【化1】

【化2】

【化3】

【化4】

【化5】

【化6】

【化7】

【技術分野】

【0001】

【背景技術】

【0002】

【0003】

【先行技術文献】

【発明の概要】

本発明は窒素原子上にアルキル基等の置換基を導入したヒドラゾン部位と、ベンゾチアゾール部位とを有する重合性化合物の製造方法、当該化合物を含有する組成物を提供することである。また、当該製造方法により得られた重合性化合物を含有する重合性組成物を重合して得られるフィルム状の重合物に対し長期間紫外光を照射した際に、変色及び配向性の低下が生じにくい重合性組成物を提供することである。更に、当該製造方法により得られた化合物を含有する重合性組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。

本発明者らは、課題を解決すべく、鋭意研究を行った結果、窒素原子上にアルキル基等の置換基を導入したヒドラゾン部位と、ベンゾチアゾール部位とを有する重合性化合物の製造方法の開発に至った。すなわち、本願発明は、一般式（Ｉ−Ｂ−ａ）で表される化合物と一般式（Ｉ−Ｂ−ｂ）で表される化合物とを反応させ、一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物を得る工程を含む、重合性化合物の製造方法を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、当該化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、有機ＥＬ材料、有機半導体材料、電子材料、表示素子、電子デバイス、通信機器、自動車部品、航空機部品、機械部品、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品、重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

本願発明の製造方法によって製造した化合物を含有する重合性液晶組成物を用いた光学異方体は、長期間紫外光を照射した場合に変色が生じにくく、配向性の低下が生じにくいことから、本願発明の製造方法によって製造した化合物は光学補償フィルム等の光学材料の用途に有用である。

【発明を実施するための形態】

本発明は窒素原子上にアルキル基等の置換基を導入したヒドラゾン部位と、ベンゾチアゾール部位とを有する重合性化合物の製造方法、当該重合性化合物を含有する組成物、当該化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、有機ＥＬ材料、有機半導体材料、電子材料、表示素子、電子デバイス、通信機器、自動車部品、航空機部品、機械部品、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品、重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

一般式（Ｉ−Ｂ−ａ）

において、Ｗ^２は１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくは１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数３から２０の直鎖状又は分岐状ヒドロキシアルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されても良い。合成の容易さ、紫外光を照射した場合の変色及び配向性の観点から、一般式（Ｉ−Ｂ−ａ）において、Ｗ^２で表される基が１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数２から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくは１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数３から２０の直鎖状又は分岐状ヒドロキシアルキル基を表すが、当該アルキル基及びヒドロキシアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されても良い基を表すことが好ましく、一般式（Ｉ−Ｂ−ａ）において、Ｗ^２で表される基が下記の式（Ｗ２−ａ−１）から式（Ｗ２−ａ−６）

（式中、ｋ２ａは２から２０の整数を表し、ｋ２ｂは１から５の整数を表し、ｋ２ｃは３から２０の整数を表し、ｋ２ｄは１から５の整数を表す。）から選ばれる化合物を表すことが好ましい。一般式（Ｉ）で表される化合物の液晶性、逆波長分散性及び溶媒への溶解性の観点から、の式（Ｗ２−ａ−１）において、ｋ２ａは４から１２の整数を表すことがより好ましく、４から８の整数を表すことがさらに好ましく、６を表すことが特に好ましい。の式（Ｗ２−ａ−２）及び式（Ｗ２−ａ−３）において、ｋ２ｂは１から４の整数を表すことがより好ましく、１から３の整数を表すことがさらに好ましく、２を表すことが特に好ましい。の式（Ｗ２−ａ−４）において、ｋ２ｃは３から１２の整数を表すことがより好ましく、３から８の整数を表すことがさらに好ましく、４から６の整数を表すことが特に好ましい。の式（Ｗ２−ａ−５）及び式（Ｗ２−ａ−６）において、ｋ２ｄは１から４の整数を表すことがより好ましく、１から３の整数を表すことがさらに好ましく、２を表すことが特に好ましい。の式（Ｗ２−ａ−１）から式（Ｗ２−ａ−６）において、式（Ｗ２−ａ−１）、式（Ｗ２−ａ−３）、式（Ｗ２−ａ−４）又は式（Ｗ２−ａ−６）で表される基がより好ましい。

一般式（Ｉ−Ｂ−ａ）で表される化合物としては下記の式（Ｉ−Ｂ−ａ−１）から式（Ｉ−Ｂ−ａ−４）

（式中、ｋ２ａ１は２から２０の整数を表し、ｋ２ｂ１は１から５の整数を表し、ｋ２ｃ１は３から２０の整数を表し、ｋ２ｄ１は１から５の整数を表す。）で表される化合物が好ましく、下記の式（Ｉ−Ｂ−ａ−１−１）から式（Ｉ−Ｂ−ａ−４−１）

（式中、ｋ２ａ１１は４から１２の整数を表し、ｋ２ｂ１１は１から４の整数を表し、ｋ２ｃ１１は３から１２の整数を表し、ｋ２ｄ１１は１から４の整数を表す。）で表される化合物がより好ましく、下記の式（Ｉ−Ｂ−ａ−２−１−１）及び式（Ｉ−Ｂ−ａ−４−１−１）

（式中、ｋ２ｂ１１１は１から３の整数を表し、ｋ２ｄ１１１は１から３の整数を表す。）で表される化合物が特に好ましい。

一般式（Ｉ−Ｂ−ｂ）

において、Ｌ^Ｗ１はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。また、Ｌ^Ｗ１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。合成の容易さ、原料の入手容易さの観点から、Ｌ^Ｗ１はフッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、ジメチルアミノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−又は−Ｓ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、ジメチルアミノ基、メチル基又はメトキシ基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ−Ｂ−ｂ）において、ｒは０から４の整数を表す。合成の容易さ、原料の入手容易さの観点から、ｒは０から２の整数を表すことが好ましく、０又は１を表すことがより好ましく、０を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ−Ｂ−ｂ）において、ＬＧ^１は一般式（Ｉ−Ｂ−ａ）で表される化合物と反応し脱離する基を表す。合成の容易さ、原料の入手容易さ、反応性の観点から、ＬＧ^１はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メトキシ基、メチルスルファニル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ヒドラジニル基又はベンゾチアゾール−２−イルジスルファニル基を表すことが好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メトキシ基、アミノ基、ヒドラジニル基を表すことがより好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を表すことがさらに好ましく、フッ素原子、塩素原子を表すことがさらにより好ましく、塩素原子を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ−Ｂ−ａ）で表される化合物と一般式（Ｉ−Ｂ−ｂ）で表される化合物とを反応させ、一般式（Ｉ−Ｃ）

で表される化合物を得る工程において、アルカリ又は塩基存在下反応させる反応条件が好ましい。収率及び精製の容易さの観点から、塩基を使用することが好ましく、塩基としてはアンモニア、第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン、芳香族アミン又はそれらの塩が好ましく、収率の観点から第二級アミン、第三級アミン、芳香族アミンがより好ましく、第三級アミンがさらに好ましい。より具体的にはＮ，Ｎ−ジメチルエチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、ピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンが好ましく、トリエチルアミン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミンがより好ましい。アルカリとしては水酸化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸カルシウム等が好ましい。

反応温度は、−１００℃から２００℃であることが好ましく、収率及び反応速度の観点から、−５０℃から１５０℃であることがより好ましく、−２０℃から１２０℃であることがさらに好ましく、０℃から８０℃であることがさらにより好ましい。

反応溶媒としては有機溶媒、水、イオン液体、超臨界流体を単独で用いても良く、複数を混合して用いても良く、二相系であっても良く、若しくは無溶媒反応であっても良い。有機溶媒としては例えば、イソプロピルアルコール、２−メトキシエタノール、エチレングリコール、メタノール、エタノール、プロパノール、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、アセトン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフラン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、ジメトキシエタン等が挙げられる。

有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒としては、例えば、塩化ベンザルコニウム、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ポリオキシエチレン（１０）オクチルフェニルエーテル［Ｔｒｉｔｏｎ Ｘ−１００］、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノラウラート［Ｔｗｅｅｎ ２０］、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノパルミタート［Ｔｗｅｅｎ ４０］、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノステアラート［Ｔｗｅｅｎ ６０］ポリオキシエチレン（２３）ラウリルエーテル［Ｂｒｉｊ３５］、ソルビタンモノパルミタート［Ｓｐａｎ ４０］等が挙げられる。

反応溶媒の量は、反応によって生じる反応熱を十分に逃がすことのできる量であれば特に制限は無いが、溶媒の量が少なすぎると反応熱が反応系に蓄積し副生成物を生じやすくなってしまう。一方、溶媒の量が多すぎると反応物の濃度が低下し、反応速度が著しく低下してしまう。以上の観点から、一般式（Ｉ−Ｂ−ｂ）で表される化合物１グラムに対し、溶媒の量が０．０１ミリリットルから１リットルであることが好ましく、一般式（Ｉ−Ｂ−ｂ）で表される化合物１グラムに対し、溶媒の量が０．１ミリリットルから１００ミリリットルであることがより好ましく、一般式（Ｉ−Ｂ−ｂ）で表される化合物１グラムに対し、溶媒の量が１ミリリットルから２０ミリリットルであることがさら好ましく、一般式（Ｉ−Ｂ−ｂ）で表される化合物１グラムに対し、溶媒の量が２ミリリットルから１０ミリリットルであることが特に好ましい。

一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物としては下記の式（Ｉ−Ｃ−１）から式（Ｉ−Ｃ−６）

（式中、ｋ２ａは２から２０の整数を表し、ｋ２ｂは１から５の整数を表し、ｋ２ｃは３から２０の整数を表し、ｋ２ｄは１から５の整数を表し、Ｌ^Ｗ１１はフッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、ジメチルアミノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−又は−Ｓ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基を表し、ｒ１は０から２の整数を表す。）から選ばれる化合物を表すことが好ましい。一般式（Ｉ）で表される化合物の液晶性、逆波長分散性及び溶媒への溶解性の観点から、の式（Ｉ−Ｃ−１）において、ｋ２ａは４から１２の整数を表すことがより好ましく、４から８の整数を表すことがさらに好ましく、６を表すことが特に好ましい。の式（Ｉ−Ｃ−２）及び式（Ｉ−Ｃ−３）において、ｋ２ｂは１から４の整数を表すことがより好ましく、１から３の整数を表すことがさらに好ましく、２を表すことが特に好ましい。の式（Ｉ−Ｃ−４）において、ｋ２ｃは３から１２の整数を表すことがより好ましく、３から８の整数を表すことがさらに好ましく、４から６の整数を表すことが特に好ましい。の式（Ｉ−Ｃ−５）及び式（Ｉ−Ｃ−６）において、ｋ２ｄは１から４の整数を表すことがより好ましく、１から３の整数を表すことがさらに好ましく、２を表すことが特に好ましい。の式（Ｉ−Ｃ−１）から式（Ｉ−Ｃ−６）において、式（Ｉ−Ｃ−１）、式（Ｉ−Ｃ−３）、式（Ｉ−Ｃ−４）又は式（Ｉ−Ｃ−６）で表される化合物がより好ましく、下記の式（Ｉ−Ｃ−１−１）から式（Ｉ−Ｃ−６−１）

（式中、ｋ２ａ１は２から２０の整数を表し、ｋ２ｂ１は１から５の整数を表し、ｋ２ｃ１は３から２０の整数を表し、ｋ２ｄ１は１から５の整数を表し、Ｌ^Ｗ１１１はフッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、ジメチルアミノ基、メチル基又はメトキシ基を表し、ｒ１１は０又は１を表す。）で表される化合物がより好ましく、下記の式（Ｉ−Ｃ−１−１−１）から式（Ｉ−Ｃ−６−１−１）

（式中、ｋ２ａ１１は４から１２の整数を表し、ｋ２ｂ１１は１から４の整数を表し、ｋ２ｃ１１は３から１２の整数を表し、ｋ２ｄ１１は１から４の整数を表し、Ｌ^Ｗ１１１はフッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、ジメチルアミノ基、メチル基又はメトキシ基を表し、ｒ１１は０又は１を表す。）で表される化合物がさらに好ましく、下記の式（Ｉ−Ｃ−３−１−１）及び式（Ｉ−Ｃ−６−１−１）

（式中、ｋ２ｂ１１１は１から３の整数を表し、ｋ２ｄ１１１は１から３の整数を表す。）で表される化合物が特に好ましい。

一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物を中間体として製造する重合性化合物としては、一般式（Ｉ）

で表される化合物であることが好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｐ^１は重合性基を表すが、重合性基としてはラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基であり、下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）

から選ばれる基を表すことが好ましい。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）、式（Ｐ−１５）又は式（Ｐ−１８）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｓｐ^１はスペーサー基を表すが、Ｓｐ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。スペーサー基としては、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことが好ましい。Ｓｐ^１は原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０のアルキレン基を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して炭素原子数１から１０のアルキレン基を表すことがさらに好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｘ^１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｘ^１は複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、ｋ１は０から１０の整数を表すが、溶媒への溶解性、液晶組成物に添加する場合には液晶性の観点から、０から５の整数を表すことが好ましく、１から３の整数を表すことがより好ましく、１を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｒは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基、若しくはＲは−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基を表す。Ｒが−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基以外の基を表す場合、液晶性及び合成の容易さの観点から、Ｒは水素原子、フッ素原子、塩素原子、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表すことがより好ましく、水素原子、フッ素原子、塩素原子、若しくは、炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表すことがさらに好ましく、炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。また、Ｒが−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基を表す場合、Ｐ^２、Ｓｐ^２、Ｘ^２及びｋ２の好ましい構造は各々Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ｘ^１及びｋ１の好ましい構造と同様である。

フィルムにした場合の機械的強度、硬化性を重視する場合、Ｒは−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基を表すことがより好ましい。また、フィルムにした場合の硬化収縮の少なさを重視する場合、Ｒは−（Ｘ^２−Ｓｐ^２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基以外の基を表すことがより好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良く、Ａ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、合成の容易さ、原料の入手容易さの観点から、Ａ^１及びＡ^２は、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−１１）

から選ばれる基を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−８）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−４）から選ばれる基を表すことがさらにより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して式（Ａ−１）又は式（Ａ−２）を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｌは各々独立して、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、ＬはＰ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^Ｌは重合性基を表し、重合性基としてはラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基であり、Ｓｐ^Ｌは１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から１０の直鎖状アルキレン基又は単結合を表すが、Ｓｐ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^Ｌは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^Ｌ−（Ｓｐ^Ｌ−Ｘ^Ｌ）_ｋＬ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬは０から１０の整数を表すが、化合物内にｋＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、合成の容易さの観点から、Ｌは、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から８の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｚ^１及びＺ^２は、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、ｍ１及びｍ２は各々独立して０から６の整数を表すが、ｍ１＋ｍ２は０から６の整数を表す。溶媒への溶解性、液晶性、紫外光を照射した場合の変色及び配向性の観点から、ｍ１及びｍ２は各々独立して１から３の整数を表すことが好ましく、各々独立して１又は２を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｍは置換されていても良い３価の芳香族基を表す。合成の容易さ、原料の入手容易さの観点から、Ｍは下記の式（Ｍ−１）から式（Ｍ−６）

（式中、これらの基は無置換又は１つ以上の置換基Ｌ^Ｍによって置換されても良く、任意の−ＣＨ＝は各々独立して−Ｎ＝に置き換えられても良い。）から選ばれる基を表すことが好ましく、無置換又は１つ以上の置換基Ｌ^Ｍによって置換されても良い式（Ｍ−１）、式（Ｍ−２）、式（Ｍ−５）又は式（Ｍ−６）から選ばれる基を表すことがより好ましく、無置換又は１つ以上の置換基Ｌ^Ｍによって置換されても良い式（Ｍ−１）又は式（Ｍ−２）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、無置換の式（Ｍ−１）又は式（Ｍ−２）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｌ^Ｍはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、若しくは、Ｌ^ＭはＰ^ＬＭ−（Ｓｐ^ＬＭ−Ｘ^ＬＭ）_ｋＬＭ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^ＬＭは重合性基を表し、重合性基としてはラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基であり、Ｓｐ^ＬＭはスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓｐ^ＬＭが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^ＬＭは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^ＬＭが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^ＬＭ−（Ｓｐ^ＬＭ−Ｘ^ＬＭ）_ｋＬＭ−には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。）、ｋＬＭは０から１０の整数を表すが、化合物内にＬ^Ｍが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、合成の容易さの観点から、Ｌ^Ｍは、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基又はメトキシ基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｙは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基又は１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。液晶性及び合成の容易さの観点からＹは水素原子、又は、基中の任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、Ｙは水素原子又は炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基を表すことがさらに好ましく、Ｙは水素原子を表すことが特に好ましい。

なお、一般式（Ｉ）で表される化合物には−Ｏ−Ｏ−結合を含まない。

一般式（Ｉ）で表される化合物としてより具体的には下記の一般式（Ｉ−ｉａ）、一般式（Ｉ−ｉｂ）及び一般式（Ｉ−ｉｉ）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｋ１、ｋ２、Ｍ、Ｙ、Ｗ^２、Ｌ^Ｗ１及びｒは一般式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表し、Ａ^１１、Ａ^２１、Ａ^１３、Ａ^２２、Ａ^２３、Ａ^１５及びＡ^２５は各々独立して１，４−フェニレン基又は１，４−シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^１によって置換されても良く、Ａ^１２、Ａ^１４、Ａ^１６及びＡ^２４は各々独立して１，４−シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^２によって置換されても良く、Ｌ^１及びＬ^２は各々独立して一般式（Ｉ）におけるＬと同じ意味を表すが、化合物内にＬ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、化合物内にＬ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^１１、Ｚ^２１、Ｚ^１３、Ｚ^２２、Ｚ^２３、Ｚ^１５及びＺ^２５は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は単結合を表し、Ｚ^１２、Ｚ^１４、Ｚ^１６及びＺ^２４は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−ＯＣＦ_２−を表す。）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物としてより具体的には下記の一般式（Ｉ−ｉａ−ｉ）、一般式（Ｉ−ｉｂ−ｉ）及び一般式（Ｉ−ｉｉ−ｉ）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｋ１、ｋ２及びＷ^２は一般式（Ｉ）と同じ意味を表し、Ｒ^１１は炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表し、Ａ^１１１、Ａ^１３１、Ａ^１５１及びＡ^２５１は１，４−フェニレン基を表すが、当該基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^１１によって置換されても良く、Ａ^１２１、Ａ^１４１、Ａ^２２１、Ａ^２３１、Ａ^１６１及びＡ^２４１は１，４−シクロヘキシレン基を表し、Ａ^２１１は１，４−フェニレン基又は１，４−シクロヘキシレン基を表すが、当該１，４−フェニレン基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^１１によって置換されても良く、Ｌ^１１はフッ素原子、塩素原子、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、化合物内にＬ^１１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^１１１、Ｚ^１２１、Ｚ^１３１、Ｚ^１４１、Ｚ^１５１、Ｚ^１６１、Ｚ^２４１及びＺ^２５１は各々独立して−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｚ^２１１、Ｚ^２２１及びＺ^２３１は各々単結合を表し、Ｍ^１は下記の式（Ｍ−１−１）又は式（Ｍ−２−１）

から選ばれる基を表し、Ｙ^１は水素原子を表す。）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（Ｉ−Ｂ−ａ）で表される化合物は下記の一般式（Ｉ−Ａ）

（式中、Ｗ^２は前記と同じ意味を表し、ＬＧ^２はヒドラジンと反応し脱離する基を表す。）で表される化合物とヒドラジンとの反応によって製造されることが好ましい。

一般式（Ｉ−Ａ）において、ＬＧ^２はヒドラジンと反応し脱離する基を表すが、合成の容易さ、コスト、反応性の観点から、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニル基又はｐ−トルエンスルホニル基を表すことが好ましく、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を表すことがより好ましく、塩素原子、臭素原子を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物とヒドラジンとの反応において、使用するヒドラジンとしては、ヒドラジン、ヒドラジン一水和物（抱水ヒドラジン）、ヒドラジン塩等が可能である。これらはそのまま使用しても良く、溶媒で希釈しても良く、ポリマーや固相に担持したものや、多孔質物質に吸着させたものを使用しても良い。

一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物とヒドラジンとの反応において、アルカリ又は塩基を使用しても良く、使用しなくても良い。アルカリ又は塩基としては前記のものが挙げられる。精製の容易さの観点から、アルカリ又は塩基を使用しない条件が好ましい。

一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物とヒドラジンとの反応において、反応温度は、−１００℃から２００℃であることが好ましく、収率及び反応速度の観点から、−５０℃から１５０℃であることがより好ましく、−２０℃から１２０℃であることがさらに好ましく、０℃から８０℃であることがさらにより好ましい。

一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物とヒドラジンとの反応において、反応溶媒の種類としては前記のものが挙げられるが、化合物の溶解性、収率の観点からアルコール系が好ましく、例えばイソプロピルアルコール、２−メトキシエタノール、エチレングリコール、メタノール、エタノール、プロパノール等が挙げられる。有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒としては、前記のものが挙げられる。

反応溶媒の量は、反応によって生じる反応熱を十分に逃がすことのできる量であれば特に制限は無いが、溶媒の量が少なすぎると反応熱が反応系に蓄積し副生成物を生じやすくなってしまう。一方、溶媒の量が多すぎると反応物の濃度が低下し、反応速度が著しく低下してしまう。以上の観点から、一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物１グラムに対し、溶媒の量が０．０１ミリリットルから１リットルであることが好ましく、一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物１グラムに対し、溶媒の量が０．１ミリリットルから１００ミリリットルであることがより好ましく、一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物１グラムに対し、溶媒の量が１ミリリットルから２０ミリリットルであることがさら好ましく、一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物１グラムに対し、溶媒の量が２ミリリットルから１０ミリリットルであることが特に好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物は、の一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物と下記の一般式（Ｉ−Ｄ）

（式中、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ｘ^１、ｋ１、Ｒ、Ａ^１、Ａ^２、Ｚ^１、Ｚ^２、ｍ１、ｍ２、Ｍ及びＹは一般式（Ｉ）と同じ意味を表す。）で表される化合物との反応によって製造されることが好ましい。

一般式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物と一般式（Ｉ−Ｄ）で表される化合物との反応において、反応速度の観点から、酸を添加することが好ましい。酸としては、無機酸であっても有機酸であっても良い。無機酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等が挙げられる。有機酸としては、酢酸、ギ酸、シュウ酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム、（±）−１０−カンファースルホン酸等が挙げられる。精製の容易さの観点から、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム、（±）−１０−カンファースルホン酸等が好ましい。酸の添加量としては、一般式（Ｉ−Ｄ）で表される化合物に対して０．００１当量から１０当量であることが好ましく、０．００１当量から１当量であることがより好ましく、０．０１当量から０．５当量であることが特に好ましい。

反応温度は、−１００℃から２００℃であることが好ましく、収率及び反応速度の観点から、−５０℃から１５０℃であることがより好ましく、−２０℃から１２０℃であることがさらに好ましく、０℃から８０℃であることがさらにより好ましく、室温から５０℃であることが特に好ましい。

反応溶媒としてはアルコール又はエーテルを用いることが好ましく、アルコールとエーテルとの混合溶媒を用いることがより好ましい。より具体的には前記のものが挙げられる。

また、反応後必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、濾過、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、遠心分離、分液処理、分散洗浄等が挙げられる。精製剤を用いる場合、精製剤としてシリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲル等が挙げられる。

一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の式（Ｉ−ｉａ−ｉ−１）から式（Ｉ−ｉｉ−ｉ−２）

（式中、Ｗ^１１１及びＷ^１２１は水素原子又はメチル基を表し、Ｓｐ^１１１及びＳｐ^１２１は２から８のアルキレン基を表し、Ｒ^１１１は炭素原子数１から８の直鎖アルキル基を表し、Ｒ^１１２は炭素原子数１から８の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表し、Ｗ^２は一般式（Ｉ）と同じ意味を表す。）で表される化合物を表すことが好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の式（Ｉ−ｉａ−ｉ−１−１）から式（Ｉ−ｉｉ−ｉ−２−２）

（式中、Ｗ^１１１及びＷ^１２１は水素原子又はメチル基を表し、Ｓｐ^１１１及びＳｐ^１２１は２から８のアルキレン基を表し、Ｒ^１１１は炭素原子数１から８の直鎖アルキル基を表し、Ｒ^１１２は炭素原子数１から８の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表し、ｋ２ａ１は２から１０の整数を表し、ｋ２ｂ１は１又は２を表し、ｋ２ｃ１は３から８の整数を表し、ｋ２ｄ１は１又は２を表す。）で表される化合物を表すことがより好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物を中間体として、一般式（ＩＩ）で表される化合物を製造することが可能である。重合性化合物（ＩＩ）としては下記の式（ＩＩ−ｉｉ−ｉ−２−１）又は式（ＩＩ−ｉｉ−ｉ−２−２）

（式中、Ｗ^１１１、Ｗ^１２１及びＷ^１３１は水素原子又はメチル基を表し、Ｓｐ^１１１及びＳｐ^１２１は２から８のアルキレン基を表し、ｋ２ｃ１は３から８の整数を表し、ｋ２ｄ１は１又は２を表す。）で表される化合物を表すことが好ましい。

以下、実施例を挙げて本発明を更に記述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。各工程において酸素及び／又は水分に不安定な物質を取り扱う際は、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス中で作業を行うことが好ましい。
（ＧＣ分析条件）
カラム：Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｊ＆Ｗ Ｃｏｌｕｍｎ ＤＢ−１ＨＴ，１５ｍ×０．２５ｍｍ×０．１０μｍ
温度プログラム：１００℃（１分間）−（２０℃／分間）−２５０℃−（１０℃／分間）−３８０℃−（７℃／分間）−４００℃（２．６４分間）
注入口温度：３５０℃
検出器温度：４００℃
（ＵＰＬＣ分析条件）
カラム：Ｗａｔｅｒｓ ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ ＢＥＨ Ｃ_１８，２．１×１００ｍｍ，１．７μｍ
溶出溶媒：アセトニトリル／水（９０：１０）
流速：０．５ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：ＵＶ，２１０ｎｍ
カラムオーブン：４０℃
（実施例１）式（Ｃ−１）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下反応容器にヒドラジン一水和物４５．４９ｇ、エタノール２２７ｍＬを加え８０℃で撹拌した。式（Ｃ−１−１）で表される化合物１５．００ｇをエタノール３０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、８０℃で４時間加熱撹拌した。水を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を留去することにより、式（Ｃ−１−２）で表される化合物７．１２ｇを得た。 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−１−３）で表される化合物８．００ｇ、トリエチルアミン６．２０ｇ、１，２−ジメトキシエタン４０ｍＬを加えた。式（Ｃ−１−２）で表される化合物７．１２ｇを滴下した後６０℃で３時間加熱撹拌した。反応液を水５００ｍＬ及びメタノール１００ｍＬの混合溶液に注ぎ析出した固体を濾過した。固体を水洗いした後、ヘキサンで洗浄し、式（Ｃ−１）で表される化合物５．１３ｇを得た。
（比較例１）特許文献３に記載の方法による式（Ｃ−１Ｒ）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−１Ｒ−１）で表される化合物２．００ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬ、炭酸カリウム８．３６ｇ、式（Ｃ−１Ｒ−２）で表される化合物３．０８ｇを加え５０℃で７時間撹拌した。冷却後、水２００ｍＬに注ぎ酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｃ−１Ｒ）で表される化合物２．１０ｇを得た。
（実施例２）式（Ｃ−２）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−２−１）で表される化合物５．０ｇ、ジイソプロピルエチルアミン４．６ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。式（Ｃ−２−２）で表される化合物３．１ｇを滴下した後加熱撹拌した。分液処理を行った後、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）で精製を行い、式（Ｃ−２）で表される化合物２．０ｇを得た。
（比較例２）特許文献３に記載の方法による式（Ｃ−２Ｒ）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−２Ｒ−１）で表される化合物２．００ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬ、炭酸カリウム８．３６ｇ、式（Ｃ−３Ｒ−２）で表される化合物２．６７ｇを加え５０℃で７時間撹拌した。冷却後、水２００ｍＬに注ぎ酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｃ−２Ｒ）で表される化合物２．３４ｇを得た。
（実施例３）式（Ｃ−３）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−３−２）で表される化合物７．１ｇ、ピリジン３．９ｇ、１，２−ジメトキシエタン２０ｍＬを加えた。式（Ｃ−３−１）で表される化合物５．５ｇと１，２−ジメトキシエタン１５ｍＬとを混合し滴下した後加熱撹拌した。分液処理を行った後、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）によって精製することにより、式（Ｃ−３）で表される化合物４．２ｇを得た。
（比較例３）特許文献３に記載の方法による式（Ｃ−３Ｒ）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−３Ｒ−１）で表される化合物１．４５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬ、炭酸カリウム３．６３ｇ、式（Ｃ−３Ｒ−２）で表される化合物２．５０ｇを加え８０℃で８時間撹拌した。冷却後、水２００ｍＬに注ぎ酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｃ−３Ｒ）で表される化合物０．９６ｇを得た。
（実施例４）式（Ｃ−４）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−４−１）で表される化合物５．０ｇ、トリエチルアミン６．１ｇ、１，２−ジメトキシエタン２０ｍＬを加えた。式（Ｃ−４−２）で表される化合物４．６ｇと１，２−ジメトキシエタン１５ｍＬとを混合し滴下した後加熱撹拌した。分液処理を行った後、乾燥させることにより、式（Ｃ−４）で表される化合物５．６ｇを得た。
（比較例４）特許文献３に記載の方法による式（Ｃ−４Ｒ）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−４Ｒ−１）で表される化合物３．００ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬを加えた。０℃でヘキサメチルジシラザンリチウム（２６％テトラヒドロフラン溶液）１１．４ｍＬを滴下し３０分間撹拌した。式（Ｃ−４Ｒ−２）で表される化合物２．９ｍＬを加え２５℃で６時間撹拌した。水１００ｍＬに注ぎ酢酸エチル１５０ｍＬで抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｃ−４Ｒ）で表される化合物２．０７ｇを得た。
（実施例５）式（Ｃ−５）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下反応容器にヒドラジン一水和物１６．６ｇ、エタノール５０ｍＬを加え８０℃で撹拌した。式（Ｃ−５−１）で表される化合物１５．０ｇをエタノール３０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、８０℃で４時間加熱撹拌した。水を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を留去することにより、式（Ｃ−５−２）で表される化合物６．９ｇを得た。 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−５−３）で表される化合物５．００ｇ、トリエチルアミン３．６ｇ、１，２−ジメトキシエタン６０ｍＬを加えた。式（Ｃ−５−２）で表される化合物４．６ｇを滴下した後６０℃で３時間加熱撹拌した。反応液を水２００ｍＬ及びメタノール５０ｍＬの混合溶液に注ぎ析出した固体を濾過した。固体を水洗いした後、ヘキサンで洗浄し、式（Ｃ−５）で表される化合物４．７ｇを得た。
（比較例５）特許文献３に記載の方法による式（Ｃ−５Ｒ）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−５Ｒ−１）で表される化合物２．００ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍＬ、炭酸セシウム７．９ｇを加えた。０℃で、式（Ｃ−５Ｒ−２）で表される化合物３．３ｍＬを加え２５℃で３時間撹拌した。水２００ｍＬに注ぎ酢酸エチル２００ｍＬで抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｃ−５Ｒ）で表される化合物１．８ｇを得た。
（実施例６）式（Ｃ−６）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−６−１）で表される化合物５．０ｇ、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン５．１ｇ、１，２−ジメトキシエタン３０ｍＬを加えた。式（Ｃ−６−２）で表される化合物６．７ｇを滴下した後加熱撹拌した。分液処理を行った後、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）によって精製することにより、式（Ｃ−６）で表される化合物２．７ｇを得た。
（比較例６）特許文献１に記載の方法による式（Ｃ−６Ｒ）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−６Ｒ−１）で表される化合物３．００ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４５ｍＬ、炭酸セシウム１１．９ｇ、式（Ｃ−６Ｒ−２）で表される化合物６．５ｇを加え２５℃で２０時間撹拌した。水２００ｍＬに注ぎ酢酸エチル３００ｍＬで抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｃ−６Ｒ）で表される化合物２．９ｇを得た。
（実施例７）式（Ｃ−７）で表される化合物の製造 反応容器にヒドラジン一水和物５０ｍＬ、エタノール１５０ｍＬを加えた。式（Ｃ−７−１）で表される化合物１０．０ｇを滴下し加熱撹拌した。通常の後処理を行った後、減圧蒸留することにより、式（Ｃ−７−２）で表される化合物５．８ｇを得た。 反応容器に式（Ｃ−７−３）で表される化合物７．３ｇ、トリエチルアミン６．６ｇ、１，２−ジメトキシエタン３０ｍＬを加えた。式（Ｃ−７−２）で表される化合物５．８ｇと１，２−ジメトキシエタン２０ｍＬとを混合し滴下した後加熱撹拌した。分液処理を行った後、再結晶によって精製することにより、式（Ｃ−７）で表される化合物６．９ｇを得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ３．３６（ｓ，３Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），３．６２（ｔ，２Ｈ），３．８９（ｔ，２Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ），４．７３（ｓ，２Ｈ），７．０５（ｔ，１Ｈ），７．２６（ｔ，１Ｈ），７．４９（ｄ，１Ｈ），７．６１（ｄ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＧＣＭＳ：ｍ／ｚ ２６７
（実施例８）式（Ｃ−８）で表される化合物の製造 反応容器にヒドラジン一水和物５０ｍＬ、２−プロパノール１２０ｍＬを加えた。式（Ｃ−８−１）で表される化合物１０．０ｇを滴下し加熱撹拌した。通常の後処理を行った後、減圧蒸留することにより、式（Ｃ−８−２）で表される化合物６．８ｇを得た。 反応容器に式（Ｃ−８−３）で表される化合物８．７ｇ、トリエチルアミン７．８ｇ、１，２−ジメトキシエタン３０ｍＬを加えた。式（Ｃ−８−２）で表される化合物６．８ｇを滴下した後加熱撹拌した。分液処理を行った後、再結晶によって精製することにより、式（Ｃ−８）で表される化合物８．２ｇを得た。
ＧＣＭＳ：ｍ／ｚ ２６５
（実施例９）式（Ｃ−９）で表される化合物の製造 反応容器にヒドラジン一水和物５０ｍＬ、１−プロパノール１３０ｍＬを加えた。式（Ｃ−９−１）で表される化合物１０．０ｇを滴下し加熱撹拌した。通常の後処理を行った後、減圧蒸留することにより、式（Ｃ−９−２）で表される化合物５．９ｇを得た。 反応容器に式（Ｃ−９−３）で表される化合物６．７ｇ、トリエチルアミン７．８ｇ、１，２−ジメトキシエタン３０ｍＬを加えた。式（Ｃ−９−２）で表される化合物６．８ｇを滴下した後加熱撹拌した。分液処理を行った後、再結晶によって精製することにより、式（Ｃ−９）で表される化合物４．５ｇを得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ３．５６（ｔ，２Ｈ），３．６０−３．６６（ｍ，４Ｈ），３．７３（ｔ，２Ｈ），３．９０（ｔ，２Ｈ），４．００（ｔ，２Ｈ），４．８２（ｓ，２Ｈ），７．０６（ｔ，１Ｈ），７．２７（ｔ，１Ｈ），７．５１（ｄ，１Ｈ），７．６０（ｄ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＧＣＭＳ：ｍ／ｚ ２９７
（実施例１０）式（Ｃ−１０）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下反応容器にヒドラジン一水和物４８．２ｇ、エタノール２００ｍＬを加え８０℃で撹拌した。式（Ｃ−１０−１）で表される化合物１５．０ｇを滴下し、８０℃で４時間加熱撹拌した。溶媒を留去することにより、式（Ｃ−１０−２）で表される化合物を含有する混合物を得た。 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｃ−１０−３）で表される化合物１７．５ｇ、トリエチルアミン１１．７ｇ、１，２−ジメトキシエタン５０ｍＬを加えた。式（Ｃ−１０−２）で表される化合物を含有する混合物を加えた後６０℃で３時間加熱撹拌した。反応液を水５００ｍＬに注ぎジクロロメタン３００ｍＬで抽出した。食塩水で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。水を加え結晶化させ濾過した。水洗いした後、ヘキサンで洗浄し、式（Ｃ−１０）で表される化合物９．６ｇを得た。
ＧＣＭＳ：ｍ／ｚ ２５３
前記と同様の方法によって下記の式（Ｃ−１１）から式（Ｃ−２２）で表される化合物を製造した。 （実施例１１）式（Ｉ−１）で表される化合物の製造 ＷＯ２０１２／１４７９０４Ａ１号公報に記載の方法によって、式（Ｉ−１−１）で表される化合物を製造した。反応容器に式（Ｉ−１−１）で表される化合物３．００ｇ、実施例２において製造した式（Ｃ−２）で表される化合物０．９７ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．１０ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、２−プロパノール１０ｍＬを加え５０℃で加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１）で表される化合物２．３３ｇを得た。
（比較例７）式（Ｉ−１Ｒ）で表される化合物の製造 実施例１１と同様の方法によって、比較例２と同様の方法によって製造した式（Ｃ−２Ｒ）で表される化合物を用いて式（Ｉ−１Ｒ）で表される化合物を製造した。 前記と同様の方法によって、各々、実施例１において製造した式（Ｃ−１）で表される化合物、実施例３において製造した式（Ｃ−３）で表される化合物、実施例１０において製造した式（Ｃ−１０）で表される化合物、実施例４において製造した式（Ｃ−４）で表される化合物を用いて下記の式（Ｉ−２）から式（Ｉ−５）で表される化合物を製造した。 前記と同様の方法によって、各々、比較例１において製造した式（Ｃ−１Ｒ）で表される化合物、比較例３において製造した式（Ｃ−３Ｒ）で表される化合物、比較例１０において製造した式（Ｃ−１０Ｒ）で表される化合物、比較例４において製造した式（Ｃ−４Ｒ）で表される化合物を用いて下記の式（Ｉ−２Ｒ）から式（Ｉ−５Ｒ）で表される化合物を製造した。 （実施例１２）式（Ｉ−６）で表される化合物の製造 ＷＯ２０１４／０１０３２５Ａ１号公報に記載の方法によって式（Ｉ−６−１）で表される化合物を製造した。窒素置換した反応容器に式（Ｉ−６−１）で表される化合物３．０ｇ、実施例１に記載の方法によって製造した式（Ｃ−１）で表される化合物０．８ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、エタノール１５ｍＬを加え５０℃で加熱撹拌した。溶媒を留去した後、メタノールを加え析出した固体を濾過した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−６）で表される化合物２．６ｇを得た。
（比較例８）式（Ｉ−６Ｒ）で表される化合物の製造 実施例１２と同様の方法によって、比較例１と同様の方法によって製造した式（Ｃ−１Ｒ）で表される化合物を用いて式（Ｉ−６Ｒ）で表される化合物を製造した。 前記と同様の方法によって、各々、実施例５に記載の方法によって製造した式（Ｃ−５）で表される化合物、実施例６に記載の方法によって製造した式（Ｃ−６）で表される化合物、実施例１０に記載の方法によって製造した式（Ｃ−１０）で表される化合物、実施例３に記載の方法によって製造した式（Ｃ−３）で表される化合物を用いて下記の式（Ｉ−７）から式（Ｉ−１０）で表される化合物を製造した。 前記と同様の方法によって、各々、比較例５に記載の方法によって製造した式（Ｃ−５Ｒ）で表される化合物、比較例６に記載の方法によって製造した式（Ｃ−６Ｒ）で表される化合物、比較例３に記載の方法によって製造した式（Ｃ−３Ｒ）で表される化合物を用いて下記の式（Ｉ−７Ｒ）、式（Ｉ−８Ｒ）及び式（Ｉ−１０Ｒ）で表される化合物を製造した。 （実施例１３）式（Ｉ−１１）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１１−１）で表される化合物２０．０ｇ、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール９．６ｇ、４−ジメチルアミノピリジン０．７ｇ、ジクロロメタン１６０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１６．３ｇを滴下し室温で８時間撹拌した。析出物を濾過により除去し、５％塩酸及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−１１−２）で表される化合物２４．７ｇを得た。 反応容器に式（Ｉ−１１−２）で表される化合物２４．７ｇ、メタノール２００ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液３３ｍＬを加え、室温で８時間撹拌した。５％塩酸で中和した後、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥させることにより、式（Ｉ−１１−３）で表される化合物２２．１ｇを得た。 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１１−３）で表される化合物２０．０ｇ、テトラヒドロフラン１２０ｍＬを加えた。氷冷しながらボラン−テトラヒドロフラン錯体（１ｍｏｌ／Ｌ）１０５ｍＬを滴下し２時間撹拌した。５％塩酸１００ｍＬを滴下した後、酢酸エチル２００ｍＬで分液処理した。硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去することにより式（Ｉ−１１−４）で表される化合物１６．９ｇを得た。 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１１−４）で表される化合物１６．９ｇ、ピリジン７．５ｇ、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらメタンスルホニルクロリド１０．８ｇを滴下し室温で２４時間撹拌した。５％塩酸に注いだ後、分液処理した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１１−５）で表される化合物２０．７ｇを得た。 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１１−６）で表される化合物２０．０ｇ、４８％臭化水素酸６０ｍＬ、酢酸６０ｍＬを加え６時間加熱還流させた。冷却した後、酢酸エチル２００ｍＬで分液処理した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い式（Ｉ−１１−７）で表される化合物１４．６ｇを得た。 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１１−７）で表される化合物１．０ｇ、式（Ｉ−１１−５）で表される化合物４．２ｇ、リン酸カリウム３．８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬを加え９０℃で８時間加熱撹拌した。反応液を水１００ｍＬに注いだ後、析出した固体を濾過し、水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１１−８）で表される化合物３．１ｇを得た。 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１１−８）で表される化合物３．１ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬ、ギ酸３０ｍＬを加え４０℃で８時間加熱撹拌した。溶媒を留去した後、ジイソプロピルエーテル３０ｍＬを加え撹拌し、析出物を濾過した。得られた固体をジイソプロピルエーテルで洗浄することにより式（Ｉ−１１−９）で表される化合物２．２ｇを得た。 反応容器に式（Ｉ−１１−１０）で表される化合物１０．０ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム０．７ｇ、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン４．６ｇを滴下し、室温で７時間撹拌した。５％炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−１１−１１）で表される化合物１３．５ｇを得た。 耐圧容器に式（Ｉ−１１−１１）で表される化合物１３．５ｇ、５％パラジウム炭素０．１ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍＬ、エタノール５０ｍＬを加えた。水素圧０．５ＭＰａ、５０℃で８時間加熱撹拌した。触媒を濾過した後、溶媒を留去することにより、式（Ｉ−１１−１２）で表される化合物８．８ｇを得た。 反応容器に式（Ｉ−１１−１２）で表される化合物１５．０ｇ、式（Ｉ−１１−１３）で表される化合物１７．７ｇ、炭酸カリウム１６．０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド９０ｍＬを加え９０℃で２０時間加熱撹拌した。ジクロロメタン１５０ｍＬを加え分液処理した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１１−１４）で表される化合物２４．２ｇを得た。 反応容器に式（Ｉ−１１−１４）で表される化合物２４．２ｇ、テトラヒドロフラン８０ｍＬ、メタノール８０ｍＬを加えた。濃塩酸１ｍＬを加え室温で１０時間撹拌した。溶媒を留去した後、酢酸エチル１５０ｍＬで分液処理した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）及び再結晶（酢酸エチル／ヘキサン）により精製を行い式（Ｉ−１１−１５）で表される化合物１７．４ｇを得た。 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１１−９）で表される化合物１．９ｇ、式（Ｉ−１１−１５）で表される化合物２．４ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．０６ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながら１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩２．２ｇを加え、室温で８時間撹拌した。反応液を５％塩酸及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１１−１６）で表される化合物３．３ｇを得た。 窒素置換した反応容器に式（Ｉ−１１−１６）で表される化合物３．３ｇ、実施例７に記載の方法によって製造した式（Ｃ−７）で表される化合物１．０ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、エタノール１５ｍＬを加え５０℃で８時間加熱撹拌した。溶媒を留去した後、メタノールを加え結晶化させ濾過した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１１）で表される化合物２．９ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ ８５ Ｎ １２８ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．２２−１．２８（ｍ，４Ｈ），１．４４−１．４７（ｍ，８Ｈ），１．６０−１．８２（ｍ，１２Ｈ），１．９０（ｍ，２Ｈ），２．０７（ｔ，４Ｈ），２．２４（ｄ，４Ｈ），２．５３（ｍ，２Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），３．６６（ｔ，２Ｈ），３．８５−３．８９（ｍ，６Ｈ），３．９３（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），４．５３（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄ，２Ｈ），６．１３（ｑ，２Ｈ），６．４０（ｄ，２Ｈ），６．８３−６．９０（ｍ，６Ｈ），６．９５−６．９８（ｍ，４Ｈ），７．１４（ｔ，１Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．５２（ｔ，１Ｈ），７．６７（ｔ，２Ｈ），８．３３（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例１４）式（Ｉ−１２）で表される化合物の製造 ディーンスターク装置を備えた反応容器に式（Ｉ−１２−１）で表される化合物２０．０ｇ、アクリル酸１５．８ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物２．８ｇ、トルエン１５０ｍＬを加え、脱水しながら８時間加熱還流させた。冷却した後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１２−２）で表される化合物２５．１ｇを得た。 反応容器に式（Ｉ−１２−２）で表される化合物１０．０ｇ、ヒドロキノン２８．９ｇ、炭酸カリウム１８．１ｇ、アセトン８０ｍＬを加え６時間加熱還流させた。冷却した後、固形物を濾過し溶媒を留去した。酢酸エチル１５０ｍＬを加え、５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶（酢酸エチル／ヘキサン）により精製を行い、式（Ｉ−１２−３）で表される化合物９．７ｇを得た。 ＷＯ２０１１／０６８１３８Ａ１号公報に記載の方法によって式（Ｉ−１２−４）で表される化合物を製造した。窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１２−３）で表される化合物５．０ｇ、式（Ｉ−１２−４）で表される化合物４．４ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．２ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド２．９ｇを滴下し撹拌した。析出物を濾過した後、濾液を５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い式（Ｉ−１２−５）で表される化合物７．２ｇを得た。 反応容器に式（Ｉ−１２−５）で表される化合物７．２ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、メタノール３０ｍＬ、濃塩酸１ｍＬを加え室温で７時間撹拌した。酢酸エチル１５０ｍＬで希釈し、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）及び分散洗浄（ヘキサン）により精製を行い式（Ｉ−１２−６）で表される化合物６．０ｇを得た。 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１２−６）で表される化合物４．０ｇ、式（Ｉ−１２−７）で表される化合物０．７ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．５ｇを滴下し室温で８時間撹拌した。固形物を濾過した後、濾液を５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い式（Ｉ−１２−８）で表される化合物３．３ｇを得た。 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１２−８）で表される化合物３．３ｇ、実施例８に記載の方法によって製造した式（Ｃ−８）で表される化合物０．９ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、エタノール１５ｍＬを加え５０℃で加熱撹拌した。溶媒を留去した後、メタノールを加え結晶化させ濾過した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１２）で表される化合物２．３ｇを得た。
ＬＣＭＳ：１１８６［Ｍ＋１］
（実施例１５）式（Ｉ−１３）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１３−１）で表される化合物３．０ｇ、ジイソプロピルエチルアミン０．５ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル０．３ｇを滴下し室温で５時間撹拌した。１％塩酸、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１３）で表される化合物２．２ｇを得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．２４（ｍ，４Ｈ），１．４８−１．９３（ｍ，３０Ｈ），２．０８（ｔ，４Ｈ），２．２３（ｍ，４Ｈ），２．５４（ｍ，２Ｈ），３．８６（ｄｄ，４Ｈ），３．９４（ｔ，４Ｈ），４．１７（ｔ，４Ｈ），４．５３（ｔ，２Ｈ），４．６５（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，３Ｈ），６．１２（ｄｄ，３Ｈ），６．４０（ｄｄ，３Ｈ），６．８８（ｍ，６Ｈ），６．９７（ｄｄ，４Ｈ），７．１６（ｔ，１Ｈ），７．３４（ｔ，１Ｈ），７．５４（ｄ，１Ｈ），７．６６（ｄ，１Ｈ），７．７０（ｄ，１Ｈ），８．３６（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣＭＳ：１２１２［Ｍ＋１］
（実施例１６）式（Ｉ−１４）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１４−１）で表される化合物３．０ｇ、実施例９に記載の方法によって製造した式（Ｃ−９）で表される化合物１．０ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、エタノール１５ｍＬを加え５０℃で加熱撹拌した。溶媒を留去した後、メタノールを加え結晶化させ濾過した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１４）で表される化合物２．７ｇを得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．０７（ｑ，２Ｈ），１．２４（ｑ，２Ｈ），１．４７−１．９０（ｍ，２４Ｈ），２．０９（ｍ，４Ｈ），２．２２（ｄ，２Ｈ），２．３９（ｔ，１Ｈ），２．５３（ｔ，１Ｈ），３．５６（ｔ，２Ｈ），３．６０−３．６６（ｍ，４Ｈ），３．７３（ｔ，２Ｈ），３．７４（ｄ，２Ｈ），３．８５（ｄ，２Ｈ），３．９０（ｔ，２Ｈ），３．９４（ｔｄ，４Ｈ），４．００（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔｄ，４Ｈ），５．８２（ｄ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，２Ｈ），６．４０（ｄ，２Ｈ），６．８０−６．９９（ｍ，６Ｈ），６．９８（ｄ，４Ｈ），７．１６（ｔ，１Ｈ），７．３３（ｔ，１Ｈ），７．５５（ｍ，２Ｈ），７．６７（ｄ，１Ｈ），８．４０（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣＭＳ：１１９０［Ｍ＋１］（実施例１７）式（Ｉ−１５）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１５−１）で表される化合物３．０ｇ、ジイソプロピルエチルアミン０．５ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル０．３ｇを滴下し室温で５時間撹拌した。１％塩酸、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１５）で表される化合物２．６ｇを得た。
転移温度（昇温速度５℃／分）Ｃ ７１ Ｎ １１５ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．１９−１．２９（ｍ，４Ｈ），１．４１−１．８２（ｍ，２２Ｈ），１．９１（ｍ，２Ｈ），２．０８（ｍ，４Ｈ），２．２４（ｍ，４Ｈ），２．５３（ｍ，２Ｈ），３．６２（ｍ，３Ｈ），３．６７（ｍ，２Ｈ），３．８４−３．９０（ｍ，５Ｈ），３．９４（ｔ，４Ｈ），４．１５−４．１９（ｍ，６Ｈ），４．５３（ｔ，２Ｈ），５．７６（ｄｄ，１Ｈ），５．８２（ｄｄ，２Ｈ），６．０８（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，２Ｈ），６．３７（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，２Ｈ），６．８４−６．９０（ｍ，６Ｈ），６．９５−６．９８（ｍ，４Ｈ），７．１４（ｔ，１Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．５３（ｄ，１Ｈ），７．６５（ｄ，１Ｈ），７．６９（ｄ，１Ｈ），８．３４（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣＭＳ：１２４４［Ｍ＋１］
（実施例１８）式（Ｉ−１６）で表される化合物の製造 実施例１３において式（Ｉ−１１−１３）で表される化合物を式（Ｉ−１６−２）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、実施例７に記載の方法によって製造した式（Ｃ−７）で表される化合物を用いて、式（Ｉ−１６）で表される化合物を製造した。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ ８９−９５ Ｎ １４５ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．２４（ｍ，４Ｈ），１．６５（ｍ，４Ｈ），１．９１（ｍ，２Ｈ），２．０５−２．２５（ｍ，１２Ｈ），２．５５（ｍ，２Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．５１（ｍ，２Ｈ），３．６７（ｍ，２Ｈ），３．８４−３．８９（ｍ，６Ｈ），４．０５（ｔ，４Ｈ），４．３６（ｔ，４Ｈ），４．５４（ｔ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，２Ｈ），６．４１（ｄｄ，２Ｈ），６．８４−６．８９（ｍ，６Ｈ），６．９７−７．００（ｍ，４Ｈ），７．１４（ｔ，１Ｈ），７．３３（ｔ，１Ｈ），７．５２（ｄ，１Ｈ），７．６７（ｄｄ，２Ｈ），８．３４（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例１９）式（Ｉ−１７）で表される化合物の製造 反応容器に式（Ｉ−１７−１）で表される化合物５．００ｇ、塩化マグネシウム３．２７ｇ、パラホルムアルデヒド２．０６ｇ、トリエチルアミン２０ｍＬ、アセトニトリル８０ｍＬを加えた。６０℃で撹拌しながら適宜パラホルムアルデヒドを追加した。酢酸エチルで希釈し塩酸及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−１７−２）で表される化合物５．３６ｇを得た。 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１７−２）で表される化合物２．０ｇ、式（Ｉ−１７−３）で表される化合物３．４ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．４ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．３ｇを滴下し室温で撹拌した。析出物を濾過した後、濾液を５％塩酸、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１７−４）で表される化合物３．７ｇを得た。 反応容器に実施例１に記載の方法によって製造した式（Ｃ−１）で表される化合物１．０ｇ、式（Ｉ−１７−４）で表される化合物２．６ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．６ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、エタノール１０ｍＬを加えた。５０℃で加熱撹拌した後、溶媒を留去しメタノールで分散洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１７）で表される化合物２．５ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ １１７−１２２ Ｎ １４６ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．９１（ｍ，６Ｈ），１．１０（ｑ，２Ｈ），１．２３−１．５６（ｍ，１８Ｈ），１．６８−１．８１（ｍ，９Ｈ），１．９４（ｔ，４Ｈ），２．３２（ｍ，４Ｈ），２．５６−２．７０（ｍ，３Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），４．１８（ｔ，２Ｈ），４．２９（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１３（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．８９（ｄ，２Ｈ），６．９９（ｍ，３Ｈ），７．１６（ｔ，１Ｈ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ），７．３４（ｔ，１Ｈ），７．６６−７．７２（ｍ，３Ｈ），７．９０（ｄ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＭＳ（ｍ／ｚ）：８７８［Ｍ^＋＋１］
（実施例２０）式（Ｉ−１８）で表される化合物の製造 反応容器に式（Ｉ−１８−１）で表される化合物２．５ｇ、実施例７に記載の方法によって製造した式（Ｃ−７）で表される化合物１．０ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン１０ｍＬ、エタノール１０ｍＬを加えた。５０℃で加熱撹拌した後、溶媒を留去しメタノールで分散洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１８）で表される化合物２．０ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ １０６ Ｎ １２５ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．９２（ｔ，３Ｈ），１．０５−１．８３（ｍ，２２Ｈ），１．９３（ｔ，５Ｈ），２．３３（ｍ，４Ｈ），２．５５（ｍ，２Ｈ），２．７１（ｍ、１Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．６２（ｍ，２Ｈ），３．８５（ｔ，２Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．４８（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．８８（ｄ，２Ｈ），６．９９（ｍ，３Ｈ），７．１７（ｔ，１Ｈ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ），７．３４（ｔ，１Ｈ），７．６６（ｄ，１Ｈ），７．７１（ｄ，１Ｈ），７．８９（ｄ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例２１）式（Ｉ−１９）で表される化合物の製造 実施例１９において、式（Ｉ−１７−１）で表される化合物を式（Ｉ−１９−１）で表される化合物に、式（Ｃ−１）で表される化合物を実施例７に記載の方法によって製造した式（Ｃ−７）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式（Ｉ−１９）で表される化合物を製造した。
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．９２（ｔ，３Ｈ），１．０５−１．８３（ｍ，３２Ｈ），１．９３（ｔ，５Ｈ），２．３３（ｍ，４Ｈ），２．５５（ｍ，２Ｈ），２．７１（ｍ、１Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．６２（ｍ，２Ｈ），３．８５（ｔ，２Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．４８（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．８８（ｄ，２Ｈ），６．９９（ｍ，３Ｈ），７．１７（ｔ，１Ｈ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ），７．３４（ｔ，１Ｈ），７．６６（ｄ，１Ｈ），７．７１（ｄ，１Ｈ），７．８９（ｄ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＭＳ（ｍ／ｚ）：９７８［Ｍ^＋＋１］
（実施例２２）式（Ｉ−２０）で表される化合物の製造 実施例１４において式（Ｉ−１２−１）で表される化合物を式（Ｉ−２０−１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−２０−６）で表される化合物を製造した。 実施例１９において式（Ｉ−１７−４）で表される化合物を式（Ｉ−２０−８）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、実施例１に記載の方法によって製造した式（Ｃ−１）で表される化合物を用いて、式（Ｉ−２０）で表される化合物を製造した。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ １３１ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．８８−０．９４（ｍ，６Ｈ），１．１０（ｍ，２Ｈ），１．２２−１．５２（ｍ，１３Ｈ），１．７２（ｍ，６Ｈ），１．９４（ｔ，４Ｈ），２．３２（ｍ，４Ｈ），２．５３−２．６２（ｍ，３Ｈ），３．６９−３．７７（ｍ，６Ｈ），３．８６（ｔ，２Ｈ），４．１２（ｔ，２Ｈ），４．２７−４．３４（ｍ，４Ｈ），５．８３（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９１（ｄ，２Ｈ），６．９７−７．０２（ｍ，３Ｈ），７．１６（ｔ，１Ｈ），７．２３（ｄｄ，１Ｈ），７．３３（ｔ，１Ｈ），６．６６−７．７２（ｍ，３Ｈ），７．９０（ｄ，１Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣＭＳ：９１０［Ｍ＋１］
（実施例２３）式（Ｉ−２１）で表される化合物の製造 実施例２２において、式（Ｉ−２０−７）で表される化合物を式（Ｉ−２１−１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、実施例１に記載の方法によって製造した式（Ｃ−１）で表される化合物を用いて、式（Ｉ−２１）で表される化合物を製造した。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ ９０ Ｓ ２１８ Ｎ ２６５ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．８８（ｍ，６Ｈ），１．０１−１．１９（ｍ，８Ｈ），１．３２−１．４５（ｍ，６Ｈ），１．７１−１．７６（ｍ，６Ｈ），１．８８−１．９９（ｍ，３Ｈ），２．１７（ｍ，１２Ｈ），２．３１（ｍ，４Ｈ），２．５３（ｍ，２Ｈ），２．６７（ｍ，１Ｈ），３．７０−３．７６（ｍ，６Ｈ），３．８５（ｔ，２Ｈ），４．１１（ｔ，２Ｈ），４．３１（ｍ，４Ｈ），５．８２（ｄ，２Ｈ），６．１５（ｑ，２Ｈ），６．４３（ｄ，２Ｈ），６．９２（ｍ，５Ｈ），７．１４−７．２６（ｍ，２Ｈ），７．３３（ｔ，１Ｈ），７．６８（ｍ，３Ｈ），７．８８（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例２４）式（Ｉ−２２）で表される化合物の製造 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−２２−１）で表される化合物２０．０ｇ、テトラヒドロフラン１２０ｍＬを加えた。氷冷しながらボラン−テトラヒドロフラン錯体（０．９ｍｏｌ／Ｌ）１４３ｍＬを滴下し２時間撹拌した。５％塩酸２００ｍＬに注いだ後、酢酸エチル２００ｍＬで分液処理した。硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去することにより式（Ｉ−２２−２）で表される化合物１７．６ｇを得た。 窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−２２−２）で表される化合物１７．６ｇ、ピリジン１２．１ｇ、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらメタンスルホニルクロリド１２．９ｇを滴下し室温で８時間撹拌した。５％塩酸に注いだ後、分液処理した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−２２−３）で表される化合物２３．０ｇを得た。 反応容器に式（Ｉ−２２−３）で表される化合物４．０ｇ、式（Ｉ−２２−４）で表される化合物３．９ｇ、炭酸カリウム３．５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍＬを加え９０℃で１２時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−２２−５）で表される化合物５．１ｇを得た。 反応容器に式（Ｉ−２２−５）で表される化合物５．１ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、メタノール３０ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液１０ｍＬを加え６０℃で撹拌した。塩酸を加え溶媒を留去した。水で洗浄し乾燥させることにより式（Ｉ−２２−６）で表される化合物４．９ｇを得た。 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｉ−２２−６）で表される化合物４．９ｇ、式（Ｉ−２２−７）で表される化合物３．４ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．６ｇを滴下し撹拌した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−２２−８）で表される化合物５．７ｇを得た。 反応容器に式（Ｉ−２２−８）で表される化合物２．５ｇ、実施例７に記載の方法によって製造した式（Ｃ−７）で表される化合物１．１ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン１０ｍＬ、エタノール１０ｍＬを加えた。５０℃で加熱撹拌した後、溶媒を留去しメタノールで分散洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−２２）で表される化合物２．１ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分、降温５℃／分）：Ｃ １０１−１０５（Ｎ ８２）Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．９２（ｔ，３Ｈ），１．０８−１．９１（ｍ，２６Ｈ），２．０６（ｄ，２Ｈ），２．２４（ｄ，２Ｈ），２．５１（ｍ，２Ｈ），３．３０（ｓ，３Ｈ），３．５１（ｄｄ，２Ｈ），３．６７（ｄｄ，２Ｈ），３．８７（ｑｕｉｎ，４Ｈ），３．９４（ｔ，２Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．５４（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．８６（ｍ，３Ｈ），６．９７（ｍ，２Ｈ），７．１６（ｍ，２Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．６５（ｄ，１Ｈ），７．７０（ｄ，１Ｈ），７．８２（ｄ，１Ｈ），８．３６（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例２５）式（Ｉ−２３）で表される化合物の製造 反応容器に（Ｉ−２３−１）で表される化合物５．０ｇ、式（Ｉ−２３−２）で表される化合物４．１ｇ、炭酸カリウム５．２ｇ、エタノール５０ｍＬを加えた。反応容器を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．３ｇを加え加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し５％塩酸及び食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−２３−３）で表される化合物４．８ｇを得た。 反応容器に式（Ｉ−２３−３）で表される化合物４．０ｇ、式（Ｉ−２３−４）で表される化合物４．２ｇ、炭酸カリウム３．５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍＬを加え９０℃で１２時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２３−５）で表される化合物４．６ｇを得た。 反応容器に式（Ｉ−２３−５）で表される化合物４．６ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、メタノール３０ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液１０ｍＬを加え６０℃で撹拌した。塩酸を加え溶媒を留去した。水で洗浄し乾燥させることにより式（Ｉ−２３−６）で表される化合物４．４ｇを得た。 窒素雰囲気下反応容器に式（Ｉ−２３−６）で表される化合物４．４ｇ、式（Ｉ−２３−７）で表される化合物３．１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．８ｇを滴下し撹拌した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２３−８）で表される化合物５．１ｇを得た。 反応容器に式（Ｉ−２３−８）で表される化合物２．５ｇ、実施例７に記載の方法によって製造した式（Ｃ−７）で表される化合物１．１ｇ、（±）−１０−カンファースルホン酸０．５ｇ、テトラヒドロフラン１０ｍＬ、エタノール１０ｍＬを加えた。５０℃で加熱撹拌した後、溶媒を留去しメタノールで分散洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２３）で表される化合物１．８ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ ６７−１００ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．００（ｔ，３Ｈ），１．２８（ｍ，２Ｈ），１．４５−１．８１（ｍ，１２Ｈ），１．９７（ｂｒ，１Ｈ），２．１３（ｍ，２Ｈ），２．２６（ｍ，２Ｈ），２．５７（ｔｔ，１Ｈ），２．６５（ｔ，２Ｈ），３．２７（ｓ，３Ｈ），３．３７（ｍ，２Ｈ），３．５０（ｍ，２Ｈ），３．７０（ｔ，２Ｈ），３．９５（ｑ，４Ｈ），４．１７（ｔ，２Ｈ），４．３３（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１２（ｄｄ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，１Ｈ），６．８７（ｄ，２Ｈ），６．９８（ｍ，３Ｈ），７．１５（ｔ，１Ｈ），７．２５（ｍ，５Ｈ），７．３２（ｔ，１Ｈ），７．６４（ｍ，２Ｈ），７．６９（ｄ，１Ｈ），７．９１（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．（実施例２６〜実施例４８及び比較例９〜比較例１７）フィルムの作製
フィルムを作製するために、ＷＯ２０１２／００２１４０Ａ１号公報記載の化合物（Ｘ−１）：５０％、特表２００２−５４２２１９号公報記載の化合物（Ｘ−２）：１０％及び特開２００５−０１５４７３号公報記載の化合物（Ｘ−３）：４０％からなる液晶組成物を母体液晶（Ｘ）とした。 配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得た。得られた塗膜をラビング処理した。ラビング処理は、市販のラビング装置を用いて行った。 母体液晶（Ｘ）に評価対象となる化合物を３０％添加することにより調製した組成物各々に対し、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ社製）を１％、４−メトキシフェノールを０．１％及びクロロホルムを８０％添加し塗布液を調製した。この塗布液をラビングしたガラス基材にスピンコート法により塗布した。８０℃で１分間乾燥させた後、さらに１２０℃で１分間乾燥した。その後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を４０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で２５秒間照射することにより、評価対象のフィルムを作製した。 作製した各フィルムに対し、キセノンランプ照射テスト機（アトラス社製サンテストＸＬＳ）を用い、５０ｍＷ／ｃｍ^２、２５℃で１００Ｊの光照射を行った。得られた各フィルムについて、変色及び配向性の変化を各々評価した。評価結果を下表に示す。
〈変色〉
光照射前と光照射後のフィルムの黄色度（ＹＩ）を各々測定し、黄変度（ΔＹＩ）を求めた。黄色度はＪＡＳＣＯ ＵＶ／ＶＩＳ Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ Ｖ−５６０で重合体の吸収スペクトルを測定し、付属のカラー診断プログラムで黄色度（ＹＩ）を計算した。計算式は、
ＹＩ＝１００（１．２８Ｘ−１．０６Ｚ）／Ｙ
（式中、ＹＩは黄色度、Ｘ、Ｙ、ＺはＸＹＺ表色系における三刺激値を表す（ＪＩＳ Ｋ７３７３）。）である。また、黄変度（ΔＹＩ）は光照射前の黄色度と光照射後の黄色度との差を意味する。
〈配向性の変化〉
偏光顕微鏡観察によって配向性を評価した。配向に欠陥が全く見られなければＡ、欠陥がごく僅かであればＢ、欠陥が少し見られればＣ、欠陥がやや多く見られればＤ、欠陥が多く見られればＥとした。 表より、実施例２６から実施例４８の本願発明の製造方法によって製造した化合物を含有するフィルムは、比較例の製造方法によって製造した化合物を含有するフィルムと比較し、長時間紫外光を照射した後も変色及び配向性の変化が起こりにくいことがわかる。中間体である窒素原子上にアルキル基等の置換基を有する２−ヒドラジノベンゾチアゾールを比較例の製造方法によって製造した場合、Ｎ−アルキル化反応の工程において、反応中の反応液の色が褐色〜濃青色に着色することから、共役系の大きな副生成物が生じたと考えられる。そのような微量の副生成物が、その後の工程において除去しきれず残留したか若しくはより高分子量の不純物へと誘導され、目的の重合性化合物に混入したため、変色や配向性に悪影響を及ぼしたと考えられる。一方で、本願発明の製造方法において、反応中の反応液の色は無色〜淡黄色であったことから、のような副生成物の生成は抑制され、得られた中間体を使用して重合性化合物を製造しフィルムにした場合に悪影響が少なかったと考えられる。 以上の結果から、本願発明の製造方法によって製造した化合物は重合性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する組成物を用いた光学異方体は光学フィルム等の用途に有用である。

【化1】

【化2】

【化3】

【化4】

【化5】

【化6】

【化7】