特表-17104854IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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再表2017-104854近赤外線遮蔽超微粒子分散体、日射遮蔽用中間膜、赤外線遮蔽合わせ構造体、および近赤外線遮蔽超微粒子分散体の製造方法
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  • 再表WO2017104854-近赤外線遮蔽超微粒子分散体、日射遮蔽用中間膜、赤外線遮蔽合わせ構造体、および近赤外線遮蔽超微粒子分散体の製造方法 図000008
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