▶ カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの特許一覧
特表2024-542837レンズ用のマウント、アセンブリ、リソグラフィシステム、および方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公表特許公報(A)
(11)【公表番号】
(43)【公表日】2024-11-15
(54)【発明の名称】レンズ用のマウント、アセンブリ、リソグラフィシステム、および方法
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20241108BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 501
【審査請求】有
【予備審査請求】未請求
(21)【出願番号】P 2024534022
(86)(22)【出願日】2022-12-06
(85)【翻訳文提出日】2024-08-06
(86)【国際出願番号】 EP2022084493
(87)【国際公開番号】W WO2023104754
(87)【国際公開日】2023-06-15
(31)【優先権主張番号】102021214140.4
(32)【優先日】2021-12-10
(33)【優先権主張国・地域又は機関】DE
(81)【指定国・地域】
(71)【出願人】
【識別番号】503263355
【氏名又は名称】カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
(74)【代理人】
【識別番号】100094569
【弁理士】
【氏名又は名称】田中 伸一郎
(74)【代理人】
【識別番号】100109070
【弁理士】
【氏名又は名称】須田 洋之
(74)【代理人】
【識別番号】100119013
【弁理士】
【氏名又は名称】山崎 一夫
(74)【代理人】
【識別番号】100067013
【弁理士】
【氏名又は名称】大塚 文昭
(74)【代理人】
【識別番号】100120525
【弁理士】
【氏名又は名称】近藤 直樹
(74)【代理人】
【識別番号】100139712
【弁理士】
【氏名又は名称】那須 威夫
(74)【代理人】
【識別番号】100141553
【弁理士】
【氏名又は名称】鈴木 信彦
(74)【代理人】
【識別番号】100196612
【弁理士】
【氏名又は名称】鎌田 慎也
(72)【発明者】
【氏名】ラオ ラダクリシュナ
(72)【発明者】
【氏名】グロリアン ロビン
【テーマコード（参考）】
2H197
【Ｆターム（参考）】
2H197AA06
2H197AA12
2H197BA09
2H197CA06
2H197CA08
2H197FA03
2H197FA04
2H197FB03
(57)【要約】
本発明は、レンズ（１１４）用のマウント（１２６）であって、保持要素（３１６）を有するリング要素（３００）であって、保持要素（３１６）がリング要素（３００）に一体的に接続され、それによって保持要素が円周方向（Ｕ）に相互に離間し、保持要素がレンズ（１１４）を保持するように設計される、リング要素（３００）と、迷光（２１４）をブロックするための絞り（２２６）であって、リング要素（３００）と一体である絞り（２２６）とを備えるマウント（１２６）に関する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
レンズ素子（１１４）用のマウント（１２６）であって、保持要素（３１６）を有するリング要素（３００）であって、前記保持要素（３１６）が、
前記リング要素（３００）に一体的に接続され、
円周方向（Ｕ）に互いに離間され、
前記レンズ素子（１１４）を保持するように構成される、
リング要素（３００）と、
迷光（２１４）を絞るためのストップ（２２６）であって、
前記リング要素（３００）と一体的に形成され、
ストップ（２２６）またはそのストップ要素（７００、７０２、７０４）が、前記保持要素（３１６）から機械的に分離される、
ストップ（２２６）と
を備えるマウント（１２６）。
【請求項2】
前記機械的分離が、前記ストップ（２２６）またはその前記ストップ要素（７００、７０２、７０４）と前記保持要素（３１６）との間の直接的な機械的接続がないことによって引き起こされる、請求項１に記載のマウント。
【請求項3】
前記ストップ（２２６）またはそのストップ要素（７００、７０２、７０４）が、ギャップ（４１０）を用いてそれぞれの保持要素（３１６）から離間される、請求項１または２に記載のマウント。
【請求項4】
前記ストップ（２２６）またはそのストップ要素（７００、７０２、７０４）が、前記円周方向（Ｕ）で少なくとも部分的に、前記保持要素（３１６）の間に配置される、請求項１～３のいずれかに記載のマウント。
【請求項5】
前記ストップ（２２６）またはそのストップ要素（７００、７０２、７０４）が、少なくとも部分的に（４１２）、前記保持要素（３１６）よりも半径方向にさらに内側に配置される、請求項１～４のいずれかに記載のマウント。
【請求項6】
前記ストップ（２２６）が複数のストップ要素（７００、７０２）から構成され、それぞれのストップ要素（７００、７０２）が、少なくとも第１および第２の区間（４０２、４０４）を備え、前記第１の区間（４０２）が、前記リング要素（３００）に一体的に固定され、前記第２の区間（４０４）が、前記円周方向（Ｕ）に前記保持要素（３１６）のうちの１つに隣接して配置される、請求項１～５のいずれかに記載のマウント。
【請求項7】
前記それぞれのストップ要素（７００、７０２）が、前記保持要素（３１６）に半径方向内側に隣接して配置される第３の区間（４１２）を備える、請求項６に記載のマウント。
【請求項8】
それぞれの保持要素（３１６）が２つのストップ要素（７００、７０２）の間に配置され、前記２つのストップ要素（７００、７０２）が、その半径方向の内側の端部（４１４）でそれぞれの保持要素（３１６）の周りに延びる、請求項７に記載のマウント。
【請求項9】
前記ストップ（２２６）または前記それぞれのストップ要素（７００、７０２、７０４）が有効面（７１８）を備え、前記有効面（７１８）が、前記ストップ（２２６）または前記それぞれのストップ要素（７００、７０２、７０４）を軸方向（Ａ）に前記保持要素（３１６）から離れるように曲げるために、曲げ工具用の接続点を形成する、請求項１～８のいずれかに記載のマウント。
【請求項10】
前記それぞれの保持要素（３１６）が、前記レンズ素子（１１４）が載るためのルーフエッジ（３１８）を備え、前記ルーフエッジ（３１８）と、前記ストップ（２２６）またはそれぞれの隣接するストップ要素（７００、７０２、７０４）のルーフエッジ側の面（４２０）との間の軸距離（Ｂ422）が、１ｍｍ未満、好ましくは０．６ｍｍ未満、かつ／または０．１ｍｍ超であり、かつ／あるいはそれぞれの保持要素（３１６）と、前記ストップ（２２６）またはそれぞれのストップ要素（７００、７０２）との間のギャップ（４１０）が、１．５ｍｍ未満、好ましくは０．９ｍｍ未満、かつ／または０．５ｍｍ超の幅（Ｂ410）を有する、請求項１～９のいずれかに記載のマウント。
【請求項11】
前記ストップ（２２６）または前記ストップ要素（７００、７０２、７０４）が、前記ストップ（２２６）または前記ストップ要素（７００、７０２、７０４）のそれぞれの曲げ領域（７２４）、ならびに／あるいは前記リング要素（３００）に配置された１つまたは複数のスルー開口（７２０、７２２、７２６）を備える、請求項１～１０のいずれかに記載のマウント。
【請求項12】
レンズ素子（１１４）と、請求項１～１１のいずれかに記載のマウント（１２６）とを備えるアセンブリ（１０４）、具体的には投影レンズであって、前記保持要素（３１６）が前記レンズ素子（１１４）を保持する、アセンブリ（１０４）。
【請求項13】
請求項１２に記載のアセンブリ（１０４）を備えるリソグラフィ装置（１００）、具体的にはＤＵＶリソグラフィ装置であって、具体的には、別のレンズ素子（１１６）が設けられ、前記ストップ（２２６）が前記レンズ素子（１１４、１１６）の間に配置され、軸方向（Ａ）の前記レンズ素子（１１４、１１６）の間の最小距離（ｄ）が、前記２つのレンズ素子（１１４、１１６）の小さい方の直径（Ｄ114）の１％未満である、リソグラフィ装置（１００）。
【請求項14】
請求項１～１１のいずれかに記載のマウント（１２６）を製造する方法であって、前記マウント（１２６）を得るために一体の生材料ブロックのサブトラクティブ機械処理
のステップを含む方法。
【請求項15】
前記ストップ（２２６）または前記ストップ要素（７００、７０２、７０４）が、軸方向（Ａ）に前記保持要素（３１６）から離れるように曲げられる、請求項１４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、リソグラフィ装置内のレンズ素子用のマウント、アセンブリ、リソグラフィ装置、および前記マウントを製造するための方法に関する。
【背景技術】
【0002】
優先権出願ＤＥ １０ ２０２１ ２１４ １４０．４の内容が、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
【0003】
マイクロリソグラフィは、微細構造構成要素、たとえば集積回路を製造するために使用される。マイクロリソグラフィプロセスは、照射系および投影系（「投影レンズ」とも呼ばれる）を備えるリソグラフィ装置を使用して実施される。照射系によって照射されたマスク（レチクル）の像が、ここでは投影系によって基板、たとえばシリコンウェハ上に投影され、基板は、感光層（フォトレジスト）で被覆され、基板の感光被覆にマスク構造を転写するために投影系の像平面内に配置される。
【0004】
作業光が所望のビーム経路から出る場合、リソグラフィ装置内の迷光が生じる。これは、たとえば作業光がレンズ素子の光学的に有効な表面上に入射し、そこで望ましくない方向に反射する場合に生じる。さらに、たとえば、作業光がレンズ素子の平面表面（plane surface）または面取り面（plane chamfer）上に入射し、そこで望ましくない方向に向けられる状況が生じる。一般的規則として、作業光がそのような平面表面または面取り面に入射することを実際には可能にしないように努力が払われることは確かである。これは、原理上はリソグラフィ装置内の照射設定を用いて制御され得る。しかしながら、照射設定がエンドカスタマ、すなわちチップ製造業者によって変更されることを経験は示している。これは、たとえば、リソグラフィ装置を用いて製造されるチップ上の構造を改善するために行われる。そのような照射設定は、リソグラフィ装置または投影レンズの製造業者にとって常に予見できるものではない。
【0005】
迷光の発生は様々な点で問題となる。まず、これは結像に直接的に悪影響を及ぼし得る。これは、迷光自体が反射して再びビーム経路内に戻り、露光すべき基板に達する場合に生じる。さらに、迷光により、リソグラフィ装置内の光学素子の望ましくない加熱、具体的には局所的な加熱が生じ得る。熱によって引き起こされる、対応するひずみが結像を損なうことがある。さらに、迷光は、リソグラフィ装置のハウジング内の光学素子または他の部品に対して有害な効果を有し得る。具体的には、迷光によって接着剤の分解が生じ得る。
【0006】
したがって、リソグラフィ装置で迷光ストップを使用することが長い間知られてきた。これが、たとえば文書ＤＥ ２０１５ ２０７ １５９ Ａ１で説明さている。したがって前記文書は、レンズ素子材料内に導入される回折格子の形の微細構造化について述べている。さらに、画定された表面粗さが、側壁表面での反射を回避するために使用される。さらに、この文書は、反射コーティングを設ける可能性について述べている。後者は、反射する光を、光を吸収し得るノンクリティカル領域内に向ける。
【発明の概要】
【0007】
この背景に対して、本発明の目的は、レンズ素子用の改良型のマウントを提供することである。
【0008】
したがって、第１の態様によれば、リソグラフィ装置内のレンズ素子用のマウントが提供される。マウントは、
保持要素を有するリング要素であって、保持要素が、
リング要素に一体的に接続され、
円周方向に互いに離間され、
レンズ素子を保持するように構成される、リング要素と、
迷光を絞るためのストップであって、リング要素と一体的に形成されるストップと
を備える。
保持要素を有するリング要素であって、保持要素が、
リング要素に一体的に接続され、
円周方向に互いに離間され、
レンズ素子を保持するように構成される、リング要素と、
迷光を絞るためのストップであって、リング要素と一体的に形成されるストップと
を備える。
【0009】
有利には、リング要素と一体的に形成されたストップまたは迷光ストップが、コンパクトな設計をもたらす。さらに、そのようなストップは、単純な方式で製造され得る。さらに、熱的な利点がもたらされる。これは、一体的接続を介してストップからリング要素内に熱が適切に伝達され得るからである。
【0010】
リング要素は、具体的には環状であり、または卵形リングの形状である。好ましくは、リング要素は閉じた形で実施され、開口を備える。好ましくは、リング要素は内部円周および外部円周を備える。内部円周は開口に面する。外部円周では、リング要素は、たとえばねじ穴などの接続手段を有し得る。接続手段を用いて、マウントはリソグラフィ装置、具体的にはその投影レンズで固定可能である。保持要素は、リング要素の内部円周から内側に突出し得る。好ましくは、保持要素はそれぞれ、リング要素に面する端部と、リング要素から離れる方を向く端部とを有する。好ましくは、リング要素に面するそれぞれの保持要素のその端部は、リング要素と一体的に形成される。好ましくは、保持要素は、円周方向に互いに一様に離間されて配置される。実施形態では、保持要素はそれぞれ、レンズ素子が載る少なくとも１つの縁部（「ルーフエッジ」とも呼ばれる）を備える。好ましくは、レンズ素子は、ルーフエッジの両側の、ルーフエッジに隣接する領域内のそれぞれの保持要素に接着接合される。
【0011】
このケースでは、「一体的に」とは、リング要素が、その保持要素、さらにはストップと共に、１つの部片から、１つの同一の材料から製造されることを意味すると理解されたい。製造は、たとえば鋳造、押出しなどによる、１次形成ステップで行われる。好ましくは、その保持要素、さらにはストップを含むリング要素は、金属、具体的には鋼または何らかの他の合金から製造される。具体的には、たとえばインバーなどのニッケル鉄合金が、材料として適している。
【0012】
好ましくは、後でさらにより詳細に説明されるストップまたはそのストップ要素は、一平面内に延びる。好ましくは、この平面は、リング要素によって囲まれる開口の平面内にあり、またはその平面に対して平行である。好ましくは、ストップまたはそのストップ要素は、リング要素によって画定される開口の少なくとも３％、好ましくは少なくとも５％、さらに好ましくは少なくとも１０％を覆う。
【0013】
「迷光」とは、光学系（たとえば、レンズ素子がその中に設置されるアセンブリまたはリソグラフィ装置）内の所望のビーム経路の外で移動する光を意味すると理解されたい。所望のビーム経路内で移動するその光は、使用される光または作業光と呼ばれる。
【0014】
ストップは複数のストップ要素を備え得る。好ましくは、ストップまたはそのストップ要素は、少なくとも合計で、リング要素の内部円周の３０％超、好ましくは５０％超、さらに好ましくは７０％超、またはリング要素の内部円周に完全に沿って延びる。
【0015】
このケースでは、「レンズ素子」は、その２つの表面の少なくとも一方が湾曲する、透明な、具体的には円盤形の素子を意味する。通過する光は、（収斂レンズ素子のケースでは）光ビームの中心に向かって偏向し、（発散レンズ素子のケースでは）外向きに拡散する。
【0016】
好ましくは、その保持要素およびストップを有するリング要素は、材料ブランクからミリングされ、さらに、こうした部品のうちの１つまたは複数の曲げによって製造されてもよい。
【0017】
マウントは、具体的にはリソグラフィの分野では、具体的には光学系内への組込みのために適切に設計される。それに対応して、ストップは光学系内の迷光を絞る。光学系の例は、投影レンズ、またはレンズ素子を備える、もしくはリソグラフィ装置内の他のアセンブリである。
【0018】
一実施形態によれば、ストップまたはそのストップ要素は、保持要素から機械的に分離される。
【0019】
好ましくは、機械的分離は、ストップまたはそのストップ要素と保持要素との間の直接的な機械的接続がないことによって引き起こされる。ストップまたはそのストップ要素と、保持要素とは、リング要素のみによって互いに接続される。
【0020】
別の実施形態によれば、ストップまたはそのストップ要素は、ギャップを用いてそれぞれの保持要素から離間される。
【0021】
対応するギャップはまた、隣接するストップ要素の間で、かつ／あるいはストップ要素および保持要素をそれぞれ備える１つの対、複数の対、またはすべての対の間で設けられ得る。ギャップを用いて、保持要素からのストップまたはストップ要素の機械的分離が、単純な方式で達成される。ギャップまたは複数のギャップは、たとえば侵食によって単純な方式で生成され得る。保持要素とストップまたはそのストップ要素との間の熱応力および／または振動の伝達に関して、機械的分離は特に有利である。
【0022】
別の実施形態によれば、ストップまたはそのストップ要素は、円周方向で少なくとも部分的に、保持要素の間に配置される。
【0023】
したがって、ストップまたはストップ要素は、保持要素間のすき間で迷光を絞る。
【0024】
別の実施形態によれば、ストップまたはそのストップ要素は、少なくとも部分的に、保持要素よりも半径方向にさらに内側に配置される。
【0025】
その結果、ストップまたはストップ要素の絞り効果がさらに改善され得る。このケースでは、「半径方向」は、リング要素によって囲まれる開口の仮想中心点に関係する。
【0026】
別の実施形態によれば、ストップは複数のストップ要素から構成され、それぞれのストップ要素は、少なくとも第１および第２の区間を備え、第１の区間は、リング要素に一体的に固定され、第２の区間は、円周方向に保持要素のうちの１つに隣接して配置される。
【0027】
別の実施形態によれば、それぞれのストップ要素は、保持要素に半径方向に隣接して配置される第３の区間を備える。
【0028】
好ましくは、それぞれのストップ要素が、それぞれの保持要素を越えて投影し、それぞれの保持要素の自由端の前方で直接的に領域内の迷光を絞る。
【0029】
別の実施形態によれば、それぞれの保持要素が２つのストップ要素の間に配置され、２つのストップ要素は、その半径方向の内側の端部でそれぞれの保持要素の周りに延びる。
【0030】
対応するアセンブリは製造が容易である。さらに、それぞれの保持要素の周りに延びる２つのストップ要素は、対称的に実施され得る。ここでは対称軸は放射状線である。そのような対称性は熱変形に関して有利である。
【0031】
別の実施形態によれば、ストップまたはそれぞれのストップ要素は有効面を備え、有効面は、ストップまたはそれぞれのストップ要素を軸方向に保持要素から離れるように曲げるために、曲げ工具用の接続点を形成する。
【0032】
ストップもしくはそれぞれのストップ要素および／または保持要素を曲げることにより、マウントを特に簡単に製造することが可能である。実施形態では、これは、専用の有効面なしでも可能である。具体的には、曲げにより、それぞれ反対側に位置する、ストップまたはそれぞれのストップ要素とレンズ素子表面との間の軸ギャップを生み出すことが可能となる。このケースでは、「軸」は、リング要素によって囲まれる開口を含む平面に垂直な方向を意味する。
【0033】
別の実施形態によれば、それぞれの保持要素は、レンズ素子がその上に載るためのルーフエッジを備え、ルーフエッジと、ストップまたはそれぞれの隣接するストップ要素のルーフエッジ側の面との間の軸距離が、１ｍｍ未満、好ましくは０．６ｍｍ未満、かつ／または０．１ｍｍ超である。
【0034】
その結果、有利には、迷光がビーム経路から抜け出し得る領域が限定される。同時に、後の時点でさらに詳細に説明されるように、距離は、具体的には、ストップまたはストップ要素からのレンズ素子の熱および他の機械的分離を保証し、パージガスの流れを改善する。
【0035】
別の実施形態によれば、それぞれの保持要素と、ストップまたはそれぞれのストップ要素との間のギャップは、１．５ｍｍ未満、好ましくは０．９ｍｍ未満、かつ／または０．５ｍｍ超の幅を有する。
【0036】
この寸法も、ビーム経路から抜け出し得る迷光の量を削減し、機械的分離、およびパージガスを用いるパージングを改善する。
【0037】
別の実施形態によれば、ストップまたはストップ要素は、ストップまたはストップ要素のそれぞれの曲げ領域、ならびに／あるいはリング要素に配置された１つまたは複数のスルー開口を備える。
【0038】
材料は、スルー開口によって局所的に弱められ、したがって画定された曲げがこうした領域内で可能となる。さらに、そのようなスルー開口は、具体的には熱流がリング要素内に誘導され、保持要素から離れるという意味で、リング要素への熱流を画定し得る。さらに、そのようなスルー開口はガスフローを改善し得る。具体的には、結果として、パージガス、具体的にはリソグラフィ装置または投影レンズの内部に位置する窒素がより良好に流れ去り得る。スルー開口は、具体的には切込み、すなわち細長い切欠きであり得る。曲げ領域内のスルー開口に加えて、またはその代替として、リング要素内の１つまたは複数のスルー開口が設けられ得る。リング要素内のスルー開口は、同様に、パージガスを伴う通過流を改善し得る。リング要素内のスルー開口は、たとえば３ｍｍ超、好ましくは６ｍｍ超の直径を有し得る。例として、２、４、８、または１２以上のそのようなスルー開口、具体的には穿孔が設けられ得る。
【0039】
第２の態様によれば、前述のように、レンズ素子およびマウントを備えるアセンブリ、具体的には投影レンズが設けられる。保持要素はレンズ素子を保持する。
【0040】
具体的には、ストップまたはストップ要素は、レンズ素子または（同様にアセンブリの部分である）別のレンズ素子の１つまたは複数の平面表面および／または面取り面をマスクするように配置され得る。その結果、迷光は、こうした平面表面または面取り面に到達せず、こうした平面表面または面取り面で反射することができず、したがって、リソグラフィ装置または投影レンズのハウジング内の迷光のさらなる伝播が回避される。
【0041】
第３の態様によれば、前述のアセンブリを備えるリソグラフィ装置、具体的にはＤＵＶリソグラフィ装置が提供される。
【0042】
ＤＵＶは「深紫外線」を表し、３０ｎｍ～２５０ｎｍの間の作業光の波長を指す。
【0043】
具体的には、リソグラフィ装置は別のレンズ素子を備え、マウントのストップがレンズ素子の間に配置され、軸方向のレンズ素子の間の最小距離が、２つのレンズ素子の小さい方の直径の１％以下未満である。
【0044】
軸方向は、ここではマウントまたはマウントの通過開口の中心軸に関係する。
【0045】
第４の態様によれば、前述のマウントを製造する方法が提供される。方法は、具体的には以下のステップを含む。
マウントを得るための、一体の材料ブロックのサブトラクティブ機械処理。
マウントを得るための、一体の材料ブロックのサブトラクティブ機械処理。
【0046】
サブトラクティブ機械処理は、具体的にはミリングおよび／または侵食を含む。
【0047】
方法の一実施形態によれば、ストップまたはストップ要素が、保持要素から軸方向に離れるように曲げられる。
【0048】
その結果、ストップまたはストップ要素が単純な方式で製造され得る。
【0049】
第１の態様実施形態および特徴は、同様に、このケースで説明される別の態様にも当てはまり、逆も同様である。
【0050】
本発明の別の可能な実施はまた、例示的実施形態に関連して上記または以下で説明される特徴または実施形態の明示的に述べていない組合せをも包含する。このケースでは、当業者はまた、本発明のそれぞれの基本形に対する改良または補色として個々の態様を追加することになる。
【0051】
本発明の別の有利な構成および態様は、従属請求項、さらには以下で説明される本発明の例示的実施形態の主題である。好ましい実施形態に基づいて、添付の図を参照しながら、本発明が以下でより詳細に説明される。
【図面の簡単な説明】
【0052】
【図1】ＤＵＶリソグラフィ装置の一実施形態の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0053】
別段に示されていない限り、各図では、同一または機能的に同一の要素に同一の参照符号が与えられている。さらに、図の挿絵は必ずしも原寸に比例しないことに留意されたい。
【0054】
図１は、ビーム整形および照射系１０２および投影系１０４（このケースでは、「投影レンズ」とも呼ばれる）を備えるＤＵＶリソグラフィ装置１００を概略的に示す。好ましくは、ビーム整形および照射系１０２および投影系１０４はそれぞれ、真空ハウジング（図示せず）内に配置される。各真空ハウジングは排気デバイス（図示せず）を用いて排気される。真空ハウジングが機械室（図示せず）によって取り囲まれ、光学素子を機械的に移動し、または設定するための駆動デバイスが、機械室内に設けられ得る。さらに、電気コントローラなども機械室内に配置され得る。
【0055】
ＤＵＶリソグラフィ装置１００は光源１０６を備える。たとえば、たとえば１９３ｎｍの放射１０８を放射するＡｒＦエキシマレーザが、光源１０６として設けられ得る。ビーム整形および照射系１０２では、放射１０８が集束し、所望の動作波長（作業光）が放射１０８から選別される。ビーム整形および照射系１０２は光学素子（図示せず）、たとえば鏡またはレンズ素子を有し得る。ビーム整形および照射系１０２を通過した後、放射１０８がフォトマスク（レチクル）１１０上に誘導される。フォトマスク１１０は、透過型光学素子として構成され、システム１０２、１０４の外部に配置され得る。フォトマスク１１０は、投影系１０４によって縮小された形でウェハ１１２上に結像される（ｉｍａｇｅｄ）構造を有する。
【0056】
投影系１０４は、複数のレンズ素子１１４、１１６、１１８、および／または鏡１２０、１２２を備える。ここで示されるレンズ素子および鏡の数が純粋に例示的なものであり、図示される数に制限されないことに留意されたい。
【0057】
最後のレンズ素子（図示せず）とウェハ１１２との間のエアギャップは、１よりも大きい屈折率を有する液体媒体１２４によって置換され得る。液体媒体１２４は、たとえば高純度水であり得る。そのようなセットアップは液浸リソグラフィとも呼ばれ、向上したフォトリソグラフィック分解能を有する。媒体１２４は侵液とも呼ばれる。
【0058】
好ましくは、パージガス、具体的には窒素がシステム１０２、１０４（図１には図示せず）を通じて流れる。パージガスは、具体的には、超微粒子、具体的には摩耗した材料を、光学素子、すなわち具体的にはレンズ素子および鏡に近づけないという任務を有する。しかしながら、別の実施形態では、そのようなパージガスは不要であり得る。
【0059】
さらに、図１は、直に連続して配置されたレンズ素子１１４、１１６が投影系１０４内のマウント１２６、１２８によってそれぞれ保持されることを示す。このケースでは、投影系１０４またはその部分は、「アセンブリ」とも呼ばれる。
【0060】
図２は、レンズ素子１１４、１１６を、割り当てられたマウント１２６、１２８と共に示す、図１の縦方向断面ＩＩの詳細を示す。図２は、マウント１２６またはその開口３０２（図３参照）の中心軸２００をさらに示す。この軸は、投影系または投影レンズ１０４の縦方向中心軸と一致し得る。マウント１２６、１２８は、（中心軸２００に沿った）軸方向Ａに互いにフランジが付けられ得、ハウジング２０６またはその部分を形成し、ハウジングは、中心軸２００に対して円周方向Ｕ（図３参照）に閉じられる。このケースでは、図２の例として参照符号２０２で示される、他のハウジング部分も、マウント１２６、１２８に接続され得る。
【0061】
さらに、図２は、純粋に例として示される迷光ストップ２０４を示し、迷光ストップ２０４は、ハウジング２０６の容積２０８内に配置される。迷光ストップ２０４は、迷光２１０が容積２０８内で伝播することを防止する任務を有する。迷光２１０は、所望のビーム経路２１２内で移動しない、放射１０８の光の一部である。これは、たとえば、レンズ素子１１４の上流側に配設されたレンズ素子（図示せず）の製造の不正確によって引き起こされ得る、前記不正確により、予見できない光の屈折が生じる。迷光２１０は、可能な最大の範囲で迷光ストップ２０４によって吸収される。
【0062】
同様に、レンズ素子１１４、１１６の間のすき間２１６に迷光２１４が入射する。すき間２１６の寸法は比較的狭い。これは、軸方向Ａのレンズ素子１１４、１１６の間の最小距離ｄが比較的小さいからである。具体的には、距離ｄがレンズ素子１１４の直径Ｄ114の１％未満であり、これは、たとえば１ｃｍ未満の値に対応し得る。具体的には、直径Ｄ114（その最大直径）は、レンズ素子１１６の最大直径Ｄ116未満である。このケースでは、レンズ素子１１４、１１６は、互いに反対向きの、それぞれの凹面区間２１８、２２０と共に位置し得る。凹面区間２１８、２２０は、レンズ素子１１４、１１６のそれぞれの光学活性領域を備える。
【0063】
凹面区間２１８、２２０はそれぞれ、中心軸２００に対して円周方向に縁部領域２２２、２２４によって境界を画される。縁部領域２２２では、後の時点でさらに詳細に説明されるように、レンズ素子１１４はマウント１２６上に載る。レンズ素子１１６の縁部領域２２４は平面表面を形成する。マウント１２６は、ストップ２２６（「迷光ストップ」とも呼ばれる）を備え、ストップ２２６は、ビーム経路２１２からの迷光２１４が平面表面２２４に入射することができることを防止し、平面表面２２４から、迷光２１４は容積２０８内にさらに反射し、そこで不都合な効果をもたらし得る。不都合な効果は、たとえば熱膨張、光の作用による接着剤の劣化などを含む。
【0064】
ストップ２２６を備えるマウント１２６に関する第１の例示的実施形態が、図３～６を参照しながら以下でより詳細に説明される。図３は、マウント１２６の斜視図を示し、図４は、図３の断面ＩＶ－ＩＶを示し、図５は図４の平面図Ｖを示し、図６は図４の視野ＶＩを示す。
【0065】
マウント１２６はリング要素３００を備える。リング要素３００は開口３０２を囲む。図２に示される放射１０８のビーム経路２１２が開口３０２を通る。リング要素３００は、中心軸２００に関して円周方向に閉じられるように実施される。円周方向は、図３ではＵで示される。
【0066】
リング要素３００は、たとえば第１の区間３０４および第２の区間３０６から構成され得る。第１の区間３０４は、（中心軸２００に対して）半径方向Ｒに関して外側区間としても示され得、第２の区間３０６は内側区間としても示され得る。外側区間３０４は、たとえば、そのフランジ３１０で複数の穿孔３０８を備え得る。穿孔３０８により、ハウジング２０６を形成するために、マウント１２６、１２８および別のハウジング部分２０２が互いに固定され、または互いにフランジが付けられる。
【0067】
内側区間３０６は、たとえばたわみなどの機械的分離要素３１２によって外側区間３０４に固定される。さらに、内側区間３０６および外側区間３０４は、ギャップ３１４によって互いに分離される。リング要素３００の前述の構成は、純粋に例によるものであり、投影レンズ１０４およびリソグラフィ装置１００に応じて変動し得る。
【0068】
リング要素３００上で、保持要素３１６が（縦方向中心軸３００に対して）内側に設けられる。保持要素３１６は、リング要素３００、具体的にはその内側区間３０６と一体的に形成される。さらに、保持要素３１６は、互いに離間して、具体的には円周方向Ｕに互いに一様に離間して設けられる。保持要素３１６はレンズ素子１１４を保持し、レンズ素子１１４は、その縁部領域２２２（図２参照）によって、それぞれの保持要素３１６のいわゆるルーフエッジ３１８（図２参照）上に載る。ルーフエッジ３１８の両端の領域４００（図２および４参照）では、保持要素３１８が、レンズ素子１１４の縁部領域２２２に接着接合される。
【0069】
ストップ２２６は、図３～６の例示的実施形態では一体的ストップとして実施される。すなわち、このストップは、１つの部片で、中心軸２００の周りを円周方向Ｕに閉じた形で延びる。第２の例示的実施形態が図７に関連して説明され、その例示的実施形態では、ストップ１２６は、複数のストップ要素７００、７０２、７０４から構成される。
【0070】
図４に戻ると、図４は、ストップ２２６がリング要素３００またはその内側区間３０６と一体的に形成されることを示す。好ましくは、リング要素３００またはその内側区間３０６は、保持要素３１６およびストップ２２６と共に、一様な材料のブランクから製造されることによって一体的に製造される。ブランクは、たとえば鋳造などの１次形成方法で製造される。具体的には、金属がブランク用の材料、したがってリング要素３００、保持要素３１６、およびストップ２２６用の材料として適している。好ましくは、ブランクのための製造方法または処理方法は、図３～６に示されるマウント１２６を製造するために、ミリングや侵食などのサブトラクティブ処理方法、および１次形成方法、具体的には曲げを含む。
【0071】
例示的実施形態によれば、ストップ２２６は、図４から明らかなように、軸区間４０２および半径方向区間４０４を備え、「軸」および「半径方向」は中心軸２００に関係する。同様に、保持要素３１６は、図２および４からわかるように、軸区間４０６および半径方向区間４０８を備える。半径方向区間４０８は、その上面でルーフエッジ３１８を支え、それを図４で確認することができる。軸区間４０２、４０６はそれぞれ、その一端４１６、４１８で、そのリング要素３００または内側区間３０６と一体的に隣接する。半径方向区間４０４、４０８は、それぞれの軸区間４０２および４０６と角度α（図４参照）およびβ（図２参照）で隣接し得る。角度αおよびβはそれぞれ、以下でさらに詳細に説明されるように、たとえば９０°を含み、または互いにわずかに異なり得る。軸区間４０２および半径方向区間４０４（後者は部分的のみ）はそれぞれ、円周方向Ｕに保持要素３１６の間に配置される。
【0072】
それぞれの保持要素３１６は、ストップ２２６からギャップ４１０（図５参照）だけ分離され得る。このケースでは、ギャップ４１０は、図５の平面図で、リング要素３００またはその内側区間３０６から保持要素３１６の周りにＵ型に延び、したがって保持要素３１６はストップ２２６から完全に離間する。その結果、保持要素３１６およびストップ２２６は互いに機械的に分離される。これは、機械的な観点と熱的な観点の両方からのものである。具体的には、結果として、これらの部品の間のいわゆる漏話が防止される。
【0073】
具体的には、軸区間４０２、４０６と、半径方向区間４０４、４０８とが、互いにギャップ４１０だけ離間する。円周方向Ｕと半径方向Ｒ（図５参照）の両方で、ギャップ４１０の幅Ｂ410が、選好では１．５ｍｍ未満であり、好ましくは０．９ｍｍ未満であり、さらに好ましくは０．５ｍｍ未満である。具体的には、半径方向区間４０４は、保持要素３１６またはその半径方向区間４０８の前方に半径方向に延びる部分区間４１２（このケースでは「第３の区間」とも呼ばれる）を備える。別の言い方をすれば、部分区間４１２は、具体的には中心軸２００に対して半径方向内側に見て、半径方向区間４０８の自由端４１４の直に反対側に位置する。
【0074】
図６に関して、図４とは対照的に、レンズ素子１１４がそこに示されていることを指摘しておく。図６の視野は、半径方向Ｒから見た視界方向（図４の矢印ＶＩの方向の視野）に対応する。縁部領域２２２（レンズ素子１１４の下面）と、ストップ２２６の半径方向区間４０４の上面４２０（図４および６参照）との間に軸ギャップ４２２があることをここで識別することができる。ギャップ４２２の幅Ｂ422が、選好では１ｍｍ未満であり、好ましくは０．６ｍｍ未満であり、かつ０．１ｍｍ超である。好ましくは、幅Ｂ422（同じことがそれに対応してギャップ４１０の幅Ｂ410に当てはまる）は最小ギャップ寸法を表す。これは、たとえば、ギャップ４２２を参照して、表面４２０（図４参照）に沿ってどこでギャップ４２２（図６参照）が測定されるかに応じて、このギャップについて異なるギャップ寸法Ｂ422が得られることを意味する。しかしながら、前述の値の範囲は、表面４２０に沿った最小の検出可能なギャップ寸法Ｂ422に関係する。
【0075】
ギャップ寸法Ｂ422は、具体的には保持要素３１６またはストップ２２６によって、あるいはそれぞれの半径方向区間４０８または４０４が上向きまたは下向き（すなわち、軸方向Ａに沿った両方向）に曲げられることによって制御され得る。好ましくは、マウント１２６の製造の状況で、半径方向区間４０４が、図４では、角度αが９０°未満となるように、曲げ工具を用いて軸方向下向き（すなわち、レンズ素子１１４から離れる向き）にプレスされる。例として、角度αは、８０から９０°の間、特に８０から８８°の間の値を有する。一方、角度β（図２参照）は、たとえば９０°である。
【0076】
図７を参照して、第２の例示的実施形態が説明され、第２の例示的実施形態では、前述のように、ストップ２２６が複数のストップ要素７００、７０２、７０４を備える。具体的には、２つのストップ要素７００、７０２は、それぞれの部分区間４１２によって、保持要素３１６の半径方向区間４０８の自由端４１４の周りに延びる。部分区間４１２は、それらの間にギャップ７０６を有する。幅Ｂ410を有するギャップ４１０に関して既に与えられた説明は、ギャップ７０６の幅Ｂ706に当てはまる。具体的には、好ましくはギャップ７０６は侵食によっても製造される。ストップ要素７００、７０２は、ギャップ７０６を通る半径方向対称軸７０７に関して対称的に実施され得る。
【0077】
さらに、図７は、ストップ要素７０４が円周方向Ｕに２つのストップ要素７００、７０２の間に配置され、それ自体は保持要素３１６のうちの１つに直に隣接しないことを示す。したがって、この例示的実施形態では、少なくとも３つのストップ要素７００、７０２、７０４が、それぞれの２つの保持要素３１６の間に位置する。ストップ要素７０４と７００との間、および７００と７０２との間に、幅Ｂ708およびＢ710をそれぞれ有するそれぞれのギャップ７０８および７１０が設けられる。幅Ｂ410に関して与えられた説明は、幅Ｂ708およびＢ710関してそれぞれ当てはまる。ストップ要素７０４は、隣接するストップ要素７００および７０２の区間４０２および４０４にそれぞれ平行に延びる軸区間７１２および半径方向区間７１４を備える。ストップ要素７００、７０２、７０４は、開口３０２（図３参照）の境界を定めるほぼ連続的な縁部７１６を画定する。
【0078】
さらに、ストップ要素７００、７０２、７０４はそれぞれ、軸ステップ７１８を備える。ステップ７１８は、ストップ要素７００、７０２、７０４を図７の軸方向Ａの下向きに曲げるために、曲げ工具（図示せず）用の接続点を形成する。
【0079】
曲げを容易にするために、好ましくは、円周方向Ｕに延びる切込み７２０、７２２がストップ要素７００、７０２、７０４の両端に設けられる。切込み７２０、７２２の代わりに、他の形態の材料弱体化も設けられ得、または他の開口、通路、または切欠きが、それぞれのストップ要素７００、７０２、７０４で設けられ得る。それぞれギャップ７０８、４１０、および７０８、７１０から進む切込み７２０、７２２は、円周方向にそれぞれのストップ要素７００、７０２、７０４内に延びる。好ましくは、切込み７２０、７２２は、それぞれのコーナ領域７２４に設けられる。コーナ領域７２４では、それぞれの半径方向区間４０４、７１４が、それぞれのストップ要素７００、７０２、７０４のそれぞれの軸区間４０２、７１２に隣接する。さらに、投影系１０４を通るパージガスの通過流が、切込み７２０、７２２によって制御され得る。対応するパージガス流が、図２では２２８によって示されている。パージガス、具体的には窒素は、光学的に有効なレンズ素子領域（参照符号２１８、２２０を参照）の領域の外に、粒子、具体的には摩耗した粒子を誘導する働きをする。
【0080】
切込み７２０、７２２に加えて、またはその代替として、リング要素３００またはその内側区間３０６は、パージガスを外に誘導するための通路、具体的には穿孔７２６を備え得る（参照符号２２８を参照）。好ましくは、これらは、たとえば４から８ｍｍの間の直径Ｄ726を有し得る。さらに、パージガス２２８は、ギャップ４１０、７０６、７０８、７１０（図７参照）、さらにはレンズ素子１１４、１１６の間のギャップ４２２（図６参照）を介して外に誘導される。
【0081】
上記の態様は、単にＤＵＶリソグラフィ装置１００用のマウント１２６にだけでなく適用され得る。むしろ、オプティクスの分野全体、具体的にはリソグラフィの分野での適用が考えられる。この点で、たとえば、そのようなマウント１２６は、リソグラフィの分野の測定装置または製造装置でも使用され得る。
【0082】
本発明が、このケースでは好ましい例示的実施形態に基づいて説明されたが、本発明はそれに制限されず、むしろ多種多様な形で修正され得る。
【符号の説明】
【0083】
１００ ＤＵＶリソグラフィ装置
１０２ ビーム整形および照射系
１０４ 投影系
１０６ 光源
１０８ 放射
１１０ フォトマスク
１１２ ウェハ
１１４ レンズ素子
１１６ レンズ素子
１１８ レンズ素子
１２０ 鏡
１２２ 鏡
１２４ 媒体
１２６ マウント
１２８ マウント
２００ 中心軸
２０２ ハウジング部分
２０４ 迷光ストップ
２０６ ハウジング
２０８ 容積
２１０ 迷光
２１２ ビーム経路
２１４ 迷光
２１６ すき間
２１８ 凹面区間
２２０ 凹面区間
２２２ 縁部領域
２２４ 縁部領域
２２６ ストップ
２２８ パージガス流
３００ リング要素
３０２ 開口
３０４ 外側区間
３０６ 内側区間
３０８ 穿孔
３１０ フランジ
３１２ たわみ
３１４ ギャップ
３１６ 保持要素
３１８ ルーフエッジ
４００ 領域
４０２ 軸区間
４０４ 半径方向区間
４０６ 軸区間
４０８ 半径方向区間
４１０ ギャップ
４１２ 部分区間
４１４ 端部
４１６ 端部
４１８ 端部
４２０ 表面
４２２ ギャップ
７００ ストップ要素
７０２ ストップ要素
７０４ ストップ要素
７０６ ギャップ
７０７ 対称軸
７０８ ギャップ
７１０ ギャップ
７１２ 軸区間
７１４ 半径方向区間
７１６ 縁部
７１８ ステップ
７２０ 切込み
７２２ 切込み
７２４ コーナ領域
７２６ 穿孔
Ａ 軸方向
Ｂ410 ギャップ幅
Ｂ422 ギャップ幅
Ｂ706 ギャップ幅
Ｂ708 ギャップ幅
Ｂ710 ギャップ幅
ｄ 軸距離
Ｄ114 直径
Ｄ116 直径
Ｄ726 直径
Ｒ 半径方向
Ｕ 円周方向
α 角度
β 角度
１０２ ビーム整形および照射系
１０４ 投影系
１０６ 光源
１０８ 放射
１１０ フォトマスク
１１２ ウェハ
１１４ レンズ素子
１１６ レンズ素子
１１８ レンズ素子
１２０ 鏡
１２２ 鏡
１２４ 媒体
１２６ マウント
１２８ マウント
２００ 中心軸
２０２ ハウジング部分
２０４ 迷光ストップ
２０６ ハウジング
２０８ 容積
２１０ 迷光
２１２ ビーム経路
２１４ 迷光
２１６ すき間
２１８ 凹面区間
２２０ 凹面区間
２２２ 縁部領域
２２４ 縁部領域
２２６ ストップ
２２８ パージガス流
３００ リング要素
３０２ 開口
３０４ 外側区間
３０６ 内側区間
３０８ 穿孔
３１０ フランジ
３１２ たわみ
３１４ ギャップ
３１６ 保持要素
３１８ ルーフエッジ
４００ 領域
４０２ 軸区間
４０４ 半径方向区間
４０６ 軸区間
４０８ 半径方向区間
４１０ ギャップ
４１２ 部分区間
４１４ 端部
４１６ 端部
４１８ 端部
４２０ 表面
４２２ ギャップ
７００ ストップ要素
７０２ ストップ要素
７０４ ストップ要素
７０６ ギャップ
７０７ 対称軸
７０８ ギャップ
７１０ ギャップ
７１２ 軸区間
７１４ 半径方向区間
７１６ 縁部
７１８ ステップ
７２０ 切込み
７２２ 切込み
７２４ コーナ領域
７２６ 穿孔
Ａ 軸方向
Ｂ410 ギャップ幅
Ｂ422 ギャップ幅
Ｂ706 ギャップ幅
Ｂ708 ギャップ幅
Ｂ710 ギャップ幅
ｄ 軸距離
Ｄ114 直径
Ｄ116 直径
Ｄ726 直径
Ｒ 半径方向
Ｕ 円周方向
α 角度
β 角度
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【手続補正書】
【提出日】2024-08-06
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
レンズ素子（１１４）用のマウント（１２６）であって、保持要素（３１６）を有するリング要素（３００）であって、前記保持要素（３１６）が、
前記リング要素（３００）に一体的に接続され、
円周方向（Ｕ）に互いに離間され、
前記レンズ素子（１１４）を保持するように構成される、
リング要素（３００）と、
迷光（２１４）を絞るためのストップ（２２６）であって、
前記リング要素（３００）と一体的に形成され、
ストップ（２２６）またはそのストップ要素（７００、７０２、７０４）が、前記保持要素（３１６）から機械的に分離される、
ストップ（２２６）と
を備えるマウント（１２６）。
【請求項2】
前記機械的分離が、前記ストップ（２２６）またはその前記ストップ要素（７００、７０２、７０４）と前記保持要素（３１６）との間の直接的な機械的接続がないことによって引き起こされる、請求項１に記載のマウント。
【請求項3】
前記ストップ（２２６）またはそのストップ要素（７００、７０２、７０４）が、ギャップ（４１０）を用いてそれぞれの保持要素（３１６）から離間される、請求項１または２に記載のマウント。
【請求項4】
前記ストップ（２２６）またはそのストップ要素（７００、７０２、７０４）が、前記円周方向（Ｕ）で少なくとも部分的に、前記保持要素（３１６）の間に配置される、請求項１または２に記載のマウント。
【請求項5】
前記ストップ（２２６）またはそのストップ要素（７００、７０２、７０４）が、少なくとも部分的に（４１２）、前記保持要素（３１６）よりも半径方向にさらに内側に配置される、請求項１または２に記載のマウント。
【請求項6】
前記ストップ（２２６）が複数のストップ要素（７００、７０２）から構成され、それぞれのストップ要素（７００、７０２）が、少なくとも第１および第２の区間（４０２、４０４）を備え、前記第１の区間（４０２）が、前記リング要素（３００）に一体的に固定され、前記第２の区間（４０４）が、前記円周方向（Ｕ）に前記保持要素（３１６）のうちの１つに隣接して配置される、請求項１または２に記載のマウント。
【請求項7】
前記それぞれのストップ要素（７００、７０２）が、前記保持要素（３１６）に半径方向内側に隣接して配置される第３の区間（４１２）を備える、請求項６に記載のマウント。
【請求項8】
それぞれの保持要素（３１６）が２つのストップ要素（７００、７０２）の間に配置され、前記２つのストップ要素（７００、７０２）が、その半径方向の内側の端部（４１４）でそれぞれの保持要素（３１６）の周りに延びる、請求項７に記載のマウント。
【請求項9】
前記ストップ（２２６）または前記それぞれのストップ要素（７００、７０２、７０４）が有効面（７１８）を備え、前記有効面（７１８）が、前記ストップ（２２６）または前記それぞれのストップ要素（７００、７０２、７０４）を軸方向（Ａ）に前記保持要素（３１６）から離れるように曲げるために、曲げ工具用の接続点を形成する、請求項１または２に記載のマウント。
【請求項10】
前記それぞれの保持要素（３１６）が、前記レンズ素子（１１４）が載るためのルーフエッジ（３１８）を備え、前記ルーフエッジ（３１８）と、前記ストップ（２２６）またはそれぞれの隣接するストップ要素（７００、７０２、７０４）のルーフエッジ側の面（４２０）との間の軸距離（Ｂ422）が、１ｍｍ未満、好ましくは０．６ｍｍ未満、かつ／または０．１ｍｍ超であり、かつ／あるいはそれぞれの保持要素（３１６）と、前記ストップ（２２６）またはそれぞれのストップ要素（７００、７０２）との間のギャップ（４１０）が、１．５ｍｍ未満、好ましくは０．９ｍｍ未満、かつ／または０．５ｍｍ超の幅（Ｂ410）を有する、請求項１または２に記載のマウント。
【請求項11】
前記ストップ（２２６）または前記ストップ要素（７００、７０２、７０４）が、前記ストップ（２２６）または前記ストップ要素（７００、７０２、７０４）のそれぞれの曲げ領域（７２４）、ならびに／あるいは前記リング要素（３００）に配置された１つまたは複数のスルー開口（７２０、７２２、７２６）を備える、請求項１または２に記載のマウント。
【請求項12】
レンズ素子（１１４）と、請求項１または２に記載のマウント（１２６）とを備えるアセンブリ（１０４）、具体的には投影レンズであって、前記保持要素（３１６）が前記レンズ素子（１１４）を保持する、アセンブリ（１０４）。
【請求項13】
請求項１２に記載のアセンブリ（１０４）を備えるリソグラフィ装置（１００）、具体的にはＤＵＶリソグラフィ装置であって、具体的には、別のレンズ素子（１１６）が設けられ、前記ストップ（２２６）が前記レンズ素子（１１４、１１６）の間に配置され、軸方向（Ａ）の前記レンズ素子（１１４、１１６）の間の最小距離（ｄ）が、前記２つのレンズ素子（１１４、１１６）の小さい方の直径（Ｄ114）の１％未満である、リソグラフィ装置（１００）。
【請求項14】
請求項１または２に記載のマウント（１２６）を製造する方法であって、前記マウント（１２６）を得るために一体の生材料ブロックのサブトラクティブ機械処理
のステップを含む方法。
【請求項15】
前記ストップ（２２６）または前記ストップ要素（７００、７０２、７０４）が、軸方向（Ａ）に前記保持要素（３１６）から離れるように曲げられる、請求項１４に記載の方法。
【国際調査報告】