特表-20031410IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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再表2020-31410酸化物スパッタリングターゲット及びその製造方法、並びに当該酸化物スパッタリングターゲットを用いて成膜した酸化物薄膜
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