から外部へと放射状に加熱するために、内部加熱要素９３０ａ、９３０ｂを提供することは、液体スズ閉じ込めの発生を防ぎ得る。
【0176】
[000175] 組み合わせられた内部及び外部加熱概念の更なる利点は、油圧流体の耐用年数を増加させるより低い平均流体温度の使用；リザーバの全体温度の低下；適用可能材料における設計の自由さ、例えば金属シールの代わりのＯリングの使用；歩留まり及び最大抗張力は温度と共に劣化し得るため、材料強度の増加；及び、液体ターゲット材料漏れの場合のアグレッシブな液体ターゲット材料との接触からのリザーバ材料の保護を含む。
【0177】
【0178】
[000177] 一例において、ホールセンサなどの非接触センサ９５０ａ～ｄが実装され得る。センサ９５０ａ～ｄは、リザーバの側壁を介して伝搬する１つ以上の磁石９６５からの磁場を感知することによって、分離デバイス９０５の変位を検出するように構成され得る。
【0179】
[000178] 図９ｂは、分離デバイス９０５の変位に関する非接触センサ位置における磁束のシミュレーションの一例を示す。図９ｂでは、感知された磁束密度が、第１のホールセンサＳ１と第２のホールセンサＳ２との間で明らかに変動していることがわかる。すなわち、１つ以上の磁石９６５からおよそ４０ミリメートルの距離にホールセンサＳ１及びＳ２を備える、示された例示の実施形態において、センサＳ１及びＳ２によって感知された磁束密度における変動は、センサＳ１及びＳ２に関する１つ以上の磁石９６５の変位に対応する。非限定的な例において、１０マイクロメートルの範囲内での１つ以上の磁石９６５の変位における分解能が取得され得、これは液体ターゲット材料のおよそ０．０２ｍｌの容積の変動に相当し得る。
【0180】
[000179] わずかに単一のセンサが実装され得るが、図９ａの例では、４つのセンサ９５０ａ、９５０ｂ、９５０ｃ、９５０ｄが実装される。これは、有益なことに、望ましくない変形、例えば、分離デバイスの傾斜又は非均一変形の検出を可能にし得る。これは、有益なことに、センサ障害の場合にも冗長性を提供し得る。
【0181】
[000180] 一例では、処理手段（図示せず）は、少なくとも１つのセンサ９５０ａ～ｄに結合され得、分離デバイス９０５の感知された変位に基づいて、リザーバ内の液体ターゲット材料９１５のレベル、分離デバイス９０５の変位が上限又は下限閾値を超えていること、及び／又は、分離デバイス９０５の変位が予測値から逸脱していることを、決定するように構成され得る。これは、分離デバイス９０５の障害の検出において有利であり得、液体ターゲット材料９１５及び／又は油圧流体９１０は、分離デバイス９０５の障害地点を介して漏れ得、潜在的にリザーバの側壁を損傷させ、並びに／或いは、排出システム１１０４の動作及び放射の生成に影響を与える。
【0182】
[000181] 図１０は、液体ターゲット材料をリソグラフィ放射源に供給するための、本発明の更に別の実施形態に従った装置１０００を概略的に示す。装置１０００は、図２における燃料放出器１１１１の装置１１１２であってよい。
【0183】
[000182] 装置１０００は、油圧流体のための入口１０１１及び液体ターゲット材料のための出口１０４０を有する、リザーバ１０１０を伴うリザーバシステムを含む。油圧流体及び液体ターゲット材料は、メンブレン１０４０を含む変形可能部材を使用して互いに分離される。それらの利点は、油圧流体のための容積及び液体ターゲット材料のための容積が、２つの媒体が互いに接することなく変動し得ることである。例えば柔軟性及び／又は弾力性によって生じるメンブレン１０４０の変形可能性は、容積の各組み合わせに適合させることが可能であり、それによって、加圧された液体ターゲット材料を排出システムに供給するために、油圧流体が液体ターゲット材料に圧力を印加することができる。メンブレンは、好ましくは、油圧流体及び／又はターゲット材料に対して非浸透性である。
【0184】
[000183] 前述の実施形態のうちのいくつかはベローズを含むが、代替として、変形可能部材はブラダ又はバルーンとして形成され得る。
【0185】
[000184] 上記の実施形態において、加圧システムによって液体ターゲット材料に印加される圧力は、少なくとも３００バール、好ましくは少なくとも４００バール、より好ましくは少なくとも５００バール、更により好ましくは少なくとも６００バールであり得、例えば少なくとも７００バール、少なくとも９００バール、少なくとも１１００バール、又は少なくとも１３００バールであり得る。
【0186】
[000185] 上記で指定していないが、油圧流体は、任意の好適な油圧流体、例えば水（圧力が４０バールより上であり、温度が２６０度の液体）、グリコール、セバシン酸ビス（２－エチルヘキシル）などのセバシン酸オイル、又は、ガルデンＨＴなどのパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）オイルであり得る。
【0187】
[000186] 本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。考えられる他の用途は、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンス及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。
【0188】
[000187] 本明細書ではリソグラフィ装置に関連して本発明の実施形態について具体的な言及がなされているが、本発明の実施形態は他の装置に使用することもできる。本発明の実施形態は、マスク検査装置、メトロロジ装置、又はウェーハ（あるいはその他の基板）もしくはマスク（あるいはその他のパターニングデバイス）などのオブジェクトを測定又は処理する任意の装置の一部を形成してよい。これらの装置は一般にリソグラフィツールと呼ばれることがある。このようなリソグラフィツールは、真空条件又は周囲（非真空）条件を使用することができる。
【0189】
[000188] 以上では光学リソグラフィと関連して本発明の実施形態の使用に特に言及しているが、本発明は、例えばインプリントリソグラフィなど、その他の適用例において使用されてもよく、文脈が許す限り、光学リソグラフィに限定されないことが理解されるであろう。
【0190】
[000189] 文脈上許される場合、本発明の実施形態は、ハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア、又はそれらの任意の組み合わせにおいて実装することができる。本発明の実施形態は、１つ以上のプロセッサにより読み取られて実行され得る、機械可読媒体に記憶された命令として実装することも可能である。機械可読媒体は、機械（例えばコンピューティングデバイス）により読み取り可能な形態で情報を記憶又は伝送するための任意の機構を含むことができる。例えば機械可読媒体は、読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、磁気記憶媒体、光記憶媒体、フラッシュメモリデバイス、電気、光、音響又は他の形態の伝搬信号（例えば搬送波、赤外信号、デジタル信号など）、及び他のものを含むことができる。さらに、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令は、特定のアクションを実行するものとして本明細書で説明されることがある。しかしながら、そのような説明は単に便宜上のものであり、そのようなアクションは実際には、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令などを実行するコンピューティングデバイス、プロセッサ、コントローラ、又は他のデバイスから生じ、実行する際、アクチュエータ又は他のデバイスが物質世界と相互作用し得ることを理解すべきである。
【0191】
[000190] 以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることは理解されよう。上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。
【0192】
（条項）
１．液体ターゲット材料を放射源に供給するための装置であって、排出システムに接続されるように構成されたリザーバ、及び、リザーバ内の液体ターゲット材料を加圧するための加圧システムを含む、リザーバシステムを備え、加圧システムは、圧力流体、例えば油圧流体から、液体ターゲット材料へと圧力を伝達するように構成され、液体ターゲット材料及び圧力流体のためにリザーバ内に可変容積を形成するように構成された、変形可能部材などの分離デバイスを備える、装置。
２．加圧システムが、少なくとも３００バール、好ましくは少なくとも７００バール、より好ましくは少なくとも９００バール、更により好ましくは少なくとも１１００バール、及び最も好ましくは少なくとも１３００バールの圧力を印加するように構成される、条項１に記載の装置。
３．変形可能部材がメンブレンを備える、条項１又は２に記載の装置。
４．変形可能部材がベローズを備える、条項１又は２に記載の装置。
５．ベローズがベローズ内部で圧力流体を保持するように構成される、条項４に記載の装置。
６．ベローズがベローズ内部で液体ターゲット材料を保持するように構成される、条項４に記載の装置。
７．ベローズが、クローズドエンド、オープンエンド、及び、クローズドエンドとオープンエンドとの間に延在する変形可能側壁を伴う、管形状を有する、条項４から６のいずれかに記載の装置。
８．変形可能部材が、ベローズのクローズドエンドを形成する剛性部材を更に含む、条項７に記載の装置。
９．剛性部材が、加圧システムの圧力流体と第２の圧力流体、例えばガスとの間にバリアを提供し、加圧システムが、ベローズを変形させるために剛性部材に第２の圧力流体を印加するように、及び、反対圧力を提供するために変形可能側壁に圧力流体を印加するように構成される、条項８に記載の装置。
１０．加圧システムが、圧力流体内の圧力を液体ターゲット材料内の圧力と実質的に等しく維持するように構成された圧力規制システムを備える、条項９に記載の装置。
１１．加圧システムが、リザーバ内のベローズのクローズドエンドの位置を決定するためのセンサを備える、条項７から１０のいずれかに記載の装置。
１２．リザーバシステムが、リザーバを加熱するための加熱システムを更に備える、条項１から１１のいずれかに記載の装置。
１３．圧力流体及び変形可能部材の少なくとも一部が、加熱システムによって発生させられた熱を液体ターゲット材料に導くように構成される、条項１２に記載の装置。
１４．リザーバが、リザーバ内の変形可能部材の変形を誘導するための１つ以上の誘導要素を備える、条項１から１３のいずれかに記載の装置。
１５．加圧システムが、圧力流体を変形可能部材に印加するように構成される、条項１から８のいずれかに記載の装置。
１６．リザーバが、排出システム又は圧力流体供給システムに接続されるコネクタ部分を伴う壁部分を備える、条項１から１５のいずれかに記載の装置。
１７．壁部分が、ねじ接続を使用してリザーバに接続される、条項１６に記載の装置。
１８．コネクタ部分がベローズの一部であり、壁部分内の開口において又は開口を介して延在する、条項４及び条項１６又は１７の組み合わせに記載の装置。
１９．コネクタ部分がベローズのオープンエンドに配置され、ベローズは、ベローズ内部の媒体がリザーバと接触しないように、オープンエンドを伴う壁部分に接続される、条項７及び条項１８の組み合わせに記載の装置。
２０．変形可能部材が、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン、タングステン、タンタル、モリブデンのうちの、１つ以上の材料を含む、条項１から１９のいずれかに記載の装置。
２１．リザーバシステムが第１のリザーバシステムであり、装置が、第１のリザーバシステムと直列に排出システムに接続されるように構成された同様の第２のリザーバシステムを更に備える、条項１から２０のいずれかに記載の装置。
２２．リザーバシステムが第１のリザーバシステムであり、装置が、第１のリザーバシステムと並列に排出システムに接続されるように構成された同様の第２のリザーバシステムを更に備える、条項１から２０のいずれかに記載の装置。
２３．ターゲット材料がスズである、条項１から２２のいずれかに記載の装置。
２４．ターゲット材料を含む固形物を受け取るように構成されたプライミングシステムと、プライミングシステムからリザーバシステムへと延在する移送システムとを更に備え、移送システムは、プライミングシステムとリザーバシステムとの間にターゲット材料のための流路を提供するように構成される、条項１から２３のいずれかに記載の装置。
２５．移送システムが、プライミングシステムからのターゲット材料の流れを制御するように構成された規制装置を更に備える、条項２４に記載の装置。
２６．条項１から２５のいずれかに記載の装置及び排出システムを備える燃料放出器。
２７．排出システムが、液滴のストリームをプラズマ形成ロケーションへと排出するように構成される、条項２６に記載の燃料放出器。
２８．液滴のストリームを監視するための液滴監視デバイスを更に備える、条項２７に記載の燃料放出器。
２９．液滴監視デバイスの出力に基づいて、加圧システムによってリザーバ内の液体ターゲット材料に印加される圧力を調整するために、液滴監視デバイスと加圧システムとの間に配置された制御ユニットを更に備える、条項２８に記載の燃料放出器。
３０．液滴監視デバイスの出力に基づいて、排出システムの動作を調整するために、液滴監視デバイスと排出システムとの間に配置された制御ユニットを更に備える、条項２８に記載の燃料放出器。
３１．条項２６から３０のいずれかに記載の燃料放出器を備える、リソグラフィツールのための放射源。
３２．放射源がＥＵＶ放射を出力するように構成される、条項３１に記載の放射源。
３３．放射源がレーザ生成プラズマ源である、条項３１又は３２に記載の放射源。
３４．条項３１から３３のいずれかに記載の放射源を備える、リソグラフィ装置。
３５．液体ターゲット材料を放射源に供給するための方法であって、リザーバ内の液体ターゲット材料が、圧力流体を使用して変形可能部材を加圧することによって加圧され、変形可能部材が圧力流体から液体ターゲット材料へと圧力を伝達し、変形可能部材によって可能にされる液体ターゲット材料のための容積を変動させることによって、液体ターゲット材料がリザーバから又はリザーバへ供給される、方法。
３６．液体ターゲット材料が、少なくとも３００バール、好ましくは少なくとも７００バール、より好ましくは少なくとも９００バール、更により好ましくは少なくとも１１００バール、及び最も好ましくは少なくとも１３００バールの圧力まで加圧される、条項３５に記載の方法。
１．液体ターゲット材料を放射源に供給するための装置であって、排出システムに接続されるように構成されたリザーバ、及び、リザーバ内の液体ターゲット材料を加圧するための加圧システムを含む、リザーバシステムを備え、加圧システムは、圧力流体、例えば油圧流体から、液体ターゲット材料へと圧力を伝達するように構成され、液体ターゲット材料及び圧力流体のためにリザーバ内に可変容積を形成するように構成された、変形可能部材などの分離デバイスを備える、装置。
２．加圧システムが、少なくとも３００バール、好ましくは少なくとも７００バール、より好ましくは少なくとも９００バール、更により好ましくは少なくとも１１００バール、及び最も好ましくは少なくとも１３００バールの圧力を印加するように構成される、条項１に記載の装置。
３．変形可能部材がメンブレンを備える、条項１又は２に記載の装置。
４．変形可能部材がベローズを備える、条項１又は２に記載の装置。
５．ベローズがベローズ内部で圧力流体を保持するように構成される、条項４に記載の装置。
６．ベローズがベローズ内部で液体ターゲット材料を保持するように構成される、条項４に記載の装置。
７．ベローズが、クローズドエンド、オープンエンド、及び、クローズドエンドとオープンエンドとの間に延在する変形可能側壁を伴う、管形状を有する、条項４から６のいずれかに記載の装置。
８．変形可能部材が、ベローズのクローズドエンドを形成する剛性部材を更に含む、条項７に記載の装置。
９．剛性部材が、加圧システムの圧力流体と第２の圧力流体、例えばガスとの間にバリアを提供し、加圧システムが、ベローズを変形させるために剛性部材に第２の圧力流体を印加するように、及び、反対圧力を提供するために変形可能側壁に圧力流体を印加するように構成される、条項８に記載の装置。
１０．加圧システムが、圧力流体内の圧力を液体ターゲット材料内の圧力と実質的に等しく維持するように構成された圧力規制システムを備える、条項９に記載の装置。
１１．加圧システムが、リザーバ内のベローズのクローズドエンドの位置を決定するためのセンサを備える、条項７から１０のいずれかに記載の装置。
１２．リザーバシステムが、リザーバを加熱するための加熱システムを更に備える、条項１から１１のいずれかに記載の装置。
１３．圧力流体及び変形可能部材の少なくとも一部が、加熱システムによって発生させられた熱を液体ターゲット材料に導くように構成される、条項１２に記載の装置。
１４．リザーバが、リザーバ内の変形可能部材の変形を誘導するための１つ以上の誘導要素を備える、条項１から１３のいずれかに記載の装置。
１５．加圧システムが、圧力流体を変形可能部材に印加するように構成される、条項１から８のいずれかに記載の装置。
１６．リザーバが、排出システム又は圧力流体供給システムに接続されるコネクタ部分を伴う壁部分を備える、条項１から１５のいずれかに記載の装置。
１７．壁部分が、ねじ接続を使用してリザーバに接続される、条項１６に記載の装置。
１８．コネクタ部分がベローズの一部であり、壁部分内の開口において又は開口を介して延在する、条項４及び条項１６又は１７の組み合わせに記載の装置。
１９．コネクタ部分がベローズのオープンエンドに配置され、ベローズは、ベローズ内部の媒体がリザーバと接触しないように、オープンエンドを伴う壁部分に接続される、条項７及び条項１８の組み合わせに記載の装置。
２０．変形可能部材が、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン、タングステン、タンタル、モリブデンのうちの、１つ以上の材料を含む、条項１から１９のいずれかに記載の装置。
２１．リザーバシステムが第１のリザーバシステムであり、装置が、第１のリザーバシステムと直列に排出システムに接続されるように構成された同様の第２のリザーバシステムを更に備える、条項１から２０のいずれかに記載の装置。
２２．リザーバシステムが第１のリザーバシステムであり、装置が、第１のリザーバシステムと並列に排出システムに接続されるように構成された同様の第２のリザーバシステムを更に備える、条項１から２０のいずれかに記載の装置。
２３．ターゲット材料がスズである、条項１から２２のいずれかに記載の装置。
２４．ターゲット材料を含む固形物を受け取るように構成されたプライミングシステムと、プライミングシステムからリザーバシステムへと延在する移送システムとを更に備え、移送システムは、プライミングシステムとリザーバシステムとの間にターゲット材料のための流路を提供するように構成される、条項１から２３のいずれかに記載の装置。
２５．移送システムが、プライミングシステムからのターゲット材料の流れを制御するように構成された規制装置を更に備える、条項２４に記載の装置。
２６．条項１から２５のいずれかに記載の装置及び排出システムを備える燃料放出器。
２７．排出システムが、液滴のストリームをプラズマ形成ロケーションへと排出するように構成される、条項２６に記載の燃料放出器。
２８．液滴のストリームを監視するための液滴監視デバイスを更に備える、条項２７に記載の燃料放出器。
２９．液滴監視デバイスの出力に基づいて、加圧システムによってリザーバ内の液体ターゲット材料に印加される圧力を調整するために、液滴監視デバイスと加圧システムとの間に配置された制御ユニットを更に備える、条項２８に記載の燃料放出器。
３０．液滴監視デバイスの出力に基づいて、排出システムの動作を調整するために、液滴監視デバイスと排出システムとの間に配置された制御ユニットを更に備える、条項２８に記載の燃料放出器。
３１．条項２６から３０のいずれかに記載の燃料放出器を備える、リソグラフィツールのための放射源。
３２．放射源がＥＵＶ放射を出力するように構成される、条項３１に記載の放射源。
３３．放射源がレーザ生成プラズマ源である、条項３１又は３２に記載の放射源。
３４．条項３１から３３のいずれかに記載の放射源を備える、リソグラフィ装置。
３５．液体ターゲット材料を放射源に供給するための方法であって、リザーバ内の液体ターゲット材料が、圧力流体を使用して変形可能部材を加圧することによって加圧され、変形可能部材が圧力流体から液体ターゲット材料へと圧力を伝達し、変形可能部材によって可能にされる液体ターゲット材料のための容積を変動させることによって、液体ターゲット材料がリザーバから又はリザーバへ供給される、方法。
３６．液体ターゲット材料が、少なくとも３００バール、好ましくは少なくとも７００バール、より好ましくは少なくとも９００バール、更により好ましくは少なくとも１１００バール、及び最も好ましくは少なくとも１３００バールの圧力まで加圧される、条項３５に記載の方法。
【図1】
【図2】
【図3a】
【図3b】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8a】
【図8b】
【図9a】
【図9b】
【図10】
【手続補正書】
【提出日】2024-06-26
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
液体ターゲット材料を放射源に供給するための装置であって、第１のリザーバと、
油圧流体を加圧するように構成された加圧システムと、
前記油圧流体を前記第１のリザーバ内の前記液体ターゲット材料から分離するように、及び、前記油圧流体から前記液体ターゲット材料へと圧力を伝達するように、構成された分離デバイスと、
を備える、装置。
【請求項2】
前記分離デバイスは、前記油圧流体のための前記第１のリザーバ内の容積を変更するために、前記油圧流体からの前記圧力下で変形するように構成された変形可能部材を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項3】
前記分離デバイスは、波形又は蛇腹状の側壁を有するベローズを備え、
前記加圧システムは、前記油圧流体から前記液体ターゲット材料へと前記圧力を伝達するために、前記リザーバ内部の前記ベローズ内側又は前記ベローズ外部周辺の、前記油圧流体を加圧するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項4】
前記第１のリザーバによって画定される容積の外側に配設され、前記第１のリザーバに熱を制御可能に印加するように構成された、少なくとも１つの外部加熱要素を備え、
前記少なくとも１つの外部加熱要素は、被制御順に前記第１のリザーバの異なる領域まで熱を印加するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項5】
前記第１のリザーバによって画定される前記容積の内部に配設され、前記第１のリザーバによって画定される前記容積に熱を制御可能に印加するように構成された少なくとも１つの内部加熱要素を備え、
前記少なくとも１つの内部加熱要素は、前記第１のリザーバの入口／出口領域から遠くへ延在する、少なくとも１つの細長い加熱要素を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項6】
前記第１のリザーバ内部での前記分離デバイスの変位を感知するように構成された少なくとも１つのセンサと、前記少なくとも１つのセンサに結合され、前記分離デバイスの感知された変位に基づいて、前記第１のリザーバにおける液体ターゲット材料のレベル、前記分離デバイスの変位が上限閾値又は下限閾値を超えた旨、及び／又は、前記分離デバイスの変位が予測された値から逸脱している旨、を決定するように構成された処理手段と、
を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項7】
前記加圧システムは、前記油圧流体を保持するように構成され、前記第１のリザーバに前記油圧流体を供給するための前記第１のリザーバとの流体連絡のために構成された第２のリザーバを備え、
前記第２のリザーバは、前記油圧流体に熱を印加するように構成された加熱チャンバとして構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項8】
前記第２のリザーバによって画定される容積内に配設され、前記第２のリザーバ内に保持される前記油圧流体と直接接触するように構成された内部加熱要素、及び／又は、前記第２のリザーバ内に保持された前記油圧流体を加熱又は冷却するために、前記第２のリザーバの側壁の温度を制御するように構成された外部加熱及び／又は冷却要素、
のうちの、少なくとも１つを備える、請求項７に記載の装置。
【請求項9】
油圧流体を前記第２のリザーバに供給するための前記第２のリザーバとの流体連絡のために構成された容器を備え、前記容器が、重力が前記容器から前記第２のリザーバへの油圧流体の流れを誘導するように、前記第２のリザーバの上方に配設されるか、又は、
前記容器が、前記油圧流体を事前加圧するための油圧シリンダを備える、
請求項７又は８に記載の装置。
【請求項10】
前記容器は、入口を備え、前記加圧システムは、前記容器内の前記油圧流体を事前加圧するために加圧流体を前記入口に提供するように構成される、請求項９に記載の装置。
【請求項11】
前記油圧流体は、前記油圧流体及び前記第２のリザーバの温度が上昇するとき、前記油圧流体の容積膨張が前記第２のリザーバの容積膨張を超えるように選択される、請求項１に記載の装置。
【請求項12】
液体ターゲット材料を放射源に供給するための燃料放出器であって、
請求項１に記載の第１の装置と、
請求項１に記載の第２の装置と、を備え、
前記第１の装置及び前記第２の装置は、移送システムによって排出システムへの流体連絡において結合される、燃料放出器。
【請求項13】
請求項１２に記載の燃料放出器を備えるリソグラフィツールのための放射源であって、前記放射源は、ＥＵＶ放射を出力するように構成される、放射源。
【請求項14】
請求項１３に記載の放射源を備える、リソグラフィツール。
【請求項15】
液体ターゲット材料を放射源に供給するステップを含む、集積回路を製造する方法であって、第１のリザーバ内の液体ターゲット材料は、油圧流体から前記液体ターゲット材料へと圧力を伝達するように構成された分離デバイスによって、前記第１のリザーバ内の前記液体ターゲット材料から分離された油圧流体を加圧することによって加圧される、方法。
【国際調査報告】