特表-19176552IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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再表2019-176552酸化物薄膜及び該薄膜を製造するためのスパッタリングターゲット用酸化物焼結体
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  • 再表WO2019176552-酸化物薄膜及び該薄膜を製造するためのスパッタリングターゲット用酸化物焼結体 図000005
  • 再表WO2019176552-酸化物薄膜及び該薄膜を製造するためのスパッタリングターゲット用酸化物焼結体 図000006
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