特表2024-541727半導体処理操作におけるエッジ均一性向上のためのエッジリング

発明の名称　半導体処理操作におけるエッジ均一性向上のためのエッジリング

出願人　ラム　リサーチ　コーポレーション　（識別番号 592010081）

　　　　特許公開件数ランキング 125 位（244件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 135 位（195件）（共同出願を含む）

公報番号　特表-2024-541727

公報発行日　2024年11月11

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_P1-2024-541727

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特表-2024-541727「半導体処理操作におけるエッジ均一性向上のためのエッジリング」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録