特表 2024-545640 リソグラフィプロセスにおける周期的誤差の影響を低減させる方法、投影システム、及び投影システムを含むリソグラフィ装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公表特許公報(A)

(11)【公表番号】

(43)【公表日】2024-12-10

(54)【発明の名称】リソグラフィプロセスにおける周期的誤差の影響を低減させる方法、投影システム、及び投影システムを含むリソグラフィ装置

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20241203BHJP

   G03F 9/00 20060101ALI20241203BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 521

G03F9/00 H

【審査請求】未請求

【予備審査請求】未請求

(21)【出願番号】P 2024534441

(86)(22)【出願日】2022-12-06

(85)【翻訳文提出日】2024-08-09

(86)【国際出願番号】 EP2022084549

(87)【国際公開番号】W WO2023117399

(87)【国際公開日】2023-06-29

(31)【優先権主張番号】21217454.4

(32)【優先日】2021-12-23

(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP

(81)【指定国・地域】

(71)【出願人】

【識別番号】504151804

【氏名又は名称】エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．

(74)【代理人】

【識別番号】100079108

【弁理士】

【氏名又は名称】稲葉 良幸

(74)【代理人】

【識別番号】100109346

【弁理士】

【氏名又は名称】大貫 敏史

(74)【代理人】

【識別番号】100117189

【弁理士】

【氏名又は名称】江口 昭彦

(74)【代理人】

【識別番号】100134120

【弁理士】

【氏名又は名称】内藤 和彦

(72)【発明者】

【氏名】バトラー，ハンズ

(72)【発明者】

【氏名】デ ヨン，ロベルタス，ヨハネス，マリヌス

【テーマコード（参考）】

2H197

【Ｆターム（参考）】

2H197AA05

2H197BA02

2H197DA09

2H197EA11

2H197EA20

2H197HA03

2H197HA04

2H197HA05

2H197HA08

2H197HA10

(57)【要約】

本発明は、投影段階及びアイドリング段階を有するリソグラフィプロセスにおける周期的誤差の影響を低減させる方法であって、上記方法は、第１の制御ループにおいて第１のモジュールの第１の位置を制御することであって、第１のモジュールは投影システムの位置制御ミラーであり、第１の制御ループは第１の帯域幅を有し、且つ第１の周期的誤差を有する第１の位置測定システムを含む、制御することを含み、第１の位置を制御することは、少なくとも投影段階中に第１のモジュールを連続的に移動させることで、第１の周期的誤差の第１の主周波数が第１の制御ループの第１の帯域幅を超えるようになることを含む、方法を提供する。
【選択図】 図４

【特許請求の範囲】

【請求項1】

投影段階及びアイドリング段階を有するリソグラフィプロセスにおける周期的誤差の影響を低減させる方法であって、前記方法は、
第１の制御ループにおいて第１のモジュールの第１の位置を制御することであって、前記第１のモジュールは投影システムの位置制御ミラーであり、前記第１の制御ループは第１の帯域幅を有し、且つ第１の周期的誤差を有する第１の位置測定システムを含む、制御することを含み、
前記第１の位置を制御することは、少なくとも前記投影段階中に前記第１のモジュールを連続的に移動させることで、前記第１の周期的誤差の第１の主周波数が前記第１の制御ループの前記第１の帯域幅を超えるようになることを含む、方法。

【請求項2】

前記方法は、第２の制御ループにおいて第２のモジュールの第２の位置を制御することを含み、
前記第１の位置及び前記第２の位置を制御することは、前記第１のモジュールの移動及び前記第２のモジュールの移動を互いに適合させて、前記第１のモジュールを連続的に移動させることによって生じる前記第１のモジュールと前記第２のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させることを含む、請求項１に記載の方法。

【請求項3】

前記第２の制御ループは、第２の帯域幅を有し、且つ第２の周期的誤差を有する第２の位置測定システムを含み、
前記第１の位置及び前記第２の位置を制御することは、
少なくとも前記投影段階中に前記第２のモジュールを連続的に移動させることで、前記第２の周期的誤差の第２の主周波数が前記第２の制御ループの前記第２の帯域幅を超えるようになることと、
前記第１のモジュールの移動及び前記第２のモジュールの移動を互いに適合させて、前記第１のモジュール及び前記第２のモジュールを連続的に移動させることによって生じる前記第１のモジュールと前記第２のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させることと、を含む、請求項２に記載の方法。

【請求項4】

前記第１のモジュールの移動及び前記第２のモジュールの移動を互いに適合させることは、前記第２のモジュールが前記第１のモジュールに従うように前記第２のモジュールの移動を前記第１のモジュールの移動に適合させることを含む、請求項２又は３に記載の方法。

【請求項5】

前記第１のモジュールの第１の実際の位置と前記第１のモジュールの第１の基準位置との間の前記第１の制御ループにおける第１の位置誤差を前記第２の制御ループに入力することと、
前記第２のモジュールの第２の実際の位置、前記第２のモジュールの第２の基準位置、及び前記第１の位置誤差に基づいて、適合された第２の位置誤差を決定することと、
前記適合された第２の位置誤差を、前記第２の制御ループのフィードバックコントローラに対する入力として使用することと、
を含む、請求項２～４のいずれかに記載の方法。

【請求項6】

前記第２のモジュールは、第２の位置制御ミラー、パターニングデバイスサポート、又は基板サポートである、請求項２～５のいずれかに記載の方法。

【請求項7】

前記第１のモジュールの移動及び前記第２のモジュールの移動は、前記投影システムの光学感度マトリックスのヌル空間内に存在するように適合される、請求項２～６のいずれかに記載の方法。

【請求項8】

前記方法は、
追加の制御ループにおいて追加のモジュールの位置を制御することを含み、前記追加の制御ループは帯域幅を有し、且つ周期的誤差を有する位置測定システムを含み、
前記追加のモジュールの前記位置を制御することは、
少なくとも前記投影段階中に前記追加のモジュールを連続的に移動させることで、前記周期的誤差の主周波数が前記追加の制御ループの前記帯域幅を超えるようになることを含み、
前記追加のモジュールの移動は、前記第１のモジュールの移動に適合されて、前記第１のモジュールを連続的に移動させることによって生じる前記第１のモジュールと前記追加のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させる、請求項２～７のいずれかに記載の方法。

【請求項9】

前記追加のモジュールは、位置制御ミラー、パターニングデバイスサポート、又は基板サポートである、請求項８に記載の方法。

【請求項10】

少なくとも前記投影段階中に前記第１のモジュールを移動させることは、前記第１のモジュールを一定の非ゼロ速度で、且つ一定の方向に移動させることを含む、請求項１～９のいずれかに記載の方法。

【請求項11】

前記アイドリング段階は、前記第１のモジュールの移動方向及び／又は速度を適合させるために使用される、請求項１０に記載の方法。

【請求項12】

前記第１の位置測定システム及び／又は前記第２の位置測定システムは、干渉計である、請求項１～１１のいずれかに記載の方法。

【請求項13】

前記第１の制御ループは、前記第１のモジュールを移動させることから生じる前記第１の周期的誤差の前記第１の主周波数に対応する第１のフィルタ周波数を有する第１のノッチフィルタを含む、請求項１～１２のいずれかに記載の方法。

【請求項14】

前記第２の制御ループは、前記第２のモジュールを移動させることから生じる前記第２の周期的誤差の前記第２の主周波数に対応する第２のフィルタ周波数を有する第２のノッチフィルタを含む、請求項３～１３のいずれかに記載の方法。

【請求項15】

ビームを投影するための投影システムであって、
第１の移動範囲を有する第１のモジュールであって、前記ビームを反射するように配置された前記投影システムの位置制御ミラーである、第１のモジュールと、
前記第１のモジュールの第１の位置を測定するための第１の位置測定システムと、
前記第１のモジュールの前記第１の位置を制御するための第１の制御ループを含む制御システムであって、前記第１の制御ループは第１の帯域幅を有する、制御システムと、を含み、
前記制御システムは、少なくともリソグラフィプロセスの投影段階中に前記第１のモジュールを連続的に移動させるように配置されることで、前記第１の位置測定システムの第１の周期的誤差の第１の主周波数が、前記第１の制御ループの前記第１の帯域幅を超えるようになる、投影システム。

【請求項16】

前記投影システムは、
第２の移動範囲を有する第２のモジュールと、
前記第２のモジュールの第２の位置を測定する第２の位置測定システムと、を含み、
前記制御システムは、前記第２のモジュールの前記第２の位置を制御する第２の制御ループを含み、
前記制御システムは、前記第１のモジュールの移動及び前記第２のモジュールの移動を互いに適合させて、前記第１のモジュールを連続的に移動させることによって生じる前記第１のモジュールと前記第２のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させるように配置される、請求項１５に記載の投影システム。

【請求項17】

前記第２の制御ループは第２の帯域幅を有し、
前記制御システムは、少なくとも前記投影システムの投影段階中に前記第２のモジュールを連続的に移動させるように配置されることで、前記第２の位置測定システムの第２の周期的誤差の第２の主周波数が前記第２の制御ループの前記第２の帯域幅を超えるようになり、
前記制御システムは、前記第１のモジュールの移動及び前記第２のモジュールの移動を互いに適合させるように配置されて、前記第１のモジュール及び前記第２のモジュールを連続的に移動させることによって生じる前記第１のモジュールと前記第２のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させる、請求項１６に記載の投影システム。

【請求項18】

前記制御システムは、前記第２のモジュールが前記第１のモジュールに従うように前記第２のモジュールの移動を前記第１のモジュールの移動に適合させるように配置される、請求項１６又は１７に記載の投影システム。

【請求項19】

前記制御システムは、
前記第１のモジュールの第１の実際の位置と前記第１のモジュールの第１の基準位置との間の前記第１の制御ループにおける第１の位置誤差を前記第２の制御ループに入力することと、
前記第２のモジュールの第２の実際の位置、前記第２のモジュールの第２の基準位置、及び前記第１の位置誤差に基づいて、適合された第２の位置誤差を決定することと、
前記適合された第２の位置誤差を、前記第２の制御ループのフィードバックコントローラに対する入力として使用することと、
を行うように配置される、請求項１６～１８のいずれかに記載の投影システム。

【請求項20】

前記第２のモジュールは、第２の位置制御ミラー、パターニングデバイスサポート、又は基板サポートである、請求項１６～１９のいずれかに記載の投影システム。

【請求項21】

前記第１のモジュールの移動及び前記第２のモジュールの移動は、前記投影システムの光学感度マトリックスのヌル空間内に存在するように適合される、請求項１６～２０のいずれかに記載の投影システム。

【請求項22】

前記投影システムは、
移動範囲を有する追加のモジュールと、
前記追加のモジュールの位置を測定する追加の位置測定システムと、を含み、
前記制御システムは、前記追加のモジュールの前記位置を制御する追加の制御ループを含み、前記追加の制御ループは、帯域を含み、前記制御システムは、少なくとも前記投影システムの前記投影段階中に前記追加のモジュールを連続的に移動させることで、前記追加の位置測定システムの周期的誤差の主周波数が前記追加の制御ループの前記帯域幅を超えるようになることと、前記追加のモジュールの移動を前記第１のモジュールの移動に適合させて、前記第１のモジュール及び前記追加のモジュールを連続的に移動させることによって生じる前記第１のモジュールと前記追加のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させることと、を行うように更に配置される、請求項１６～２１のいずれかに記載の投影システム。

【請求項23】

前記追加のモジュールは、位置制御ミラー、パターニングデバイスサポート、又は基板サポートである、請求項２２に記載の投影システム。

【請求項24】

前記制御システムは、前記第１のモジュールを少なくとも前記投影段階中に一定の非ゼロ速度で、且つ一定の方向に移動させるように配置される、請求項１５～２３のいずれかに記載の投影システム。

【請求項25】

前記制御システムは、前記アイドリング段階中に前記第１のモジュールの移動方向及び／又は速度を適合させるように配置される、請求項２４に記載の投影システム。

【請求項26】

前記第１の位置測定システム及び／又は前記第２の位置測定システムは、干渉計である、請求項１５～２５のいずれかに記載の投影システム。

【請求項27】

前記第１の制御ループは、前記第１のモジュールを移動させることから生じる前記第１の周期的誤差の前記第１の主周波数に対応する第１のフィルタ周波数を有する第１のノッチフィルタを含む、請求項１５～２６のいずれかに記載の投影システム。

【請求項28】

前記第２の制御ループは、前記第２のモジュールを移動させることから生じる前記第２の周期的誤差の前記第２の主周波数に対応する第２のフィルタ周波数を有する第２のノッチフィルタを含む、請求項１７～２７のいずれかに記載の投影システム。

【請求項29】

請求項１５～２８のいずれかに記載の投影システムを含むリソグラフィ装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

関連出願の相互参照
[0001] この出願は、２０２１年１２月２３日に出願された欧州出願第２１２１７４５４．４号の優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。

【0002】

[0002] 本発明は、リソグラフィプロセスにおける周期的誤差の影響を低減させる方法に関する。本発明は、更に、投影システムと、当該投影システムを含むリソグラフィ装置とに関する。

【背景技術】

【0003】

[0003] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上に付与するように構築された機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用することができる。リソグラフィ装置は、例えば、パターニングデバイス（例えば、マスク）のパターンを、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）の層上に投影することができる。

【0004】

[0004] パターンを基板上に投影するために、リソグラフィ装置は、電磁放射を使用する場合がある。この放射の波長によって、基板上に形成可能なフィーチャの最小サイズが決まる。４～２０ｎｍの範囲内の波長、例えば６．７ｎｍ又は１３．５ｎｍの波長を有する極端紫外線（ＥＵＶ）放射を使用するリソグラフィ装置は、例えば、１９３ｎｍの波長の放射を使用するリソグラフィ装置よりも小さいフィーチャを基板上に形成するために使用することができる。

【0005】

[0005] リソグラフィ装置の公知の実施形態では、１つ以上のミラーを備えた投影システムが設けられる場合がある。これらのミラーを正確に位置決めして例えば振動を打ち消すために、ミラーの位置を制御することができる。このような位置制御ミラーは、干渉計やエンコーダ測定システムなどの位置測定システムによって測定されたミラーの実際の位置に基づいて、フィードバックコントローラによって能動的に制御されてよい。

【0006】

[0006] 干渉計の原理は、同じ光源から発生する２つのビームの干渉に基づいており、ここで、１つのビームは送信機、ターゲット（例えば、ミラー）の間を移動して受信機に戻り、他方のビームは一定の距離を移動する。この干渉パターンは、ターゲットの変位の関数としての正弦波信号の近似によるものである。この正弦波信号について周期偏差が存在することがあり、これらの偏差は、ターゲットの距離にも依存する高次の偏差、いわゆる周期的誤差である。

【0007】

[0007] 周期的誤差は位置測定の精度に悪影響を及ぼすので、周期的誤差を補償することが望ましい。この補償を実現するために、ソフトウェアを用いて周期的誤差を較正及び補償することができる。しかし、このことは、周期的誤差が経時的に安定している場合にのみ可能である。ただし、例えば熱ドリフトにより、周期的誤差が経時的に変化することがあり、その結果、較正は正確でなくなり、ドリフトの影響により測定精度が実質的に低下するおそれがある。

【0008】

[0008] これにより、例えば、ミラーが移動されていない場合に、測定誤差に位置依存のオフセットが生じる可能性がある。これにより、光学測定後の調整によってミラーが正しい位置に移動しないという理由により、光学基板テーブルの位置測定が妨げられるおそれがある。また、露光中にミラーがスキャンされるときに動的な乱れが生じるおそれがある。このことは、性能に直接的な影響を与える。

【0009】

[0009] エンコーダ測定システムなどの他の位置測定システムにも、経時的に不安定な周期的誤差が生じるおそれがある。

【発明の概要】

【0010】

[00010] 本発明の目的は、リソグラフィプロセスにおける周期的誤差の影響を低減させる方法を提供することである。更に、本発明の目的は、周期的誤差の影響を低減させるように配置された投影システムと、当該投影システムを含むリソグラフィ装置とを提供することである。

【0011】

[00011] 本発明の一態様によれば、投影段階及びアイドリング段階を有するリソグラフィプロセスにおける周期的誤差の影響を低減させる方法であって、上記方法は、第１の制御ループにおいて第１のモジュールの第１の位置を制御することであって、第１のモジュールは投影システムの位置制御ミラーであり、第１の制御ループは第１の帯域幅を有し、且つ第１の周期的誤差を有する第１の位置測定システムを含む、制御することを含み、第１の位置を制御することは、少なくとも投影段階中に第１のモジュールを連続的に移動させることで、第１の周期的誤差の第１の主周波数が第１の制御ループの第１の帯域幅を超えるようになることを含む、方法が提供される。

【0012】

[00012] 本発明の一態様によれば、ビームを投影するための投影システムであって、第１の移動範囲を有する第１のモジュールであって、ビームを反射するように配置された投影システムの位置制御ミラーである、第１のモジュールと、第１のモジュールの第１の位置を測定するための第１の位置測定システムと、第１のモジュールの第１の位置を制御するための第１の制御ループを含む制御システムであって、第１の制御ループは第１の帯域幅を有する、制御システムと、を含み、制御システムは、少なくともリソグラフィプロセスの投影段階中に第１のモジュールを連続的に移動させるように配置されることで、第１の位置測定システムの第１の周期的誤差の第１の主周波数が、第１の制御ループの第１の帯域幅を超えるようになる、投影システムが提供される。

【0013】

[00013] 本発明の一態様によれば、請求項１５～２８のいずれかに記載の投影システムを含むリソグラフィ装置が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0014】

[00014] 本発明のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の概略図を参照して以下に説明する。

【図1】リソグラフィ装置と放射源とを含むリソグラフィシステムを示す。

【図2】図１のリソグラフィシステムの一部をより詳細に示す。

【図3】本発明の一実施形態に係る投影システムの制御システムを示す。

【図4】周期的誤差の影響を低減させるための投影システムのミラーの移動の一例を示す。

【発明を実施するための形態】

【0015】

[00015] 放射源ＳＯとリソグラフィ装置ＬＡとを含むリソグラフィシステムを図１に示す。放射源ＳＯは、ＥＵＶ放射ビームＢを生成し、このＥＵＶ放射ビームＢをリソグラフィ装置ＬＡに供給するように構成されている。リソグラフィ装置ＬＡは、照明システムＩＬと、パターニングデバイスＭＡ（例えば、マスク）を支持するように構成されたサポート構造ＭＴと、投影システムＰＳと、基板Ｗを支持するように構成された基板テーブルＷＴとを含む。

【0016】

[00016] 基板テーブルＷＴを所望の位置に位置決めするために、基板テーブル位置決めシステムＷＴＰが設けられる。基板位置決めシステムＷＴＰは、基板テーブルＷＴの位置を測定するための位置測定システムと、基板テーブルＷＴを所望の位置に移動させる作動システムとを含む。パターニングデバイスサポート位置決めシステムＭＴＰは、サポート構造ＭＴを所望の位置に位置決めするために設けられる。パターニングデバイスサポート位置決めシステムＭＴＰは、サポート構造ＭＴの位置を測定するための位置測定システムと、サポート構造ＭＴを所望の位置に移動させるための作動システムも含む。

【0017】

[00017] 照明システムＩＬは、ＥＵＶ放射ビームＢがパターニングデバイスＭＡに入射する前に、ＥＵＶ放射ビームＢを調整するように構成されている。更に、照明システムＩＬは、ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１を含み得る。ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１は共に、ＥＵＶ放射ビームＢに所望の断面形状と所望の強度分布とを提供する。照明システムＩＬは、ファセットフィールドミラーデバイス１０及びファセット瞳ミラーデバイス１１に加えて、又はそれらの代わりに、他のミラー又はデバイスを含んでもよい。

【0018】

[00018] ＥＵＶ放射ビームＢは、上述のように調整された後、パターニングデバイスＭＡと相互作用を起こす。この相互作用の結果、パターン形成されたＥＵＶ放射ビームＢ’が生成される。投影システムＰＳは、パターン形成されたＥＵＶ放射ビームＢ’を基板Ｗに投影するように構成されている。そのため、投影システムＰＳは、基板テーブルＷＴによって保持された基板Ｗ上に、パターン形成されたＥＵＶ放射ビームＢ’を投影するように構成された複数のミラー１３、１４を含み得る。投影システムＰＳは、パターン形成されたＥＵＶ放射ビームＢ’に縮小係数を適用することができ、それにより、パターニングデバイスＭＡ上の対応するフィーチャよりも小さいフィーチャを有する像が形成される。例えば、縮小係数４又は８を適用することができる。図１において、投影システムＰＳは２つのミラー１３、１４のみを有するように描かれているが、投影システムＰＳは異なる数のミラー（例えば、６個又は８個のミラー）を含み得る。

【0019】

[00019] 基板Ｗは、先に形成されたパターンを含んでいる場合がある。この場合、リソグラフィ装置ＬＡは、パターン形成されたＥＵＶ放射ビームＢ’によって形成される像を、基板Ｗ上に先に形成されたパターンと位置合わせする。

【0020】

[00020] 放射源ＳＯ、照明システムＩＬ、及び／又は投影システムＰＳ内には、相対的真空、すなわち大気圧を大きく下回る圧力の少量のガス（例えば、水素）が設けられてもよい。

【0021】

[00021] 放射源ＳＯは、レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）源、放電生成プラズマ（ＤＰＰ）源、自由電子レーザ（ＦＥＬ）、又はＥＵＶ放射を生成可能な他の放射源とすることができる。

【0022】

[00022] リソグラフィプロセスは、一連の投影段階（パターン形成されたＥＵＶ放射ビームＢ’が基板Ｗ上に投影される（露光段階）、及び／又は、基板Ｗがパターン形成されたＥＵＶ放射ビームＢ’と位置合わせされる（アライメント段階））と、アイドリング段階（パターン形成されたＥＵＶ放射ビームＢ’が基板Ｗ上、又は基板Ｗの無関係の部分上に投影されず、パターン形成されたＥＵＶ放射ビームＢ’に対する基板Ｗの位置決め精度があまり重要でない）とを含む。投影段階中、パターニングデバイス及び基板は、一定の走査速度での走査移動において移動され得る。アイドリング段階は、パターニングデバイスＭＴ及び基板Ｗを、所望の走査速度まで、且つ、ＥＵＶ放射ビームＢ及びパターン形成されたＥＵＶ放射ビームＢ’のそれぞれに対する所望のアライメントまで減速及び（再）加速するために使用され得る。パターニングデバイスＭＴの一定走査速度は、通常、基板Ｗの一定走査速度とは異なる。

【0023】

[00023] 図１のリソグラフィ装置の投影システムＰＳをより詳細に図２に示す。投影システムは、ミラー１３、１４を含み、以下では第１のミラー１３及び第２のミラー１４と称する。第１のミラー１３及び第２のミラー１４は、位置制御ミラーである。これは、第１のミラー１３の位置が第１の移動範囲内で制御され、第２のミラー１４の位置が第２の移動範囲内で制御されることを意味する。

【0024】

[00024] 第１のミラー１３の実際の位置を測定するために、第１の位置測定システム１５が設けられる。第２のミラー１４の実際の位置を測定するために、第２の位置測定システム１６が設けられる。第１のミラー１３及び第２のミラー１４の位置を制御するために、制御ユニットＣＯＮが設けられる。制御ユニットＣＯＮは、第１のミラー１３の位置を制御するための第１の制御ループと、第２のミラー１４の位置を制御するための第２の制御ループとを含む。制御ユニットＣＯＮの第１の出力信号に基づいて、第１のアクチュエータ１７が作動して、第１のミラー１３を所望の位置に位置決めする。制御ユニットＣＯＮの第２の出力信号に基づいて、第２のアクチュエータ１８が作動して、第２のミラー１４を所望の位置に位置決めする。

【0025】

[00025] 投影システムＰＳに３つ以上の位置制御ミラーが設けられている場合、それぞれの追加のミラーの位置を測定するために、当該追加のミラーに対して追加の位置測定が設けられる場合がある。制御ユニットＣＯＮは、追加のミラーごとに、当該追加のミラーの位置を制御するための追加の制御ループを含み得る。制御ユニットＣＯＮは、制御ユニットＣＯＮの追加の出力信号をアクチュエータに提供して、追加のミラーを所望の位置に位置決めし得る。

【0026】

[00026] 第１のミラー１３、第２のミラー１４、及びいずれかの追加のミラーの位置は、６つの自由度で制御され得る。制御ユニットＣＯＮは、第１のミラー１３、第２のミラー１４、及びいずれかの追加のミラーの位置を制御するための単一のユニットとして示されている。この制御ユニットＣＯＮは、例えば、リソグラフィ装置ＬＡの中央処理装置に統合されてよく、投影システムＰＳの別の制御ユニットに統合されてもよい。各制御ループに対して別々の制御プロセッサを設けることも可能である。

【0027】

[00027] 第１及び第２の位置測定システム１５、１６は、干渉計測定システムであり得る。これらの位置測定システム１５、１６の測定において、周期偏差、いわゆる周期的誤差が発生する場合がある。周期的誤差は第１のミラー１３及び第２のミラー１４の位置測定の精度に悪影響を及ぼすので、周期的誤差を補償することが望ましい。この補償を実現するために、周期的誤差の較正及び補償をソフトウェアにおいて行うことができる。しかし、これは周期的誤差が経時的に安定している場合にのみ可能である。ただし、例えば熱ドリフトにより、周期的誤差が経時的に変化することがあり、その結果、較正は正確でなくなり、ドリフトの影響により測定精度が大幅に低下することがある。

【0028】

[00028] したがって、投影システムＰＳにおいて、第１の位置測定システム１５に第１の周期的誤差が生じることがあり、また、第２の位置測定システム１６に第２の周期的誤差が生じることがあり、これらの第１及び第２の周期的誤差は、較正によって部分的にしか低減しない場合がある。

【0029】

[00029] 図２に示す投影システムＰＳは、基板Ｗの位置決めがリソグラフィプロセスの光学性能にとって重要である場合に、リソグラフィプロセスの少なくとも投影段階、例えば露光段階及び／又はアライメント段階中に第１のミラー１３及び第２のミラー１４を連続的に移動させることによって、第１及び第２の周期的誤差の影響を実質的に低減させるように構成される。この第１のミラー１３及び第２のミラー１４の連続的な移動によって、第１及び第２の周期的誤差は高周波数の外乱となる。第１のミラー１３及び第２のミラー１４の連続的な移動の好適な速度を選択することにより、第１の周期的誤差の第１の主周波数を、第１の制御ループの第１の帯域幅より上にずらすことができ、第２の周期的誤差の第２の主周波数を、第２の制御ループの第２の帯域幅より上にずらすことができる。結果として、第１の制御ループは、もはや第１の周期的誤差に従うことができなくなり、第２の制御ループは、もはや第２の周期的誤差に従うことができなくなる。したがって、第１のミラー１３及び第２のミラー１４を連続的に移動させることにより、第１及び第２の周期的誤差の悪影響を効果的に低減させることができる。

【0030】

[00030] 同時に、第１のミラー１３及び第２のミラー１４の不規則な移動は、投影システムＰＳの光学性能に悪影響を及ぼす。したがって、投影システムＰＳは、第１のミラー１３及び第２のミラー１４の移動を互いに適合させて、第１のミラー１３及び第２のミラー１４を連続的に移動させることによって生じる第１のミラー１３と第２のミラー１４との間のアライメント誤差を低減させるように更に構成される。

【0031】

[00031] 投影段階中の第１のミラー１３及び第２のミラー１４の連続的な移動は、一定の非ゼロ速度を有してよく、また、一定方向におけるものであってよい。

【0032】

[00032] 一実施形態では、第１のミラー１３の連続的な移動及び第２のミラー１４の連続的な移動は、第１のミラー１３及び第２のミラー１４のうちの一方が第１のミラー１３及び第２のミラー１４のうちの他方に従うように構成される。このような実施形態では、１つのいわゆる先行ミラーと、１つ以上の後続ミラーが存在する。図２の実施形態では、最も重いミラーである第１のミラー１３が先行ミラーとして選択され、第２のミラー１４が後続ミラーとなる。

【0033】

[00033] 第１の制御ループＣＬ－１及び第２の制御ループＣＬ－２を概略的に図３に示す。

【0034】

[00034] セットポイントジェネレータＳＰＧが設けられる。セットポイントジェネレータＳＰＧは、第１のミラー１３の所望の位置Ｒ１を出力する。この所望の位置Ｒ１は、リソグラフィプロセスの投影段階中の一定速度での連続的な移動を伴う、第１のミラー１３の所望の移動プロファイルに従う。第１のミラー１３の第１の測定位置ＭＰ１を所望の位置Ｒ１から減算して、第１のミラー１３の第１の位置誤差Ｅ１を決定する。第１の測定位置ＭＰ１は、第１の位置測定システム１５によって生じた周期的誤差ＣＥ１を含む。第１の位置誤差Ｅ１は、第１のフィードバックコントローラＦＢＣ１に入力される。第１のフィードバックコントローラＦＢＣ１は、第１の制御ループ内のブロックＰ－Ｍ１の一部である第１のアクチュエータ１７に入力される第１の作動信号として提供される出力信号Ｏ１を提供する。第１の制御ループＣＬ－１は、第１のフィードバックコントローラＦＢＣ１の出力信号Ｏ１に追加されるフィードフォワード出力信号を所望の位置Ｒ１に基づいて提供する第１のフィードフォワードコントローラＦＦＣ１を含み得る。

【0035】

[00035] それに応じて、セットポイントジェネレータＳＰＧは、第２のミラー１４の所望の位置Ｒ２を出力する。この所望の位置Ｒ２は、第１のミラー１３の所望の位置Ｒ１と同様の所望の移動プロファイルに従う。第２のミラー１４の第２の測定位置ＭＰ２を所望の位置Ｒ２から減算して、第２のミラー１４の第２の位置誤差Ｅ２を決定する。第２の測定位置ＭＰ２は、第２の位置測定システム１６によって生じた周期的誤差ＣＥ２を含む。第２の位置誤差Ｅ２が第２のフィードバックコントローラＦＢＣ２に入力される前に、第１の制御ループＣＬ－１の第１の位置誤差Ｅ１を第２の位置誤差Ｅ２から減算して、適合された第２の位置誤差ＡＥ２を決定する。適合された第２の位置誤差ＡＥ２は第２のフィードバックコントローラＦＢＣ２に入力され、第２のフィードバックコントローラＦＢＣ２は、第２の制御ループＣＬ－２のブロックＰ－Ｍ２の一部である第２のアクチュエータ１８に第２の作動信号として提供される出力信号Ｏ２を提供する。

【0036】

[00036] 第２の制御ループＣＬ－２は、第２のフィードバックコントローラＦＢＣ２の出力信号Ｏ２に追加されるフィードフォワード出力信号を所望の位置Ｒ２に基づいて提供する第２のフィードフォワードコントローラＦＦＣ２を含み得る。

【0037】

[00037] 第１の位置誤差Ｅ１、すなわち第１のミラー１３の位置誤差を第２の制御ループＣＬ－２に取り入れることによって、フィードバックコントローラＦＢＣ２は、第１のミラー１３の第１の位置誤差Ｅ１を修正しようとする。第１の位置誤差Ｅ１は、低周波数成分（すなわち第１の帯域幅内）を有する。というのも、第１の制御ループＣＬ－１は、精度の高い軌道、及び周期的誤差に起因する高周波数の誤差に従うことができないからである。第２の制御ループＣＬ－２は、第２のフィードバックコントローラＦＢＣ２の第２の帯域幅内にある低周波数成分に従うことになり、これは、第２のミラー１４が第１のミラー１３と適切に位置合わせされたままであることを意味する。言い換えれば、第１のミラー１３及び第２のミラー１４は、所望の軌道からの同じ偏差又は同様の偏差を形成する。同様の偏差は、座標変換を第１のミラー１３の移動と第２のミラー１４の移動との間で適用した場合にも発生する場合がある。同じ座標変換が、第２の制御ループＣＬ－２に導入される前に、誤差Ｅ１にも適用される。

【0038】

[00038] 第２のミラー１４の適合された第２の位置誤差ＡＥ２には、３つの要素がある。
ａ）第１のミラー１３の第１の位置誤差Ｅ１を補正する必要があることによる小さい位置決め誤差。これは低周波数の誤差であるため、比較的小さい誤差である。
ｂ）第１のミラー１３の第１の位置測定システム１５の第１の周期的誤差ＣＥ１に起因する、高周波数での大きな寄与。
ｃ）第２のミラー１４の第２の位置測定システム１６の第２の周期的誤差ＣＥ２に起因する、同様の高周波数の寄与。

【0039】

[00039] 要素ａ）のみが、第１のミラー１３の実際の位置Ｐ１と第２のミラー１４の実際の位置Ｐ２との差として図３に概略的に示されているアライメント誤差ＡＥに加算されることになる。要素ｂ）及び要素ｃ）は、アライメント誤差ＡＥに実質的な影響を与えない。というのも、これらの誤差は、第２のフィードバックコントローラＦＢＣ２が従うことができない測定誤差である、第１の周期的誤差ＣＥ１と第２の周期的誤差ＣＥ２とに基づいているからである。

【0040】

[00040] 図３の実施形態では、第１の位置誤差Ｅ１は第２の位置誤差Ｅ２から減算されて、適合された第２の位置誤差ＡＥ２が得られることに留意されたい。別の実施形態では、第１の位置誤差Ｅ１は、この第１の位置誤差Ｅ１を第２の測定位置ＭＰ２に加算することによって、第２の制御ループＣＬ－２に取り入れられてもよい。そして、適合された第２の位置誤差ＡＥ２は、第２の測定位置ＭＰ２と第１の位置誤差Ｅ１の組み合わせを第２の所望の位置Ｒ２から減算することによって得られることになる。最初に第１の位置誤差Ｅ１を第２の所望の位置Ｒ２から減算し、次に第２の測定位置ＭＰ２を減算して、適合された第２の位置誤差ＡＥ２を得ることも可能である。

【0041】

[00041] ３つ以上の位置制御ミラーを投影システムＰＳ内に設ける場合、それぞれの位置制御ミラーは、後続ミラーとして制御されてよく、この場合、先行ミラーの第１の位置誤差、この実施形態では第１のミラー１３の第１の位置誤差Ｅ１は、それぞれの追加の制御ループに入力されて、適合された追加の位置誤差が決定され、それに基づいて、追加の制御ループのフィードバックコントローラは、追加の出力信号をアクチュエータに提供して、追加のミラーを所望の位置に位置決めすることができる。先行ミラーのこの第１の位置誤差をそれぞれの追加の制御ループに入力することにより、追加のミラーは、所望の軌道からの第１のミラー１３と同様の偏差を形成することになる。

【0042】

[00042] 実際には、投影システムＰＳの各ミラーが、１つの先行ミラーに続く後続ミラーとして制御される位置制御ミラーであることが有利である。先行ミラーは、最も重いミラー、及び／又は投影システムＰＳの光学性能を左右するミラーなどの、任意の好適なミラーとすることができる。更に、第１の制御ループＣＬ１の第１の位置誤差Ｅ１、すなわち、先行ミラーの位置誤差を、パターニングデバイスサポート構造ＭＴ及び／又は基板テーブルＷＴを位置決めするための制御ループにも入力することで、第１のミラー１３に対するパターニングデバイスサポート構造ＭＴ及び／又は基板テーブルＷＴのアライメントを改善することが有利な場合がある。

【0043】

[00043] 一例として、第１のミラー１３の所望の位置Ｒ１の移動プロファイルを図４に示す。上のグラフは時間における位置を示し、下のグラフは時間の経過に伴う速度を示す。第１のミラーが約４００μｍ／ｓの一定速度で約１００μｍの第１の移動範囲にわたって移動することが分かる。この一定速度での移動は、リソグラフィプロセスの投影段階中に実行される。投影段階と投影段階との間のアイドリング段階中、第１のミラー１３を反対方向に減速及び加速することによって、移動方向を変更することができる。

【0044】

[00044] 第２のミラー１４の所望の位置Ｒ２の移動プロファイルは、第１のミラー１３の所望の位置Ｒ１と同じであってよい。しかし、実際には、後続ミラー、例えば第２のミラー１４の移動プロファイルは、先行ミラー、例えば第１のミラー１３の移動に対する位置変換を含むことがある。

【0045】

[00045] 第１の周期的誤差ＣＥ１及び第２の周期的誤差ＣＥ２は、例えば１６０ｎｍの周期性を有し得る。第１のミラー１３及び第２のミラー１４を約４００μｍ／ｓの一定速度で移動させると、第１の制御ループＣＬ－１の第１の周期的誤差の第１の主周波数は約２．５ｋＨｚになる。これは、第１の制御ループＣＬ－１の第１の帯域幅と第２の制御ループＣＬ－２の第２の帯域幅をはるかに上回る。結果として、第１の制御ループＣＬ－１は第１の周期的誤差ＣＥ１に従うことができず、第２の制御ループＣＬ－２は第２の周期的誤差ＣＥ２に従うことができない。

【0046】

[00046] リソグラフィ装置の投影システムＰＳについて、ミラー１３、１４の連続的な移動が投影システムＰＳの光学性能に及ぼす悪影響が比較的小さいことが重要である。したがって、ミラーの所望の位置の移動プロファイルは、実質的に同じ移動又は移動プロファイルになるように選択するのではなく、光学性能に及ぼす悪影響が小さくなるように選択することが有利であり得る。

【0047】

[00047] 投影システム内のミラーの相対位置についての投影システムＰＳの光学感度は、光学感度マトリックスで記述できる。ミラーの移動プロファイルが光感度マトリックスのヌルスペース内に存在するように選択されると、その移動が投影システムＰＳの光学性能に及ぼす影響は比較的小さくなり得る。したがって、光感度マトリックスを使用して、先行ミラー及び後続ミラーの所望の移動プロファイルを設計することができる。発明者らは、３つ以上の位置制御ミラーを備えた投影システムＰＳにおいて、他のミラーのうちの少なくとも１つを静止させたままにしておくことが有益であり得ることを発見した。更に、発明者らは、位置制御ミラーごとの総移動量を所定の範囲内に制限することが有益であり得ることを発見した。

【0048】

[00048] 第１の位置測定システム１５及び第２の位置測定システム１６の周期的誤差の周期性を正確に測定することができ、且つ、第１のミラー１３及び第２のミラー１４の移動速度を正確に制御することができるため、第１の周期的誤差及び第２の周期的誤差のそれぞれの主周波数を正確に予測することができる。周期的誤差の存在による、起こり得る悪影響を更に減少させるために、第１の制御ループＣＬ－１には、第１のミラー１３を移動させることによって生じる第１の周期的誤差の第１の主周波数に対応する第１のフィルタ周波数を有する第１のノッチフィルタなどの第１のフィルタが設けられ得る。同様に、第２の制御ループＣＬ－２には、第２のミラー１４を移動させることによって生じる第２の周期的誤差の第２の主周波数に対応する第２のフィルタ周波数を有する第２のノッチフィルタなどの第２のフィルタが設けられ得る。

【0049】

[00049] 本明細書において、ＩＣ製造におけるリソグラフィ装置の使用について具体的な言及がなされているが、本明細書記載のリソグラフィ装置が、他の用途を有し得ることが理解されるべきである。他の可能な用途には、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスパターン及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造が含まれる。

【0050】

[00050] 本明細書において、リソグラフィ装置の関連での本発明の実施形態について具体的な言及がなされているが、本発明の実施形態は、他の装置で使用されてよい。本発明の実施形態は、マスク検査装置、メトロロジ装置、又はウェーハ（又は他の基板）やマスク（又は他のパターニングデバイス）などのオブジェクトを測定又は処理するあらゆる装置の一部を形成し得る。これらの装置は、通常リソグラフィツールと呼ばれることがある。このようなリソグラフィツールは、真空条件又は環境（非真空）条件を使用する場合がある。

【0051】

[00051] 光リソグラフィの関連での本発明の実施形態の使用について上述のとおり具体的な言及がなされたが、本発明は、状況が許すのであれば、光リソグラフィに限定されることはなく、また、他の用途、例えば、インプリントリソグラフィに使用されてもよいことが明らかである。

【0052】

[00052] 以上、本発明の具体的な実施形態を説明してきたが、本発明は、上述以外の態様で実施できることが明らかである。上記の説明は、例示を意図しており、限定を意図するものではない。したがって、以下に記載する特許請求の範囲から逸脱することなく、前述のように、本発明に対して修正を加えることができることが、当業者には明らかであろう。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【手続補正書】

【提出日】2024-08-14

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

投影段階及びアイドリング段階を有するリソグラフィプロセスにおける周期的誤差の影響を低減させる方法であって、前記方法は、
第１の制御ループにおいて第１のモジュールの第１の位置を制御することであって、前記第１のモジュールは投影システムの位置制御ミラーであり、前記第１の制御ループは第１の帯域幅を有し、且つ第１の周期的誤差を有する第１の位置測定システムを含む、制御することを含み、
前記第１の位置を制御することは、少なくとも前記投影段階中に前記第１のモジュールを連続的に移動させることで、前記第１の周期的誤差の第１の主周波数が前記第１の制御ループの前記第１の帯域幅を超えるようになることを含む、方法。

【請求項2】

前記方法は、第２の制御ループにおいて第２のモジュールの第２の位置を制御することを含み、
前記第１の位置及び前記第２の位置を制御することは、前記第１のモジュールの移動及び前記第２のモジュールの移動を互いに適合させて、前記第１のモジュールを連続的に移動させることによって生じる前記第１のモジュールと前記第２のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させることを含む、請求項１に記載の方法。

【請求項3】

前記第１のモジュールの移動及び前記第２のモジュールの移動を互いに適合させることは、前記第２のモジュールが前記第１のモジュールに従うように前記第２のモジュールの移動を前記第１のモジュールの移動に適合させることを含む、請求項２に記載の方法。

【請求項4】

前記第１のモジュールの第１の実際の位置と前記第１のモジュールの第１の基準位置との間の前記第１の制御ループにおける第１の位置誤差を前記第２の制御ループに入力することと、
前記第２のモジュールの第２の実際の位置、前記第２のモジュールの第２の基準位置、及び前記第１の位置誤差に基づいて、適合された第２の位置誤差を決定することと、
前記適合された第２の位置誤差を、前記第２の制御ループのフィードバックコントローラに対する入力として使用することと、
を含む、請求項２～３のいずれかに記載の方法。

【請求項5】

少なくとも前記投影段階中に前記第１のモジュールを移動させることは、前記第１のモジュールを一定の非ゼロ速度で、且つ一定の方向に移動させることを含む、請求項１～３のいずれかに記載の方法。

【請求項6】

ビームを投影するための投影システムであって、
第１の移動範囲を有する第１のモジュールであって、前記ビームを反射するように配置された前記投影システムの位置制御ミラーである、第１のモジュールと、
前記第１のモジュールの第１の位置を測定するための第１の位置測定システムと、
前記第１のモジュールの前記第１の位置を制御するための第１の制御ループを含む制御システムであって、前記第１の制御ループは第１の帯域幅を有する、制御システムと、を含み、
前記制御システムは、少なくともリソグラフィプロセスの投影段階中に前記第１のモジュールを連続的に移動させるように配置されることで、前記第１の位置測定システムの第１の周期的誤差の第１の主周波数が、前記第１の制御ループの前記第１の帯域幅を超えるようになる、投影システム。

【請求項7】

前記投影システムは、
第２の移動範囲を有する第２のモジュールと、
前記第２のモジュールの第２の位置を測定する第２の位置測定システムと、を含み、
前記制御システムは、前記第２のモジュールの前記第２の位置を制御する第２の制御ループを含み、
前記制御システムは、前記第１のモジュールの移動及び前記第２のモジュールの移動を互いに適合させて、前記第１のモジュールを連続的に移動させることによって生じる前記第１のモジュールと前記第２のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させるように配置される、請求項６に記載の投影システム。

【請求項8】

前記第２の制御ループは第２の帯域幅を有し、
前記制御システムは、少なくとも前記投影システムの投影段階中に前記第２のモジュールを連続的に移動させるように配置されることで、前記第２の位置測定システムの第２の周期的誤差の第２の主周波数が前記第２の制御ループの前記第２の帯域幅を超えるようになり、
前記制御システムは、前記第１のモジュールの移動及び前記第２のモジュールの移動を互いに適合させるように配置されて、前記第１のモジュール及び前記第２のモジュールを連続的に移動させることによって生じる前記第１のモジュールと前記第２のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させる、請求項７に記載の投影システム。

【請求項9】

前記制御システムは、前記第２のモジュールが前記第１のモジュールに従うように前記第２のモジュールの移動を前記第１のモジュールの移動に適合させるように配置される、請求項７又は８に記載の投影システム。

【請求項10】

前記制御システムは、
前記第１のモジュールの第１の実際の位置と前記第１のモジュールの第１の基準位置との間の前記第１の制御ループにおける第１の位置誤差を前記第２の制御ループに入力することと、
前記第２のモジュールの第２の実際の位置、前記第２のモジュールの第２の基準位置、及び前記第１の位置誤差に基づいて、適合された第２の位置誤差を決定することと、
前記適合された第２の位置誤差を、前記第２の制御ループのフィードバックコントローラに対する入力として使用することと、
を行うように配置される、請求項７又は８に記載の投影システム。

【請求項11】

前記第１のモジュールの移動及び前記第２のモジュールの移動は、前記投影システムの光学感度マトリックスのヌル空間内に存在するように適合される、請求項７又は８に記載の投影システム。

【請求項12】

前記制御システムは、前記第１のモジュールを少なくとも前記投影段階中に一定の非ゼロ速度で、且つ一定の方向に移動させるように配置される、請求項６～８のいずれかに記載の投影システム。

【請求項13】

前記第１の位置測定システム及び／又は前記第２の位置測定システムは、干渉計である、請求項６～８のいずれかに記載の投影システム。

【請求項14】

前記第１の制御ループは、前記第１のモジュールを移動させることから生じる前記第１の周期的誤差の前記第１の主周波数に対応する第１のフィルタ周波数を有する第１のノッチフィルタを含む、請求項６～８のいずれかに記載の投影システム。

【請求項15】

請求項６～８のいずれかに記載の投影システムを含むリソグラフィ装置。

【手続補正2】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５２

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0052】

[00052] 以上、本発明の具体的な実施形態を説明してきたが、本発明は、上述以外の態様で実施できることが明らかである。上記の説明は、例示を意図しており、限定を意図するものではない。したがって、以下に記載する特許請求の範囲から逸脱することなく、前述のように、本発明に対して修正を加えることができることが、当業者には明らかであろう。本発明の他の側面は、次の番号付けされた条項のように説明される。
１．投影段階及びアイドリング段階を有するリソグラフィプロセスにおける周期的誤差の影響を低減させる方法であって、方法は、
第１の制御ループにおいて第１のモジュールの第１の位置を制御することであって、第１のモジュールは投影システムの位置制御ミラーであり、第１の制御ループは第１の帯域幅を有し、且つ第１の周期的誤差を有する第１の位置測定システムを含む、制御することを含み、
第１の位置を制御することは、少なくとも投影段階中に第１のモジュールを連続的に移動させることで、第１の周期的誤差の第１の主周波数が第１の制御ループの第１の帯域幅を超えるようになることを含む、方法。
２．方法は、第２の制御ループにおいて第２のモジュールの第２の位置を制御することを含み、
第１の位置及び第２の位置を制御することは、第１のモジュールの移動及び第２のモジュールの移動を互いに適合させて、第１のモジュールを連続的に移動させることによって生じる第１のモジュールと第２のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させることを含む、条項１に記載の方法。
３．第２の制御ループは、第２の帯域幅を有し、且つ第２の周期的誤差を有する第２の位置測定システムを含み、
第１の位置及び第２の位置を制御することは、
少なくとも投影段階中に第２のモジュールを連続的に移動させることで、第２の周期的誤差の第２の主周波数が第２の制御ループの第２の帯域幅を超えるようになることと、
第１のモジュールの移動及び第２のモジュールの移動を互いに適合させて、第１のモジュール及び第２のモジュールを連続的に移動させることによって生じる第１のモジュールと第２のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させることと、を含む、条項２に記載の方法。
４．第１のモジュールの移動及び第２のモジュールの移動を互いに適合させることは、第２のモジュールが第１のモジュールに従うように第２のモジュールの移動を第１のモジュールの移動に適合させることを含む、条項２又は３に記載の方法。
５．第１のモジュールの第１の実際の位置と第１のモジュールの第１の基準位置との間の第１の制御ループにおける第１の位置誤差を第２の制御ループに入力することと、
第２のモジュールの第２の実際の位置、第２のモジュールの第２の基準位置、及び第１の位置誤差に基づいて、適合された第２の位置誤差を決定することと、
適合された第２の位置誤差を、第２の制御ループのフィードバックコントローラに対する入力として使用することと、
を含む、条項２～４のいずれかに記載の方法。
６．第２のモジュールは、第２の位置制御ミラー、パターニングデバイスサポート、又は基板サポートである、条項２～５のいずれかに記載の方法。
７．第１のモジュールの移動及び第２のモジュールの移動は、投影システムの光学感度マトリックスのヌル空間内に存在するように適合される、条項２～６のいずれかに記載の方法。
８．方法は、
追加の制御ループにおいて追加のモジュールの位置を制御することを含み、追加の制御ループは帯域幅を有し、且つ周期的誤差を有する位置測定システムを含み、
追加のモジュールの位置を制御することは、
少なくとも投影段階中に追加のモジュールを連続的に移動させることで、周期的誤差の主周波数が追加の制御ループの帯域幅を超えるようになることを含み、
追加のモジュールの移動は、第１のモジュールの移動に適合されて、第１のモジュールを連続的に移動させることによって生じる第１のモジュールと追加のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させる、条項２～７のいずれかに記載の方法。
９．追加のモジュールは、位置制御ミラー、パターニングデバイスサポート、又は基板サポートである、条項８に記載の方法。
１０．少なくとも投影段階中に第１のモジュールを移動させることは、第１のモジュールを一定の非ゼロ速度で、且つ一定の方向に移動させることを含む、条項１～９のいずれかに記載の方法。
１１．アイドリング段階は、第１のモジュールの移動方向及び／又は速度を適合させるために使用される、条項１０に記載の方法。
１２．第１の位置測定システム及び／又は第２の位置測定システムは、干渉計である、条項１～１１のいずれかに記載の方法。
１３．第１の制御ループは、第１のモジュールを移動させることから生じる第１の周期的誤差の第１の主周波数に対応する第１のフィルタ周波数を有する第１のノッチフィルタを含む、条項１～１２のいずれかに記載の方法。
１４．第２の制御ループは、第２のモジュールを移動させることから生じる第２の周期的誤差の第２の主周波数に対応する第２のフィルタ周波数を有する第２のノッチフィルタを含む、条項３～１３のいずれかに記載の方法。
１５．ビームを投影するための投影システムであって、
第１の移動範囲を有する第１のモジュールであって、ビームを反射するように配置された投影システムの位置制御ミラーである、第１のモジュールと、
第１のモジュールの第１の位置を測定するための第１の位置測定システムと、
第１のモジュールの第１の位置を制御するための第１の制御ループを含む制御システムであって、第１の制御ループは第１の帯域幅を有する、制御システムと、を含み、
制御システムは、少なくともリソグラフィプロセスの投影段階中に第１のモジュールを連続的に移動させるように配置されることで、第１の位置測定システムの第１の周期的誤差の第１の主周波数が、第１の制御ループの第１の帯域幅を超えるようになる、投影システム。
１６．投影システムは、
第２の移動範囲を有する第２のモジュールと、
第２のモジュールの第２の位置を測定する第２の位置測定システムと、を含み、
制御システムは、第２のモジュールの第２の位置を制御する第２の制御ループを含み、
制御システムは、第１のモジュールの移動及び第２のモジュールの移動を互いに適合させて、第１のモジュールを連続的に移動させることによって生じる第１のモジュールと第２のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させるように配置される、条項１５に記載の投影システム。
１７．第２の制御ループは第２の帯域幅を有し、
制御システムは、少なくとも投影システムの投影段階中に第２のモジュールを連続的に移動させるように配置されることで、第２の位置測定システムの第２の周期的誤差の第２の主周波数が第２の制御ループの第２の帯域幅を超えるようになり、
制御システムは、第１のモジュールの移動及び第２のモジュールの移動を互いに適合させるように配置されて、第１のモジュール及び第２のモジュールを連続的に移動させることによって生じる第１のモジュールと第２のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させる、条項１６に記載の投影システム。
１８．制御システムは、第２のモジュールが第１のモジュールに従うように第２のモジュールの移動を第１のモジュールの移動に適合させるように配置される、条項１６又は１７に記載の投影システム。
１９．制御システムは、
第１のモジュールの第１の実際の位置と第１のモジュールの第１の基準位置との間の第１の制御ループにおける第１の位置誤差を第２の制御ループに入力することと、
第２のモジュールの第２の実際の位置、第２のモジュールの第２の基準位置、及び第１の位置誤差に基づいて、適合された第２の位置誤差を決定することと、
適合された第２の位置誤差を、第２の制御ループのフィードバックコントローラに対する入力として使用することと、
を行うように配置される、条項１６～１８のいずれかに記載の投影システム。
２０．第２のモジュールは、第２の位置制御ミラー、パターニングデバイスサポート、又は基板サポートである、条項１６～１９のいずれかに記載の投影システム。
２１．第１のモジュールの移動及び第２のモジュールの移動は、投影システムの光学感度マトリックスのヌル空間内に存在するように適合される、条項１６～２０のいずれかに記載の投影システム。
２２．投影システムは、
移動範囲を有する追加のモジュールと、
追加のモジュールの位置を測定する追加の位置測定システムと、を含み、
制御システムは、追加のモジュールの位置を制御する追加の制御ループを含み、追加の制御ループは、帯域を含み、制御システムは、少なくとも投影システムの投影段階中に追加のモジュールを連続的に移動させることで、追加の位置測定システムの周期的誤差の主周波数が追加の制御ループの帯域幅を超えるようになることと、追加のモジュールの移動を第１のモジュールの移動に適合させて、第１のモジュール及び追加のモジュールを連続的に移動させることによって生じる第１のモジュールと追加のモジュールとの間のアライメント誤差を低減させることと、を行うように更に配置される、条項１６～２１のいずれかに記載の投影システム。
２３．追加のモジュールは、位置制御ミラー、パターニングデバイスサポート、又は基板サポートである、条項２２に記載の投影システム。
２４．制御システムは、第１のモジュールを少なくとも投影段階中に一定の非ゼロ速度で、且つ一定の方向に移動させるように配置される、条項１５～２３のいずれかに記載の投影システム。
２５．制御システムは、アイドリング段階中に第１のモジュールの移動方向及び／又は速度を適合させるように配置される、条項２４に記載の投影システム。
２６．第１の位置測定システム及び／又は第２の位置測定システムは、干渉計である、条項１５～２５のいずれかに記載の投影システム。
２７．第１の制御ループは、第１のモジュールを移動させることから生じる第１の周期的誤差の第１の主周波数に対応する第１のフィルタ周波数を有する第１のノッチフィルタを含む、条項１５～２６のいずれかに記載の投影システム。
２８．第２の制御ループは、第２のモジュールを移動させることから生じる第２の周期的誤差の第２の主周波数に対応する第２のフィルタ周波数を有する第２のノッチフィルタを含む、条項１７～２７のいずれかに記載の投影システム。
２９．条項１５～２８のいずれかに記載の投影システムを含むリソグラフィ装置。

【国際調査報告】