特表2026-500064異なるプロセスステップでのスペクトル差に基づく半導体構造の測定

発明の名称　異なるプロセスステップでのスペクトル差に基づく半導体構造の測定

出願人　ケーエルエー−テンカー　コーポレイション　（識別番号 500049141）

　　　　特許公開件数ランキング 284 位（36件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 453 位（18件）（共同出願を含む）

公報番号　特表-2026-500064

公報発行日　2026年1月6

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_P1-2026-500064

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