【実施例】
【0144】
本発明を下記の具体例を参照して更に説明する。具体例においては、合成された化合物は名称を明記し、構造を図示する。化学名称と構造が一致するよう尽力したが、もし不一致が生じている場合は、図示した化学構造が化学的に不可能なものでない限り、図示した化学構造が正しいものとする。
【0145】
核磁気共鳴(NMR)スペクトルは、通常400MHzで測定し、化学シフト(δ)はppmで報告する。スペクトルは5mmBBFOプローブもしくはDULプローブを備えたブルーカー400アバンス測定装置(Bruker 400 Avance instrument)を用いて測定した。装置の制御は、特に別途明記しない限り、ブルーカートップスピン2.1ソフトを用いた。
【0146】
純度は、広範囲の波長(通常220〜450nm)にわたり、UV(フォトダイオードアレイ)検知器を備え、Waters社のAcuity UPLCシステム(Acquity UPLC BEHまたはHSS Cl8カラム(内径2.1mmx長さ50mmを備え50℃または60℃で分析)を用いたUPLCにより評価した。移動相は通常、0.05%のギ酸もしくは0.025%のNH
4OHを含む水と混合したMeCNまたはMeOHからなるものを用いた。質量スペクトルは、特に明記しない限り、大気圧イオン化を用いたWaters社のSQDシングルクワドラポール質量分析計を使用して測定した。
【0147】
化合物の精製は、シリカやアルミナに基づいた順相クロマトグラフィを用いるか、もしくはBiotageまたはIsoluteカートリッジ、SCXカートリッジおよびSCX−2固相抽出カートリッジを使用した逆相クロマトグラフィ法にて行った。
【0148】
分取HPLCは、通常、室温にてXBridgeやSunFireの5μm材料などのWaters社の内径19mmx長さ100mmのCl8コラムを用いてAgilent Technologies社の1100シリーズシステム、またはWaters社の自動純度化LC/MSシステムを通常用いて行った。移動相は、特に明記しない限り、0.1%ギ酸または0.1%NH
4OHを含んだ水と混合した通常MeCNまたはMeOHからなったものであった。
【0149】
化合物名はChemBioDraw Ultra 12.0(Perkin Elmer Inc.)を用いて作成した。
【0150】
通常
(i)工程は、別途明記しない限り、通常窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気にて室温つまり15〜25℃の範囲で行った。
(ii)別途明記しない限り、無機溶液は水溶液であった。
(iii)溶液の乾燥は、硫酸マグネシウムまたは硫酸ナトリウム、もしくは相分離カートリッジを用いて行った。
(iv)濃縮化は、通常、真空化において回転蒸発にて行った。
(v)コラムクロマトグラフィと高圧液体クロマトグラフィ(HPLC)はシリカ若しくは逆相Cl8シリカにて行われ、特に別途明記しない限り、分取HPLCは、MeCN/water(両者とも0.1%NH
4OHを混合)を用いて行われた。
(vi)収率は、もしある場合は、必ずしも最大のものではない。
(vii)通常、式(I)の最終生成物の構造は核磁気共鳴(NMR)および/または質量スペクトル(MS)法にて確認した。エレクトロスプレイイオン化(プラスモードおよびマイナスモード、ES
+またはES
-)質量スペクトルデータをWaters社のAmitySQD分光計を用いて測定し、好適な場合は、プラスイオンデータとマイナスイオンデータを測定した。NMR化学シフト値はデルタスケールで測定した。下記の略語が使用されている:sは一重項、mは多重項、brは広い、br sは広い一重項
(viii)中間体は、必ずしも純粋なものではなく、それらの構造や純度は薄膜クロマトグラフィ(TLC)、HPLC、赤外線(IR)および/またはNMR分析にて評価した。
【0151】
下記の略語を使用する。
bp 沸点
DBU 1、8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7−エン
DCM ジクロロメタン
DIPEA ジイソプロピルエチルアミン
DMF N,N−ジメチルホルムアミド
DMSO ジメチルスルホキシド
DMSO−d
6 重水素化ジメチルスルホキシド
eq 当量
Et エチル
Et
2O ジエチルエーテル
EtOAc 酢酸エチル
EtOH エタノール
h 時間
HATU O−(7アザベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェイト
HBTU O−(ベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N,N’−テトラメチルウラニウム ヘキサフルオロホスフェイト
HCl 塩酸
IMS 産業用変性アルコール
iPr イソプロピル
M モル
Me メチル
MeCN アセトニトリル
MeOH メタノール
mmHG 水銀柱ミリメートル
mmol ミリモル
NaOH 水酸化ナトリウム
ペトロール 石油エーテル、通常は沸点40〜60℃
RT 室温、通常は15〜25℃
THF テトラヒドロフラン
【0152】
A.酸中間体の生成
【0153】
【0154】
中間体A1:4−(2−フルオロフェノキシ)安息香酸
【0155】
【0156】
ステップ(i)炭酸カリウム(31.1g、225mmol)を、DMF(100mL)に4−フルオロベンズアルデヒド(7.96mL、75mmol)と2−フルオロフェノール(9mL、98mmol)を溶解した溶液に添加した。該混合液を窒素下24時間100℃で加熱した。RTまで冷却後、該混合液をEtOAc(200mL)と水(150mL)間で分離させた。水相をEtOAc(200mL)で抽出した。合わせた有機相をブラインで洗浄し(3×50mL)、乾燥させて濃縮した。残留物をシリカクロマトグラフィ(0〜20% ETOAc/ペトロールペトロール)で生成し、4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアルデヒド(粗製、17.7g)を得、精製や特性評価をせずに次のステップ(ii)で使用した。
【0157】
ステップ(ii)4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアルデヒド(粗製、17.7g)をTHF(100mL)、t−ブタノール(100mL)と水(50mL)に溶解し、混合液を氷水浴にて冷却した。2−メチル−2−ブテン(43.3mL、409mmol)、リン酸二水素カリウム(27.8g、205mmol)、および塩化ナトリウム(23.12g、205mmol)を順次添加し、混合液をRTにて18時間攪拌した。混合液を水(100mL)とEt
2O(200mL)間で分離させ、水相をEt
2O(200mL)で抽出した。合わせた有機相を飽和チオ硫酸ナトリウム溶液(100mL)と塩水で連続して洗浄し、乾燥させて濃縮した。EtOAcとペトロールを添加すると沈殿物が生じ、該沈殿物をろ過して分離し、空気乾燥させて、薄い黄色の固体として表題の化合物(11.95g、63%)を得た。
MS ES
−:231
【0158】
中間体A2:4−(2,6−ジメチルフェノキシ)安息香酸
【0159】
【0160】
ステップ(i)リン酸三カリウム(9.27g、43.7mmol)と酢酸パラジウム(II)(0.490g、2.18mmol)を、トルエン(40mL)中にエチル4−ブロモ安息香酸塩(5g、21.8mmol)と2,6−ジメチルフェノール(3.73g、30.6mmol)を溶解した溶液に添加した。該混合液を約5分間脱ガスし、窒素で置換した。トルエン(5mL)中にジ−t-ブチル(2’、4’、6’−トリイソプロピルビフェニル−2−イル)ホスフィン(1.390g、3.27mmol)を溶解させた溶液を添加した。該混合液を更に2分間脱ガスし、窒素で置換して、1.5時間還流させながら加熱した。該混合液を水とEtOAc(それぞれ50mL)間で分離し、有機相を乾燥して、濃縮した。残留物をシリカクロマトグラフィ(0〜20% EtOAc/ペトロール)で精製し、エチル4−(2,6−ジメチルフェノキシ)安息香酸(粗製、2g)を得て、さらに生成や特性検査をせずに次のステップ(ii)に使用した。
【0161】
ステップ(ii)エチル4−(2,6−ジメチルフェノキシ)安息香酸(粗製、2g)をMeOH(7mL)に溶解した。NAOH(2M,7mL)を添加し、該混合液をマイクロ波照射にて120℃で約20分間加熱した。該混合液のpH1まで酸性化し(2M HCl)、水(50mL)で希釈し、EtOAc(50mL)で抽出した。有機相を乾燥させ、濃縮した。残留物をEtOAc(50mL)に溶解し懸濁させ、母液を濃縮した。このプロセスをEt
2O:EtOAc(4:1、20mL)、その後Et
2O(20mL)にて繰り返し、表題の化合物(粗製、800mg)を得、更に精製や性質検査を行わずに次のステップで使用した。
【0162】
中間体A3:4−(2,6−ジフルオロフェノキシ)安息香酸
【0163】
【0164】
ステップ(i)4−(2,6−ジフルオロフェノキシ)ベンズアルデヒドを、炭酸カリウムが2eq、フェノールが1.2eqであること以外は、上記4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアルデヒド(中間体A1、ステップ(i))について記載したように4−フルオロベンズアルデヒドと2,6−ジフルオロフェノールから精製した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm7.12−7.21(m,2H)7.32−7.50(m,3H)7.90−7.99(m,2H)9.94(s,1H)
【0165】
ステップ(ii)4−(2,6−ジフルオロフェノキシ)ベンズアルデヒド(0.500g、2.14mmol)をt−ブタノール(6mL)と水(3mL)に溶解した。2−メチル−2−ブテン(THF中に2M、5.34mL,10.67mmol)、リン酸二水素カリウム(0.73g、5.34mmol)と亜塩素酸ナトリウム(0.72g、2.14mmol)を順次添加し、該混合液をRTにて4時間攪拌した。該混合液を水(30mL)とEt
2O(30mL)間で分離させた。水相をHCl(2M、10mL)酸性化し、Et
2O(30mL)で抽出した。合わせた有機相を、飽和チオ硫酸ナトリウム(15mL)とブライン(15mL)とで続けて洗浄し、乾燥させ、濃縮した。残留物をアニオン交換カートリッジに充填した。MeCNで洗浄後、生成物を2M HCL/MeCNにて溶出し、その後濃縮して表題の化合物(0.367g、69%)を白色の固体として得た。
MS ES
−:249
【0166】
中間体A4:4−(2−フルオロ−6−メチルフェノキシ)安息香酸
【0167】
【0168】
ステップ(i)4−(2−フルオロ−6―メチルフェノキシ)ベンズアルデヒドを、上記4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアルデヒド(中間体A1、ステップ(i))について記載したように4−フルオロベンズアルデヒドと2−フルオロ−6−メチルフェノールから精製し、更に精製や性質検査をせずに次のステップ(ii)に使用した。
【0169】
ステップ(ii)表題の化合物を上記4−(2−フルオロフェノキシ)安息香酸(中間体A1、ステップ(ii))について記載したように4−(2−フルオロ−6−メチルフェノキシ)ベンズアルデヒド(上記ステップ(i))からEtOAc/ペトロールからの生成物の再結晶にて生成し、さらに精製や性質検査をせずに次のステップで使用した。
【0170】
中間体A5:4−(2−クロロ−6−フルオロフェノキシ)安息香酸
【0171】
【0172】
ステップ(i)4−(2−クロロ−6−フルオロフェノキシ)ベンズアルデヒドを上記4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアルデヒド(中間体A1、ステップ(i))について記載したように4−フルオロベンズアルデヒドと2−クロロ−6−フルオロフェノールから生成した。
1HNMR(400MHz,OMSO−d
6)δppm7.07−7.17(m,2H)7.40−7.60(m,3H)7.89−7.99(m,2H)9.93(s,1H)
【0173】
ステップ(ii)表題の化合物を上記4−(2−フルオロフェノキシ)安息香酸(中間体A1、ステップ(ii))について記載したように4−(2−クロロ−6−フルオロフェノキシ)ベンズアルデヒド(上記ステップ(i))から生成した。
MS ES
−:265
【0174】
中間体A6:2−フルオロ−4−(2−フルオロフェノキシ)安息香酸
【0175】
【0176】
ステップ(i)2−フルオロ−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアルデヒドを、フェノールが1eqであり、加熱を80℃で行った点以外は、上記4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアルデヒド(中間体A1、ステップ(i))について記載したように2,4−ジフルオロベンズアルデヒドと2−フルオロフェノールから生成した。MS ES
+:235
【0177】
ステップ(ii)表題の化合物を上記4−(2−フルオロフェノキシ)安息香酸(中間体A1、ステップ(ii))について記載したように2−フルオロ−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアミド(上記ステップ(i))から生成した。
MS ES
+:251
【0178】
中間体A7:4−((2−フルオロベンジル)オキシ)安息香酸
【0179】
【0180】
ステップ(i)水酸化ナトリウム(60%、ミネラルオイル中の懸濁液、0.177g、4.43mmol)を4−フルオロベンズアルデヒド(0.437mL 4.03mmol)と(2−フルオロフェニル)メタノール(0.508g、4.03mmol)とをDMF(20mL)に混ぜた混合液に添加した。反応物を、窒素雰囲気下室温で18時間攪拌した。該混合液をEtOAcで希釈し、重炭酸ナトリウム、そしてブラインで洗浄した。有機相を乾燥させ、濃縮して4−((2−フルオロベンジル)オキシ)ベンズアルデヒドを残留物として得、さらに精製や特性評価をすることなく次のステップ(ii)にて使用した。
【0181】
ステップ(ii)表題の化合物を、上記4−(2,6−ジフルオロフェノキシ)安息香酸(中間体A3、ステップ(ii))について記載したように、4−((2−フルオロベンジル)オキシ)ベンズアルデヒド)(上記ステップ(i))から生成し、更に精製や特性評価をすることなく次のステップ(ii)にして使用した。
【0182】
中間体A8:2−フルオロ−4−(2−メトキシフェノキシ)安息香酸
【0183】
【0184】
第1ステップで2,4−ジフルオロベンズアルデヒドを2−メトキシフェノールと反応させ2−フルオロ−4−(2−メトキシフェノキシ)ベンズアルデヒドを生成し、それを更に精製や特性評価をすることなく第2の酸化ステップで使用して表題の化合物を得た点以外は、中間体A1について記載した方法同様の2段階プロセスで生成した。
【0185】
上記最終的な化合物のいくつかの生成に使用される中間体である4−(2−メチルフェノキシ)安息香酸と4−(2−クロロフェノキシ)安息香酸がこの技術分野では知られており、Apollo Scientific社などの化学製品供給業者から市販されている。
【0186】
B.4−(アミノメチル)安息香酸エチルとその同等物の生成
【0187】
【0188】
表(1)に示す式(B)の中間体を下記の方法R1〜R6の何れか1つにて生成した。
【0189】
方法R1
アミン(50mmol)とメチル4−ホルミル安息香酸塩(50mmol)をIMSまたはEtOH(100mL)に溶解した溶液を還流させながら2時間加熱した。冷却後、該混合液を濃縮し、残留物をMeOH(400mL)に溶解した。得られた溶液を氷水浴にて冷却し、水素化ホウ素ナトリウム(40mmol)を通常数回に分けて10分間で添加した。該混合物を攪拌し、RTまで温度を上昇させた。2時間後、該混合物を濃縮した。残留物を水(20mL)中で攪拌した。該混合物をHCl(2M)で酸性にし、DCM(3×20ml)で抽出した。水相を固体のNaOHで塩基性にし、DC(3×50ml)で抽出した。後の抽出物を乾燥させ、濃縮して式(B)の中間体を得た。
【0190】
方法R2
水素化ホウ素ナトリウム反応液を濃縮後、残留物をHCl(2M)またはHCl(1、4−ジオキサン中に4M)に溶解/懸濁させた点以外は方法R1同様である。得られた沈殿物をろ過し、水で洗浄し、乾燥させて式(B)の中間体の塩酸塩を得た。
【0191】
方法R3
アミン(5mmol)とメチル4−ホルミル安息香酸塩(5mmol)の溶液をDCM(20mL)中でRTにて2時間攪拌した。トリアセトキシホウ化水素ナトリウム(10mmol)、その後酢酸(6mmol)を添加した。2時間攪拌後、該混合液をDCM(20mL)で希釈し、NaOH(2M、20mL)または飽和重炭酸ナトリウム(20mL)で洗浄した。水相をDCM(20mL)で抽出し、合わせた有機相を乾燥し、濃縮して式(B)の中間体を得た。
【0192】
方法R4
水素化ホウ素ナトリウム反応液を濃縮し水とHClを添加後、該混合物を炭酸水素ナトリウムで塩基性とし、EtOAcにて抽出した点以外は、方法R1と同様である。有機相を乾燥し、濃縮して、残留物をEtOAcまたはEt
2Oなどの有機溶媒に溶解/懸濁した。HCl(MeOH中に4M)を添加し、該混合物をRTで攪拌した。得られた沈殿物をろ過し、ろ過ケーキを空気乾燥して式(B)の中間体の塩酸塩を得た。
【0193】
方法R5
(a)イミン形成においてトリエチルアミン(典型的には1eq)を添加し、(b)水素化ホウ素ナトリウム反応液を濃縮後、残留物を(i)炭酸水素ナトリウムまたは水酸化ナトリウムと(ii)EtOAcまたはDCM間で分割した以外は方法R1と同様である。有機相を乾燥させ、濃縮して式(B)の中間体を得た。場合によっては、残留物をEtOAcまたはEt
2Oなどの有機溶媒に溶解/懸濁した。HCl(MeOH中で4M)を添加し、該混合物をRTにて攪拌した。得られた沈殿物をろ過し、ろ過ケーキを空気乾燥して式(B)の中間体の塩酸塩を得た。場合によっては、残留物をHCl水溶液(2M)に溶解/懸濁した。HCl(MeOH中で4M)を添加し、該混合物をRTにて攪拌した。得られた沈殿物をろ過し、ろ過ケーキを空気乾燥して式(B)の中間体の塩酸塩を得た。
【0194】
方法R6
水酸化ホウ素ナトリウム反応液を1時間攪拌した後、該混合液をHCl(2M)で反応停止処理した点以外は方法R1と同様である。得られた沈殿物をろ過で分離し、真空下で乾燥して式(B)の中間体の塩酸塩を得た。
【0195】
表1
【0196】
*アミン1: シクロブチルメタンアミン塩酸塩
【0197】
ボランのTHF溶液(1M、296mL、296mmol)を、シクロブタンカルボニトリル(20g、247mmol)をTHF(60mL)に溶解した溶液にアルゴン雰囲気下で溶解し、該混合液を一晩還流させながら加熱した。該混合物を氷水浴で冷却し、該混合液の温度を20℃以下に保ちながらMeOH(120mL)を滴下した。HClのMeOH溶液(4M、300mL)を、再度温度を20℃以下に保ちながら添加した。得られた溶液を還流させながら2.5時間加熱した。冷却後、該混合液を濃縮した。残留物をMeOH(100mL)で希釈し、濃縮し、このプロセスを繰り返した。エーテルを残留物に添加し、該混合物を30分間攪拌してからろ過して表題の化合物(25.9g、86%)を白色の固体として得た。
1HNMR(300MHz,DMSO−d
6)δpm 1.70−1.86(m,4H)1.97−2.04(m,2H)2.46−2.61(m,1H)2.75−2.84(m,2H)8.02 (br s,3H)
【0198】
**アミン2: 2-シクロプロピルエタンアミン
【0199】
硫酸(17.25mL、324mmol)を水素化アルミニウムリチウム(24.56g、647mmol)をEt
2O(900mL)に懸濁し氷水浴中の懸濁液にアルゴン雰囲気下で該懸濁液を氷水浴で冷やしながら滴下した。該混合液をRTで1時間攪拌した。2-シクロプロピルアセトニトリル(17.5g、216mmol)をEt
2O(100mL)に溶解した溶液を添加し、該混合液を還流しながら18時間加熱した。該混合液を氷水浴中で冷却し、硫酸ナトリウム十水和物を発泡が停止するまで添加した。該混合物をろ過し、濃縮して表題の化合物(粗製、18.6g)を得、さらに精製や性質検査をせずに使用した。
【0200】
***アミン3:2-シクロブチルエタンアミン
【0201】
上記アミン2について記載したように2-クロロブチルアセトニトリルから生成され、さらに精製や性質検査をせずに次のステップで使用した。
【0202】
中間体B20:(S)-4-(((2-ヒドロキシ-3-フェニルプロピル)アミノ)メチル)安息香酸塩
【0203】
【0204】
ステップ(i)(S,S)-(+)-N、N’-ビス(3,5-ジ-t-ブチルサリチリデン)-1、2-シクロヘキサンジアミノコバルト(II)(0.048g、0.080mmol)、THF(0.25mL)と酢酸(0.018mL、0.318mmol)を2-ベンジルオキシラン(4.27g、31.8mmol)に添加した。該混合液を氷水浴で冷却し、水(0.129mL、7.16mmol)を一度に加えた。RTで一晩攪拌後、該混合液を真空下で蒸留し(2mmHg、bp60〜80℃)、(S)-2-ベンジルオキシラン(粗製、2.74g)を得、さらに精製や性質検査をせずに次のステップで使用した。
【0205】
ステップ(ii)(S)-2ベンジルオキシラン(上記ステップ(i)(2.74g、20.42mmol)を4-(アミノメチル)安息香酸メチル塩酸塩(7.41g、36.8mmol)とDIPEA(8.92ml、51.1mmol)をMeOH(300mL)に溶解した溶液に添加した。3日間攪拌後、該反応混合液を濃縮した。残留物を飽和炭酸水素ナトリウム(200mL)とDCM(2×200mL)間で分離した。水相をDCM(200mL)で抽出した。合わされた有機相を濃縮し、シリカクロマトグラフィ(0〜10%MeOH/DCM)、次にC18シリカの逆相クロマトグラフィ(0.1%NH
4OHを加えた0〜95%のMEOH/H
2Oで溶出)で精製し、表題の化合物(3.27g、53%)を薄茶色のゴム状のものとして得た。
MS ES
+:300
【0206】
中間体B21:(R)−メチル−4−(((2−ヒドロキシ−3−フェニルプロピル)アミノ)メチル)安息香酸塩
【0207】
【0208】
ステップ(i)(R、R)−(−)−N、N’−ビス(3,5−ジ−t−ブチルサリチリデン)−1、2−シクロヘキサンジアミノコバルト(II)を使用した以外は、(S)−2−ベンジルオキシラン(中間体B48、ステップ(i))に記載したように生成し、(R)−2−ベンジルオキシランを得、さらに精製や性質検査をせずに次のステップで使用した。
【0209】
ステップ(ii)(S)−メチル−4−(((2−ヒドロキシ−3−フェニルプロピル)アミノ)メチル)安息香酸塩(中間体B20、ステップ(ii))を(R)−2−ベンジルオキシラン(上記ステップ(i))と4−(アミノメチル)安息香酸メチル塩酸塩から生成し、表題の化合物を薄茶色のゴム状のものとして得た。
MS ES
+:300
【0210】
C.中間体エステルの生成
【0211】
下記表2〜4に示す式(C)の中間体を以下の方法E1〜E5の何れか1つによって生成した。
【0212】
【0213】
方法E1
トリエチルアミン(6mmol)、1−ヒドロキシ−7−アザベンゾトリアゾール(2.4mmol)と1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド(EDC)(2.4mmol)を、対応するアミンまたはアミン塩酸塩(2mmol)と4−フェノキシ安息香酸(2mmol)をTHF(10mL)に溶解/懸濁した溶液/懸濁液に添加した。該反応液をRTで18時間攪拌した。(アミン塩酸塩を使用する場合は、さらに2mmolのトリエチルアミンが添加された。)該混合液を(i)水または飽和炭酸水素ナトリウム溶液(10mL)と(ii)DCMまたはEtOAc(10mL)間で分離した。水相をさらにDCMまたはEtOAcで抽出し、合わせた有機相を乾燥させ、濃縮した。残留物をシリカクロマトグラフィ(通常0〜100%EtOAc/ペトロール)にて精製した。
【0214】
方法E2
DIPEA(2.2mmol)とHBTU(1.1mmol)を対応する酸をDMF(5mL)に溶解した溶液に添加し、該混合液をRTで5分攪拌した。対応するアミンまたはアミン塩酸塩(0.95mmol)とDBU(1.5mmol)を添加した。該混合液をRTで1時間攪拌した。(アミン塩酸塩を使用した場合は、さらに1mmolもDIPEAを添加した。)該混合液をEtOAc(30mL)と、水または飽和炭酸水素ナトリウム(30mL)間で分離した。場合によっては、水相をさらにEtOAcにて抽出した。合わせた有機相を乾燥させ、濃縮した。残留物をシリカクロマトグラフィ(通常0〜100% EtOAc/ペトロール)にて精製した。
【0215】
方法E3
塩化チオニルまたは塩化オキサリル(3〜12mmol)を、酸(3mmol)をDCM(10mL)に溶解した溶液に、溶液を氷水浴で冷やしながら添加した。場合によっては、DMFを数滴添加した。反応混合液をRTで4時間攪拌し、その後濃縮して粗酸塩化物を得、それをTHF(3mL)に溶解して、アミン塩酸塩(2mmol)と炭酸カリウム(10mmol)をTHF(10mL)に溶解した溶液に添加した。反応液を還流させながら18時間加熱した。冷却後、混合液を水とEtOAc間で分離した。有機相を乾燥させ濃縮して、残留物をシリカクロマトグラフィ(0〜50% EtOAc/ペトロール)にて精製した。
【0216】
方法E4
HATU(1.1mmol)を酸(1mmol)とDIPEA(2.2mmol)をDMFまたはTHF(2mL)に溶解した溶液に添加した。該混合液をRTにて攪拌し、放置した。5分後、対応するアミンまたはアミン塩酸塩(1.1mmol)を添加した。(場合によっては、0.9mmolのアミンまたはアミン塩酸塩を使用した。)アミン塩酸塩を使用した場合、DBU(1.5mmol)をこの時点で添加した。10分後、該混合液をEtOAcまたはDCM(30mL)で希釈し、HCl(1M、20ml)または飽和重炭酸ナトリウム溶液(20mL)または水(20mL)で洗浄した。場合によっては、水相をさらにEtOAcまたはDCMで抽出した。合わせた有機相を水(2×20mL)で洗浄し、乾燥させ、濃縮した。場合によっては、シリカクロマトグラフィ(通常0〜100% EtOAc/ペトロール)、C18シリカの逆相クロマトグラフィ(通常5〜95%のMeCN/水で溶出)、または分取HPLCにてさらに精製した。
【0217】
【0218】
方法E5
ステップ(i)トリエチルアミン)(1.351mL、9.69mmol)をゆっくりと4−ブロモベンゾイルクロライド(0.851g、3.88mmol)とメチル4−((フェネチルアミノ(メチル)安息香酸塩(中間体B14)(0.870g、3.23mmol)をDCM(20mL)に混合した混合物に、RTにて窒素雰囲気下添加し、該混合液を18時間攪拌した。該混合液をDCM(30mL)、水(10mL)、およびHCl(2M,10mL)にて希釈し、相分離を行った。水相をDCM(30mL)で抽出し、合わせた有機相を水(10mL)で洗浄して、乾燥させ、濃縮した。残留物をシリカクロマトグラフィ(0〜50% EtOAc/ペトロール)にて精製し、メチル4−((4−ブロモ−N−フェネチルベンズアミド)メチル)安息香酸塩(1.21g、83%)を薄オレンジオイルとして得た。
MS ES
+:452、454
【0219】
ステップ(ii)リン酸三カリウム(2mmol)、酢酸パラジウム(II)(0.1mmol)およびジ−t−ブチル(2’,4’,6’−トリイソプロピルビフェニル−2−イル)ホスピン(0.15mmol)を、メチル4−((4−ブロモ−N−フェネチルベンズアミド)メチル)安息香酸塩(上記ステップ(i))(1mmol)および適切なフェノール(1.2mmol)をトルエン(5mL)に溶解した溶液に添加した。該混合液を約5分間脱ガスし、窒素で置換し、熱源またはマイクロ波照射を用いて120℃で20時間加熱した。該混合物を、珪藻土を介してろ過して、EtOAcで洗浄した。ろ液を濃縮して、シリカクロマトグラフィ(通常0〜100% EtOAc/ペトロール)または分取HPLCにて精製した。
【0220】
表2
【0221】
表3
【0222】
表4
【0223】
中間体C58:メチル4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−((3−メトキシシクロブチル)メチル)ベンズアミド)メチル安息香酸塩(シスとトランス環異性体の混合物)
【0224】
【0225】
ステップ(i)上記方法E4にて説明されたHATUカップリング法を用いて3−メトキシシクロブタンカルボン酸(500mg、3.84mmol)と(4−ブロモフェニル)メタンアミン塩酸塩(940mg、4.23mmol)から生成され、N−(4−ブロモベンジル)−3−メトキシシクロブタンカルボキシアミドを得た。(シスとトランス環異性体の混合物)(880mg、77%)
MS ES
+:298,300
【0226】
ステップ(ii)水素化アルミニウムリチウム(1MTHF溶液、2.62mL、2.62mmol)を上記ステップ(i)からのN−(4−ブロモベンジル)−3−メトキシシクロブタンカルボキシアミド(780mg、2.62mmol)をTHF(20mL)に溶解した溶液に室温にて添加した。18時間攪拌後、該混合液を飽和硫酸ナトリウム十二水和物(5mL)で反応停止処理し、ろ過し、濃縮した。残留物をDCM(50mL)に溶解し、NaOH(2M、50mL)で洗浄した。有機相を濃縮し、残留物をシリカクロマトグラフィ(0〜30% EtOAc/ペトロール)で精製してN−(4−ブロモベンジル)−1−(3−メトキシシクロブチル)メタンアミン((シスとトランス環異性体の混合物))を得、さらに精製や特性評価をすることなく次のステップで使用した。
【0227】
ステップ(iii) 上記方法E4に記載したHATUカップリング法を用いて4−(2−フルオロフェノキシ)安息香酸(中間体A1)(310mg、1.337mmol)と上記ステップ(ii)からのN−(4−ブロモベンジル)−1−(3−メトキシシクロブチル)メタンアミン(380mg、1.337mmol)から生成し、所望の化合物、N−(4−ブロモベンジル)−4−(2−フルオロフェノキシ)−N−((3−メトキシシクロブチル)メチル)ベンズアミド((シスとトランス環異性体の混合物)と、対応する脱臭素類似物、N−ベンジル−4−(2−フルオロフェノキシ)−N−((3−メトキシシクロブチル)メチル)ベンズアミド(同様にシスとトランス環異性体の混合物)を得た。この物質(臭素化合物と脱臭素化合物のおよそ1:1のの混合物、全量684mg)をさらに精製や特性評価をすることなく次のステップで使用した。
MS ES
+:498,500
【0228】
ステップ(iv)酢酸パラジウム(II)(27.0mg、0.120mmol)、1、3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(49.7mg、0.120mmol)、および上記ステップ(iii)からのN−(4−ブロモベンジル)−4−(2−フルオロフェノキシ)−N−((3−メトキシシクロブチル)メチル)ベンズアミド(300mg、0.602mmol)をMeOH(5mL)とDMF(3mL)に溶解した溶液を脱ガスし、窒素で置換した。トリエチルアミン(0.168mL,1.204mmol)を添加し、該反応混合液を排気し、一酸化炭素を該溶液に通した。一酸化炭素雰囲気下において70℃で18時間攪拌した後、該混合液からMeOHを蒸発させ、残留物をDCM(20mL)に溶解した。有機相を水(20mL)で洗浄し、濃縮した。得られた残留物をシリカクロマトグラフィ(0〜30% EtOAc/ペトロール)で精製し、表題の化合物(115mg、50%の出発物質の80%)を得た。
MS ES
+:478
【0229】
中間体C59:メチル4−((N−(シクロプロピルメチル)−2−フルオロ−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸塩
【0230】
【0231】
上記方法E1で説明したEDCカップリング法を用いて2−フルオロ−4−(2−フルオロフェノキシ)安息香酸(中間体A6)とメチル4−((シクロプロピルメチルアミノ)メチル)安息香酸メチル塩酸塩(中間体B5)から生成した。
MS ES
+:452
【0232】
中間体C60:メチル4−((N−ベンジル−4−(2−フルオロフェノキシ)−シクロヘキサンカルボキシアミド)メチル)安息香酸(シスとトランス環異性体のおよそ1:1の混合物)
【0233】
【0234】
ステップ(i)4−トルエンスルフォニル塩化物(18.29g、96mmol)を数回に分けて、エチル4−ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸塩(シスとトランス環異性体のおよそ1:1の混合物)(29.5g、90mmol)をピリジン(100mL)に溶解した溶液に、溶液を氷水浴で冷やしながら添加し、該混合液を攪拌して室温に戻した。固体が溶解した後、該混合液を放置した。24時間後、該混合液を濃縮し、残留物を水とEtOAc(それぞれ100mL)で分離した。有機相を乾燥させ、濃縮し、エチル4−(トシロキシ)シクロヘキサンカルボン酸塩(シスとトランス環異性体のおよそ1:1の混合物)(粗製、29.5g)を無色のオイルとして得、それを更に精製せずに次のステップで使用した。
1H NMR(400 MHz,CDC13)δpp1.20−1.30(m,3H)1 .44−2.08(m, 81H)2.2 1 −2.43(m,1H )2.48 (s,3H)4.08−4.20(m,2H )4.40−4.50および4.70−4.78(両方m,合計 1H)7.28−7.40(m,2H)7.78−7.86(m,2H)
【0235】
ステップ(ii)2−フルオロフェノール(2.145mL、23.25mmol)を、上記ステップ(i)からのエチル4−(トシロキシ)シクロヘキサンカルボン酸塩とセシウム炭酸塩(7.58g、23.25mmol)をDMF(100mL)に溶解/懸濁した溶液/懸濁液に添加し、該混合液を18時間80℃で攪拌した。冷却後、該混合液をEtOAc(200mL)で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液(100mL)とブライン(100mL)で洗浄した。有機相を乾燥させ、濃縮し、残留物をシリカクロマトグラフィ(0〜100% EtOAc/ペトロール)で精製して、エチル4−(2−フルオロフェノキシ)シクロヘキサンカルボン酸塩(シスとトランス環異性体のおよそ1:1の混合物)(粗製、3.41g)を得、さらに精製や特性評価をすることなく使用した。
【0236】
ステップ(iii) 水酸化リチウム(0.307g、12.80mmol)を上記ステップ(ii)からのエチル4−(2−フルオロフェノキシ)シクロヘキサンカルボン酸塩(粗製、3.41g)を1、4−ジオキサン(30mL)と水(30mL)に溶解した溶液に添加し、該混合液をマイクロ波照射により100℃で15分間加熱した。該混合液を濃縮した。残留物をアニオン交換カートリッジに充填した。MeCNで洗浄後、該生成物を2MのHCl/MeCNで溶出し、濃縮して4−(2−フルオロフェノキシ)シクロヘキサンカルボン酸(シスとトランス環異性体のおよそ1:1の混合物)(粗製、1.0g)を薄黄色の固体として得、それを更に精製することなく次のステップで使用した。
MS ES
-:237
【0237】
ステップ(iv)表題の化合物を上記方法E4で説明したHATUカップリング法を用いて、上記ステップ(iii)からの4−(2−フルオロフェノキシ)シクロヘキサンカルボン酸と4−((ベンジルアミノ)メチル)安息香酸メチル塩酸塩(中間体B10)から得た。
MS ES
+:476
【0238】
中間体C61:メチル4−((トランス−N−ベンジル−4−(2−メトキシフェノキシ)シクロヘキサンカルボキシアミド)メチル)安息香酸塩
【0239】
【0240】
ステップ(i)エチル4−フルオロシクロヘキサンカルボン酸塩((シスとトランス環異性体のおよそ1:1の混合物)(5g、29mmol)、2−メトキシフェノール(3.96g、31.9mmol)、トリフェニルホスフィン(8.38g、31.9mmol)とトランス−ジイソプロピルジアゼン−1、2−ジカルボン酸塩(DIAD)(6.12mL、31.9mmol)をTHF(150mL)に溶解した溶液をRTで攪拌した。該混合液をEtOAc(100mL)で希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液(50mL)とブライン(50mL)で洗浄した。有機相を乾燥させ、濃縮し、残留物をシリカクロマトグラフィ(0〜100% EtOAc/ペトロール)で精製してエチル4−(2−メトキシフェノキシ)シクロヘキサンカルボン酸塩(シスとトランス環異性体のおよそ1:1の混合物)(粗製、4.0g)を得、それを更に精製や特性評価をすることなく次のステップで使用した。
【0241】
ステップ(ii)4−(2−メトキシフェノキシ)シクロヘキサンカルボン酸を上記4−(2−フルオロフェノキシ)シクロヘキサンカルボン酸(中間体C60、ステップ(iii))について記載したように、上記ステップ(i)からのエチル4−(2−メトキシフェノキシ)シクロヘキサンカルボン酸を用いて生成した。
MS ES
+:249
【0242】
ステップ(iii)表題の化合物を上記方法E4で説明したHATUカップリング法を用いて、4−(2−メトキシフェノキシ)シクロヘキサンカルボン酸(上記ステップ(ii))および4−((ベンジルアミノ)メチル)安息香酸メチル塩酸塩(中間体B10)から生成した。
MS ES
+:488
【0243】
中間体C62:メチル4−((シス−N−(3−(3−フルオロフェニル)プロピル)−4−(2−メトキシフェノキシ)シクロヘキサンカルボキシアミド)メチル)安息香酸塩、および
中間体C63:メチル4−((トランス−N−(3−(3−フルオロフェニル)プロピル)−4−(2−メトキシフェノキシ)シクロヘキサンカルボキシアミド)メチル)安息香酸塩
【0244】
【0245】
表題の化合物を上記方法E4に記載したHATUカップリング法を用いて、4−(2−メトキシフェノキシ)シクロヘキサンカルボン酸(シスとトランス環異性体のおよそ1:1の混合物)(中間体C61、ステップ(ii))と4−(((3−(3−フルオロフェニル)プロピル)アミノ)メチル)安息香酸メチル塩酸塩(中間体B18)から生成し、分取HPLCにより分離した。
MS ES
+:534(両方)
【0246】
中間体C64:メチル2−フルオロ−4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−(3−メトキシベンジル)ベンズアミド)メチル)安息香酸塩
【0247】
【0248】
ステップ(i)炭酸カリウム(3.70g、26.7mmol)を4−シアノ−2−フルオロ安息香酸(4g、24.3mmol)をDMF(350mL)に溶解した溶液に添加した。RTにて15分間攪拌後、ヨードメタン(1.66mL、26.7mmol)を添加した。フラスコを密封し、混合物を40℃で2時間攪拌した。該混合液を減圧下で濃縮し、残留物をDCM(50mL)とグライン(50mL)間で分離した。有機相をシリカに通し、濃縮してメチル4−シアノ−2−フルオロ安息香酸塩(4.1g、94%)を得た。
1HNMR(300MHz,CDCl
3)δppm3.96(s,3H)7.44−7.48(m,1H)7.49−7.53(m,1H)8.01−8.05(m,1H)
【0249】
ステップ(ii)ラネーニッケル(2.0g)を、メチル4−シアノ−2−フルオロ安息香酸塩(上記ステップ(i)にて記載したように生成)(10.1g、61.6mmol)を酢酸(200mL)と水(100mL)に溶解した溶液に添加した。該混合液をRTでアルゴン雰囲気下20バールで攪拌した。18時間後、該混合液を珪藻土を介してろ過し、水(1000mL)で洗浄した。ろ液をEtOAc(3×300mL)で抽出した。合わせた有機相を乾燥し、濃縮して、トルエンを添加して酢酸の除去を促し、メチル2−フルオロ−4−(ヒドロキシメチル)安息香酸塩(粗製、6.06g)を得、更に精製や特性評価をすることなく次のステップで使用した。
【0250】
ステップ(iii) メチル2−フルオロ−4−(ヒドロキシメチル)安息香酸塩(上記ステップ(ii))(1g、5.4mmol)をクロロホルム(40mL)とTHF(5mL)に溶解した。酸化マンガン(IV)(2.36g、27mmol)を添加し、該混合液をRTにて2時間攪拌し、その後60℃にて1時間攪拌した。さらに酸化マンガン(IV)(2.36g、27mmol)を添加して加熱を60℃で継続した。18時間後、該混合液を珪藻土でろ過し、メチル2−フルオロ−4−ホルミル安息香酸塩を得、さらに精製せずに使用した。
1HNMR(300MHz,CDCl
3)δ ppm3.95(s,3H)7.58−7.62(m,1H)7.63−7.67(m,1H)8.08−8.12(m,1H)10.04(s,1H)
【0251】
ステップ(iv)メチル2−フルオロ−4−(((3−メトキシベンジル)アミノ)メチル)安息香酸塩を上記方法R3にて説明した還元的アミノ化法を用いて、(3−メトキシフェニル)メタンアミンとメチル2−フルオロ−4−ホルミル安息香酸塩(上記ステップ(iii))から生成した。
MS ES
+:304
【0252】
ステップ(v)塩化オキサリル(0.30mL、3.51mmol)を、4−(2−フルオロフェノキシ)安息香酸(中間体A1)(746mg、2.34mmol)をDCM(10mL)に溶解した溶液にRTで添加した。DMF(1滴)を滴下し、該混合物を攪拌して、RTにまで温度を上昇させた。2時間後、該混合物を濃縮した。残留物をDCM(5mL)に溶解し、メチル2−フルオロ−4−(((3−メトキシベンジル)アミノ)メチル)安息香酸塩(上記ステップ(iv))(708mg、23.4mmol)およびトリエチレンアミン(0.49mL、3.51mmol)の溶液に添加した。2時間後、該混合液を水(30mL)とDCM(30mL)間で分離した。有機相を飽和炭酸ナトリウム溶液、クエン酸(20%水溶液)と水で続けて洗浄し、乾燥させ、濃縮した。残留物をシリカクロマトグラフィ(10〜30% EtOAc/ヘプタン)で精製して、表題の化合物を得、それをさらに精製や特性評価をすることなく次のステップで使用した。
【0253】
中間体C65:メチル4−((N−(シクロプロピルメチル)−2−フルオロ−4−(2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸塩
【0254】
【0255】
上記方法E4に記載したHATUカップリング法を使用して、2−フルオロ−4−(2−メトキシフェノキシ)安息香酸(中間体A8)と4−(((シクロプロピルメチル)アミノ)メチル)安息香酸メチル塩酸塩(中間体B5)から生成した。この場合、上記酸、アミン塩酸塩、およびDIPEAはDMFに最初に混合され、HATUを最後に添加した。
MS ES
+:464
【0256】
中間体C65a:メチル4−((4−ブロモ−N−(シクロプロピルメチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸塩
【0257】
【0258】
上記方法E5に記載されたものと同様のカップリング法で、4−ブロモベンゾイルクロライドと4−(((シクロプロピルメチル)アミノ)メチル)安息香酸メチル塩酸塩(中間体B5)より生成した。
MS ES
+:402,404
【0259】
中間体C65b:エチル4−ブロモ−N−プロピルベンズアミド)メチル)安息香酸塩
【0260】
【0261】
上記方法E5に記載されたものと同様のカップリング法で、4−ブロモベンゾイルクロライドと4−((プロピルアミノ)メチル)安息香酸メチル塩酸塩(中間体B19a)から生成した。
MS ES
+:390,392
【0262】
中間体C66:メチル4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−(2−フルオロ−6−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸塩
【0263】
【0264】
メチル4−((4−ブロモ−N−(シクロプロピルメチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸塩(中間体C65a)(300mg(0.75mmol))、2−フルオロ−6−メトキシフェノール(212mg、1.49mmol)および酸化銅(I)(107mg、0.75mmol)を2,4,6−トリメチルピリジン3mL)に混合させた混合液をマイクロ波照射にて220℃で2時間加熱した。さらに、2−フルオロ−6−メトキシフェノール(212mg、1.49mmol)を添加し、該混合液をマイクロ波照射にて220℃でさらに1時間加熱した。該混合液を水とEtOAc(それぞれ20mL)で希釈し、珪藻土でろ過した。各相を分離した。水相にHCL(2M)を添加して約pH3まで酸性化し、EtOAc(3×50mL)で抽出した。合わせた有機相を乾燥させ、濃縮した。残留物をシリカクロマトグラフィ(0〜60% EtOAc/ヘプタン)で精製し、メチル4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−(2−フルオロ−6−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸塩(90mg、26%)を無色のゴム状のものとして得た。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm−0.12−0.31(m,2H)0.38−0.61(m,2H)0.77−1.15(m,1H)2.99−3.50(m,2H)3.90(s,3H),3.79(s,3H)4.59−5.09(m,2H)6.68−7.58(m,9H)7.93−8.10(m,2H)
【0265】
中間体C67:メチル4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−(4−フルオロ−2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸塩
【0266】
【0267】
中間体C66について記載されたものと同様に、メチル4−((4−ブロモ−N−(シクロプロピルメチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸塩(中間体C65a)と4−フルオロ−2−メトキシフェノールから生成した。ただし該混合液はマイクロ波照射にて220℃で1時間加熱し、追加のフェノールを必要とせず、検査と精製には若干の修正を加えた。この場合、粗反応混合液がHCl(2M、30mL)に注がれ、結果得られた混合液をEtOAc(3×50mL)で抽出した。合わせた有機相をNaOH(1M)とブライン(およそ1:1、合計30mL)の混合液で洗浄し、乾燥させ、濃縮した。残留物をシリカクロマトグラフィ(20〜40% EtOAc/ヘプタン)にて精製した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm−0.15−0.30(m,2H)0.40−0.59(m,2H)0.78−1.01(m,1H)2.98−3.45(m,2H)3.78(s,3H)3.91(s,3H)4.64−5.05(m,2H)6.58−7.50(m,9H)7.96−8.10(m,2H)
【0268】
中間体C67a:メチル4−((4−(4−フルオロ−2−メトキシフェノキシ)−N−プロピルベンズアミド)メチル)安息香酸塩
【0269】
【0270】
中間体C66について記載されたものと同様に、メチル4−((4−ブロモ−N−プロピルベンズアミド)メチル)安息香酸塩(中間体C65b)と4−フルオロ−2−メトキシフェノールから生成した。ただし、該混合液を還流させながら空気中で熱源を用いて18時間加熱し、合わせた有機相はHCl(1M)、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、およびブライン(各100mL)で洗浄し、残留物をシリカクロマトグラフィ(10〜20% EtOAc/ヘプタン)で精製した。
MS ES
+:452
【0271】
中間体C67b:メチル4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−(5−フルオロ−2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸塩
【0272】
【0273】
中間体C66について記載されたものと同様に、メチル4−((4−ブロモ−N−(シクロプロピルメチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸塩(中間体C65a)と5−フルオロ−2−メトキシフェノールから生成した。ただし合わせた有機相はHCl(1M)、NaOH(2M)、およびブライン(各25mL)で洗浄した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm−0.10−0.30(m,2H)0.34−0.62(m,2H)0.75−1.20(m,1H)3.00−3.60(m,2H)3.78(s,3H)3.91(s,3H)4.70−5.00(m,2H)6.70−7.01(m,5H)7.20−7.50(m,4H)7.96−8.06(m,2H)
【0274】
中間体C67c:メチル4−((4−(5−フルオロ−2−メトキシフェノキシ)−N−プロピルベンズアミド)メチル)安息香酸塩
【0275】
【0276】
中間体C66について記載されたものと同様に、メチル4−((4−ブロモ−N−プロピルベンズアミド)メチル)安息香酸塩(中間体C65b)と5−フルオロ−2−メトキシフェノールから生成した。ただし、該混合液をマイクロ波照射にて210℃で4時間加熱し、合わせた有機溶媒をHCl(1M)、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、およびブライン(各50mL)で洗浄し、残留物をシリカクロマトグラフィ(20〜50% EtOAc/ヘプタン)で精製した。得られた物質をさらに精製や特性評価をすることなく次のステップで使用した。
【0277】
中間体C67d:メチル4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−(3−フルオロ−2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸塩
【0278】
【0279】
中間体C66について記載されたものと同様に、メチル4−((4−ブロモ−N−(シクロプロピルメチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸塩(中間体C65a)と3−フルオロ−2−メトキシフェノール(「Synthetic Communications」、1985年、15(1)、61〜69の記載に従い生成)から生成した。ただし、該混合液はマイクロ波照射にて210℃で5時間加熱し、合わせた有機相はHCl(1M)、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、およびブライン(各100mL)で洗浄し、残留物を分取HPLCで精製した。
MS ES
+:464
【0280】
中間体C67e:メチル4−((5−ブロモ−N−(シクロプロピルメチル)ピコリンアミド)メチル)安息香酸塩
【0281】
【0282】
上記方法E4にて記載したカップリング法を用いて、5−ブロモピコリン酸と4−(((シクロプロピルメチル)アミノ)メチル)安息香酸メチル塩酸塩(中間体B5)を、1.3eqのHATUと6eqのDIPEAを使って生成した。
MS ES
+:403,405
【0283】
中間体C68:メチル4−((N−(シクロプロピルメチル)−5−(2−メトキシフェノキシ)ピコリンアミド)メチル)安息香酸塩
【0284】
【0285】
上記中間体C66に記載されたものと同様に、メチル4−((5−ブロモ−N−(シクロプロピルメチル)ピコリンアミド)メチル)安息香酸塩(中間体C67e)と2−メトキシフェノールから生成した。ただし、フェノール5eqと酸化銅(I)2.5eqを使用し、該混合液を還流しながら熱源を用いて空気中で40時間加熱し、水相を約pH7に調整し、残留物をシリカクロマトグラフィ(20〜40% EtOAc/ヘプタン)にて精製した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm−0.10−0.27(m,2H)0.32−0.57(m,2H)0.85−1.35(m,1H)3.27−3.41(m,2H)3.69−3.85(m,3H)3.89(s,3H)4.89−5.05(m,2H)6.87−7.47(m,8H)7.62−7.71(m,1H)7.90−8.06(m,2H)
【0286】
中間体C69:メチル4−((N−(シクロプロピルメチル)−5−(2−フルオロフェノキシ)ピコリンアミド)メチル)安息香酸塩
【0287】
【0288】
上記中間体C68に記載されたものと同様に、メチル4−((5−ブロモ−N−(シクロプロピルメチル)ピコリンアミド)メチル)安息香酸塩(中間体C67e)と2−フルオロフェノールから生成した。ただし、4eqのフェノールを使用し、珪藻土での該混合物のろ過は行わず、残留物はシリカクロマトグラフィ(40% EtOAc/ヘプタン)で精製した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm−0.50−0.22(m,2H)0.37−0.52(m,2H)0.95−1.10(m,1H)3.28−3.37(m,2H)3.89(s,3H)4.96(s,2H)7.05−7.40(m,7H)7.64−7.74(m,1H)7.91−8.03(m,2H),8.19−8.34(m,1H)
【0289】
中間体C70:5−(2−フルオロフェノキシ)ピリミジン−2−カルボン酸
【0290】
【0291】
ステップ(i)水酸化ナトリウム(ミネラルオイル中の60%懸濁液、0.258g、6.42mmol)を、2−フルオロフェノール(0.492mL、5.34mmol)をピリジン(15mL)に溶解した溶液に、溶液を氷水浴で冷却しながら添加した。臭化銅(I)を添加し、該混合物を100℃で5時間加熱した。該混合物を濃縮し、残留物をEtOAcと共に粉末にしてシリカクロマトグラフィ(20% EtOAc/ヘプタン)で精製し、5−(2−フルオロフェノキシ)ピリミジン−2−カルボニトリル(555mg、47%)を得た。
1HNMR(400MHz/CDCl
3)δppm 7.20−7.40(m,4H)8.46(s,2H)
【0292】
ステップ(ii)5−(2−フルオロフェノキシ)ピリミジン−2−カルボニトリル、NaOH(2M、10mL)とIMS(2mL)を混合し、70℃で18時間加熱した。濃縮してIMSを取り除いた後、HCl(2M)をpHが3になるまで添加し、該混合物をDCM(50mL)で抽出した。有機相を乾燥させ、濃縮して5−(2−フルオロフェノキシ)ピリミジン−2−カルボン酸(250mg、48%)を白色の固体として得、さらに精製や特性評価をすることなく次のステップで使用した。
【0293】
中間体C71:5−(2−メトキシフェノキシ)ピリミジン−2−カルボン酸
【0294】
【0295】
ステップ(i)中間体C70のステップ(i)同様にして5−(2−メトキシフェノキシ)ピリミジン−2−カルボニトリル(555mg、47%)を得た。
MS ES
+:228
【0296】
ステップ(ii)中間体C70のステップ(ii)同様にして、5−(2−メトキシフェノキシ)ピリミジン−2−カルボニトリルから、5−(2−メトキシフェノキシ)ピリミジン−2−カルボン酸を生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm3.77(s,3H)7.03−7.07(m,2H)7.15−7.19(m,1H)7.28−7.34(m,lH)8.44(s,2H)
【0297】
中間体C72:メチル4−((N−(シクロプロピルメチル)−5−(2−フルオロフェノキシ)ピリミジン−2−カルボキシアミド)メチル)安息香酸塩
【0298】
【0299】
方法E4にて記載したカップリング法を用いて、5−(2−フルオロフェノキシ)ピリミジン−2−カルボン酸(中間体C70)と4−(((シクロプロピルメチル)アミノ)メチル)安息香酸メチル塩酸塩(中間体B5)から生成した。
MS ES
+:436
【0300】
中間体C73:メチル4−((N−(シクロプロピルメチル)−5−(2−メトキシフェノキシ)ピリミジン−2−カルボキシアミド)メチル)安息香酸塩
【0301】
【0302】
上記方法E4に記載したカップリング法を用いて、5−(2−メトキシフェノキシ)ピリミジン−2−カルボン酸(中間体C71)と4−(((シクロプロピルメチル)アミノ)メチル)安息香酸メチル塩酸塩(中間体B5)から生成した。
MS ES
+:448
【0303】
中間体C74:メチル4−((5−(2−メトキシフェノキシ)−N−プロピルピリミジン−2−カルボキシアミド)メチル)安息香酸
【0304】
【0305】
上記方法E4に記載したカップリング法を用いて、5−(2−メトキシフェノキシ)ピリミジン−2−カルボン酸(中間体C71)と4−((プロピルアミノ)メチル)安息香酸メチル塩酸塩(中間体B19a)を生成した。
MS ES
+:436
【0306】
実施例の生成
上記中間体C6〜C74から誘導された化合物は、方法H1またはH2に従って調整された。
【0307】
方法H1
水酸化リチウムまたは水酸化リチウム一水和物(5mmol)を適切なエステル(1mmol)を水(2mL)と、THFまたは1、4−ジオキサン(4mL)に溶解した溶液に添加した。場合により、MeOHをTHFに加えて添加した。該混合物を、通常室温で18時間、50℃で4時間、または100℃で20分間攪拌した。場合により、反応液をNaOH(2M)で希釈し、EtOAcまたはDCMで抽出し、得られた水相をHCl(2M)で酸性にしてEtOAcで抽出した。他の場合では、該粗混合物をHCL(2M)とEtOAc間で分離した。酸性水相の抽出で得られた有機相を合わせ、乾燥して濃縮した。場合によっては、残留物をアニオン交換カートリッジに充填した。MeCNで洗浄後、生成物を1MのHCl/MeCNで溶出し、濃縮した。場合によっては、得られた物質をC18シリカの逆相クロマトグラフィ(通常、0.1%のNH
4OHを加えた5〜95%のMeOH/H
2Oで溶出)で精製した。場合によっては粗生成物を還流させながらHCl(4M)中で加熱し、放置して冷却し、ろ過した。場合によっては、最終生成物の再結晶を水、EtOH、EtOAc、酢酸メチル、メチルt−ブチルエーテル、ペンタン、ヘプタンの内の1つまたは複数を使用して行った。
【0308】
方法H2
水酸化ナトリウム(2M、6mmol)を適切なエステル(2mmol)をTHF(3mL)に溶解した溶液に添加した。場合によっては、MeOHをTHFの代わりにまたはTHFに追加して添加した。該混合液をRTにて18時間攪拌するか、もしくはマイクロ波照射にて100℃で5分間加熱した。該混合液をHCl(1M)とEtOAc(各30mL)間で分離した。有機相を乾燥させ、濃縮した。残留物をアニオン交換カートリッジに充填した。MeCNで洗浄後、生成物を4MのHCl/1、4−ジオキサンで溶出し、濃縮した。
【0309】
実施例1:4−((N−エチル−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0310】
【0311】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C6)から生成した。
1HNMR(300MHz,DMSO−d
6)δppm0.84−1.36(m,3H)3.05−3.64(m,2H)4.67(br s,2H)6.73−7.09(m,2H)7.09−7.61(m,8H)7.74−8.05(m,2H)12.90(br s,1H)
MS ES
+:394
【0312】
実施例2:4−((N−(2,2−ジフルオロエチル)−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0313】
【0314】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C7)から生成した。
1HNMR(300MHz,DMSO−d
6)δppm3.57−3.91(m,2H)4.71(br s,2H)5.95−6.52(m,1H)6.82−7.08(m,2H)7.10−7.57(m,8H)7.79−7.98(m,2H)12.93(br s,1H)
MS ES
+:430
【0315】
実施例3:4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−(2,2,2−トリフルオロエチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0316】
【0317】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C8)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm4.14−4.36(m,2H)4.76(s,2H)6.92−7.10(m,2H)7.16−7.37(m,5H)7.39−7.55(m,3H)7.84−7.99(m,2H)12.94(br s,1H)
MS ES
+:448
【0318】
実施例4:4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−イソブチルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0319】
【0320】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C9)から生成した。
1HNMR(400MHz,OMSO−d
6)δppm0.50−1.08(m,6H)1.77−2.17(m,1H)3.00−3.25(m,2H)4.49−4.86(m,2H)6.88−7.13(m,2H)7.13−7.57(m,8H)7.83−8.04(m,2H)12.69−13.02(m,1H)
MS ES
+:422
【0321】
実施例5:4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0322】
【0323】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C10)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm−0.13−0.26(m,2H)0.30−0.50(m,2H)0.75−1.06(m,1H)2.97−3.22(m,2H)4.79(br s,2H)6.88−7.12(m,2H)7.12−7.55(m,8H)7.86−7.97(m,2H)12.87(br s,1H)
MS ES
+:420
【0324】
実施例6:4−((N−(シクロブチルメチル)−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0325】
【0326】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C11)から生成した。
1HNMR(400MHz,CD
3OD)δppm1.37−2.15(m,6H)2.49−2.82(m,1H)3.34−3.58(m,2H)4.60−4.78(m,2H)6.90−7.04(m,2H)7.14−7.29(m,5H)7.33−7.49(m,3H)7.82−8.03
(m,2H)
MS ES
+:434
【0327】
実施例7:4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−((3−メトキシシクロブチル)メチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸(シスとトランスの環異性体の混合物)
【0328】
【0329】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C58)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm1.64−2.30(m,4H)3.04(br s,3H)3.16−3.70(m,4H)4.65(br s,2H)6.85−7.14(m,2H)7.14−7.59(m,8H)7.82−8.00(m,2H)MS ES
+:464
【0330】
実施例8:4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−イソペンチルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0331】
【0332】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C12)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm0.48−1.00(m,6H)1.39(br s,3H)3.21(br s,2H)4.49−4.84(m,2H)7.01(br s,2H)7.17−7.57(m,8H)7.88−7.97(m,2H)12.90(br s,1H)
MS ES
+: 436
【0333】
実施例9:4−((N−(2−シクロプロピルエチル)−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアミド)−メチル)安息香酸
【0334】
【0335】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C13)から生成した。
1HNMR(400MHz,CD
3OD)δppm−0.22−0.17(m,2H)0.26−0.51(m,2H)0.52−0.79(m,1H)1.35−1.64(m,2H)3.35−3.63(m,2H)4.58−4.79(m,2H)6.90−7.08(m,2H)7.13−7.34(m,5H)7.37−7.54(m,3H)8.06−8.22(m,2H)
MS ES
+:434
【0336】
実施例10:4−((N−(2−シクロブチルエチル)−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアミド)−メチル)安息香酸
【0337】
【0338】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C14)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm1.24−2.30(m,9H)2.88−3.40(m,2H)4.48−4.82(m,2H)7.01(br s,2H)7.19−7.54(m,8H)7.88−7.96(m,2H)12.90(brs,1H)
MS ES
+:448
【0339】
実施例11:4−((N−ベンジル−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアミド)−メチル)安息香酸
【0340】
【0341】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C15)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm4.37−4.80(m,4H)6.92−7.06(m,2H)7.11−7.60(m,13H)7.85−7.99(m,2H)
MS ES
+:456
【0342】
実施例12:4−((N−(2−フルオロベンジル)−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0343】
【0344】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C16)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm4.45−4.66(m,4H)6.96−7.03(m,2H)7.03−7.45(m,10H)7.45−7.54(m,2H)7.78−7.89(m,2H)
MS ES
+:474
【0345】
実施例13:4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−(3−メトキシベンジル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0346】
【0347】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C17)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm3.72(s,3H)4.42−4.71(m,4H)6.55−7.10(m, 5H)7.16−7.62(m,9H)7.76−7.99(m,2H)12.92(br s,1H)
MS ES
+:486
【0348】
実施例14:4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−(4−メトキシベンジル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0349】
【0350】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C18)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm3.74(s,3H)4.24−4.80(m,4H)6.83−7.65(m,14H)7.84−8.05(m,2H)12.90(br s,1H)
MS ES
+:486
【0351】
実施例15:4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−フェネチルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0352】
【0353】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C19)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm2.40−3.07(m,2H)3.07−4.11(m,2H)4.11−4.95(m,2H)6.55−7.49(m,15H)7.86−8.05(m,2H)
MS ES
+:470
【0354】
実施例16:4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−(3−(2−フルオロフェニル)プロピル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0355】
【0356】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C20)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm1.66−1.98(m,2H)2.17−2.80(m,2H)3.05−3.52(m,2H)4.44−4.90(m,2H)6.83−7.55(m,14H)7.85−8.01(m,2H)12.90(br s,1H)
MS ES
+:502
【0357】
実施例17:4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−(3−(3−フルオロフェノキシ)プロピル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0358】
【0359】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C21)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)ppm1.70−1.95(m,2H)2.30−2.40(m,2H)3.30−3.40(m,2H)4.74(br s,2H)6.80−7.56(m,14H)7.87−7.99(m,2H)12.88(br s,1H)
MS ES
+:502
【0360】
実施例18:4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−((トランス−2−フェニルシクロプロピル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0361】
【0362】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C22)から生成した。
1HNMR(400MHz,CD
2Cl
2)δppm0.92(hr s,2H)1.20−1.35(m,1H)1.52−1.78(m,1H)3.42(s,2H)4.75−4.99(m,2H)6.86−7.10(m,4H)7.10−7.29(m,6H)7.29−7.50(m,5H)8.00−8.12(m,2H)
MS ES
+:496
【0363】
実施例19:(S)−4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−(2−ヒドロキシ−3−フェニルプロピル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0364】
【0365】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C23)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm2.60−2.76(m,1H)2.95−3.30(m,2H)3.88−4.17(m,1H)4.65(br s,2H)4.85−4.97(m,1H)5.00−5.29(m,1H)6.85−7.33(m,12H)7.33−7.50(m,3H)7.79−7.90(m,2H)
MS ES
+:500
【0366】
実施例20:(R)−4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−(2−ヒドロキシ−3−フェニルプロピル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0367】
【0368】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C24)から生成した。
1HNMR(400MHz,MSO−d
6)δppm2.55−2.79(m,1H)2.92−3.40(m, 2H)3.83−4.17(m,1H)4.72(br s,2H)4.85−5.05(m,1H)5.06−5.23(m,1H)6.83−7.53(m,15H)7.84−7.97(m,2H)
MS ES
+:500
【0369】
実施例21:4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−(4−フェニルブチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0370】
【0371】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C25)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm1.29−1.70(m,2H)2.32−2.84(m,2H)3.10−3.55(m,2H)4.62(br s,2H)6.86−7.46(m,15H)7.77−7.95(m,2H)12.57(br s,1H)
MS ES
+:498
【0372】
実施例22:4−((N−シクロプロピルメチル)−4−(o−トリルオキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0373】
【0374】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C26)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)ppm−0.25−0.25(m,2H)0.25−0.50(m,2H)0.74−1.11(m,1H)2.13(s,3H)2.87−3.47(m,2H)4.78(br s,2H)6.75−7.62(m,10H)7.83−7.98(m,2H)12.87(br s,1H)
MS ES
+:416
【0375】
実施例23:4−((N−(シクロブチルメチル)−4−(o−トリルオキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0376】
【0377】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C27)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)ppm1.23−1.99(m,7H)2.15(s,3H)2.40−2.74(m,2H)4.65(br s,2H)6.76−7.64(m,10H)7.87−8.02(m,2H)12.90(br s,1H)
MS ES
+:430
【0378】
実施例24:4−((N−ベンジル−4−(o−トリルオキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0379】
【0380】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C28)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm2.14(s,3H)4.58(br s,4H)6.62−7.04(m,3H)7.07−7.60(m,12H)7.84−8.00(m,2H)12.90(br s,1H)
MS ES
+:452
【0381】
実施例25:4−((N−フェネチル−4−(o−トリルオキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0382】
【0383】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C29)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm2.15(br s,3H)2.72−2.98(m,2H)3.34−3.59(m,2H)4.43−4.88(m,2H)6.82−7.02(m,4H)7.28(br s,11H)7.88−7.96(m,2H)
MSES
+:466
【0384】
実施例26:4−((N−フェネチル−4−(2−(トリフルオロメチル)フェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0385】
【0386】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C30)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm2.71−2.99(m,2H)3.34−3.59(m,2H)4.43−4.87(m,2H)6.89−7.42(m,12H)7.43−7.54(m,1H)7.64−7.73(m,1H)7.77−7.85(m,1H)7.88−7.98(m,2H)
MS ES
+:520
【0387】
実施例27:4−((N−ベンジル−4−(2−シアノフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0388】
【0389】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C31)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)ppm4.40−4.76(m,4H)7.00−7.11(m,15H)7.85−8.00(m,2H)12.97(br s,1H)
MS ES
+:463
【0390】
実施例28:4−((N−エチル−4−(2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0391】
【0392】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C32)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm1.01−1.11(m,3H)3.22−3.33(m,2H)3.73(s.3H)4.68(br s,2H)6.79−6.88(m,2H)6.96−7.03(m,1H)7.07−7.13(m,1H)7.16−7.28(m,2H)7.40(br s,4H)7.89−7.96(m,2H)12.88(br s,1H)
MS ES
+:406
【0393】
実施例29:4−((N−(2,2−ジフルオロエチル)−4−(2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0394】
【0395】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C33)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm3.64−3.86(m,5H)4.74(br s,2H)6.07−6.44(m,1H)6.78−6.92(m,2H)6.96−7.03(m,1H)7.07−7.13(m,1H)7.15−7.46(m,6H)7.87−7.97(m,2H)12.93(br s,1H)
MS ES
+:442
【0396】
実施例30:4−((N−イソブチル−4−(2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0397】
【0398】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C34)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm0.58−0.97(m,6H)1.80−2.13(m,1H)3.06−3.19(m,2H)3.72(s,3H)4.68(s,2H)6.77−6.90(m,2H)6.94−7.05(m,1H)7.05−7.13(m,1H)7.16−7.53(m,6H)7.87−7.97(m,2H)12.91(br s,1H)
MS ES
+:434
【0399】
実施例31:4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−(2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0400】
【0401】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C35)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δ−0.14−0.20(m,2H)0.30−0.44(m,2H)0.81−1.03(m,1H)3.15(br s,2H)3.70(s,3H)4.79(br s,2H)6.78−6.91(m,2H)6.96−7.03(m,1H)7.08−7.14(m,1H)7.16−7.28(m,2H)7.30−7.50(m,4H)7.87−7.96(m,2H)12.88(s,1H)
MS ES
+:432
【0402】
実施例32:4−((4−(2−メトキシフェノキシ)−N−(3−フェニルプロピル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0403】
【0404】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C36)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm1.83(br s,2H)2.40(br s,2H)3.22(br s,2H)3.73(s,3H)4.70(br s,2H)6.77−6.82(m,2H)6.95−7.44(m,13H)7.88−7.93(m,2H)12.89(s,1H)
MS ES
+:496
【0405】
実施例33:4−((N−3−(3−フルオロフェニル)プロピル)−4−(2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0406】
【0407】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C37)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm1.84(br s,2H)2.42(br s,2H)3.21(br s,2H)3.73(s,3H)4.70(br s,2H)6.76−6.82(m,2H)6.83−7.47(m,12H)7.86−7.94(m,2H)12.88(br s,1H)
MS ES
+:514
【0408】
実施例34:4-((N-(シクロプロピルメチル)−4−(2−エトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0409】
【0410】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C38)から生成した。
1HNMR(300MHz,DMSO−d
6)δppm−0.24−0.60(m,4H)0.69−1.41(m,4H)2.87−3.31(m,2H)3.80−4.15(m,2H)4.76(br s,2H)6.60−7.57(m,10H)7.75−8.00(m,2H)12.86(br s,1H)
MS ES
+:446
【0411】
実施例35:4−((4−(2−クロロフェノキシ)−N−(シクロプロピルメチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0412】
【0413】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C39)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)ppm ppm−0.30−0.23(m,2H)0.23−0.50(m,2H)0.74−1.12(m,1H)2.81−3.41(m,2H)4.79(br s,2H)6.86−7.04(m,2H)7.12−7.66(m,8H)7.84−7.97(m,2H)12.87(br s,1H)
MS ES
+:436
【0414】
実施例36:4−((4−(2−クロロフェノキシ)−N−フェネチルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0415】
【0416】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C40)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm2.72−2.95(m,2H)3.35−3.60(m,2H)4.41−4.88(m,2H)6.88−7.01(m,3H)7.14−7.54(m,11H)7.58−7.66(m,1H)7.87−7.98(m,2H)12.89(br s,1H)
MS ES
+:486
【0417】
実施例37:4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−(2,6−トリフルオロフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0418】
【0419】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C41)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm0.00(br s,2H)0.38(br s,2H)0.92(br s,1H)3.12(br s, 2H)4.80(br s,2H)7.01(br s,2H)7.24−7.56(m,7H)7.84−7.99(m, 2H)12.88(br s,1H)
MS ES
+:438
【0420】
実施例38:4−((N−2−シクロプロピルエチル)−4−(2,6−ジフルオロフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0421】
【0422】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C42)から生成した。
1HNMR(400MHz,OMSO−d
6)δppm−0.27−0.10(m,2H)0.18−0.75(m,3H)1.25−1.57(m,2H)3.14−3.47(m,2H)4.52−4.81(m,2H)6.87−7.11(m,2H)7.22−7.56(m,7H)7.84−8.00(m,2H)12.88(br s,1H)
MSHS
+:452
【0423】
実施例39:4−((N−ベンジル−4−(2,6−ジフルオロフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0424】
【0425】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C43)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm4.40−4.68(m,4H)6.95−7.04(m,2H)7.11−7.44(m,10H)7.45−7.55(m,2H)7.86−7.94(m,2H)
MS ES
+:474
【0426】
実施例40:4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−(2−フルオロ−6−メチルフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0427】
【0428】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C44)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm−0.16−0.24(m,2H)0.26−0.48(m,2H)0.77−1.08(m,1H)2.15(s,3H)2.94−3.32(m,2H)4.78(br s,2H)6.88(br s,2H)7.09−7.28(m,3H)7.42(br s,4H)7.85−7.96(m,2H)12.87(br s,1H)
MS ES
+:434
【0429】
実施例41:4−((N−(シクロブチルメチル)−4−(2−フルオロ−6−メチルフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0430】
【0431】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C45)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm1.36−2.01(m,6H)2.16(s,3H)3.22−3.42(m,3H)4.64(br s,2H)6.80−6.95(m,2H)7.17−7.29(m,3H)7.32−7.56(m,4H)7.81−8.02(m,2H)12.88(br s,1H)
MS ES
+:448
【0432】
実施例42:4−((4−(2−クロロ−6−フルオロフェノキシ)−N−(クロロプロピルメチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0433】
【0434】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C46)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm0.00(br s,2H)0.38(br s,2H)0.93(br s, 1H)3.13(br s,2H)4.80(br s,2H)6.95(br s, 2H)7.24−7.60(m,7H)7.86−7.99(m,2H)12.88(br s,1H)
MS ES
+:454
【0435】
実施例43:4−((4−(2−クロロ−6−フルオロフェノキシ)−N−(2−シクロプロピリエチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0436】
【0437】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C47)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm−0.29−0.77(m,5H)1.23−1.57(m,2H)3.15−3.52(m,2H)4.49−4.84(m,2H)6.95(m,2H)7.21−7.57(m,7H)7.89−7.96(m,2H)12.89(brs,1H)
MS ES
+:468
【0438】
実施例44:4−((N−ベンジル−4−(2−クロロ−6−フルオロフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0439】
【0440】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C48)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm4.39−4.70(m,4H)6.87−6.99(m,2H)7.08−7.59(m,12H)7.86−7.95(m,2H)12.97(brs,1H)
MS ES
+:490
【0441】
実施例45:4−((4−(2,6−ジメチルフェノキシ)−N−イソペンチルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0442】
【0443】
方法H2にて親物質のメチルエステル(中間体C49)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm0.39−1.61(m,9H)2.06(s,6H)2.75−3.48(m,2H)4.47−4.86(m,2H)6.62−6.89(m,2H)7.05−7.25(m,3H)7.25−7.58(m,4H)7.85−8.02(m,2H)12.89(br s,1H)
MS ES
+:446
【0444】
実施例46:4−((N−ベンジル−4−(2,6−ジメチルフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0445】
【0446】
方法H2にて親物質のメチルエステル(中間体C50)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm2.04(s,6H)4.35−4.79(m,4H)6.68−6.87(m,2H)7.02−7.58(m,12H)7.82−8.02(m,2H)12.89(br s,1H)
MS ES
+:466
【0447】
実施例47:4−((4−2,6−ジメチルフェノキシ)フェネチルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0448】
【0449】
方法H2にて親物質のメチルエステル(中間体C51)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm2.07(s,6H)2.62−3.04(m,2H)3.10−3.70(m,2H)4.35−4.98(m,2H)6.65−7.63(m,14H)7.85−8.03(m,2H)
MS ES
+:480
【0450】
実施例48:4−((4−(3−メトキシフェノキシ)−N−フェネチルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0451】
【0452】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C52)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm2.72−2.95(m,2H)3.35−3.61(m,2H)3.74(s,3H)4.40−4.88(m,2H)6.54−6.66(m,2H)6.72−6.80(m,1H)6.90−7.11(m,3H)7.13−7.57(m,9H)7.86−8.01(m,2H)12.87(br s,1H)
MS ES
+:482
【0453】
実施例49:4−((4−(4−メトキシフェノキシ)−N−フェネチルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0454】
【0455】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C53)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm2.70−2.96(m,2H)3.35−3.57(m,2H)3.76(s,3H)4.40−4.87(m,2H)6.85−7.56(m,15H)7.85−8.00(m,2H)12.90(br s,1H)
MS ES
+:482
【0456】
実施例50:4−((4−(3−クロロフェノキシ)−N−フェネチルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0457】
【0458】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C54)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm2.73−2.98(m,2H)3.36−3.62(m,2H)4.42−4.90(m,2H)6.87−7.57(m,15H)7.93(br s,2H)12.90(br s,1H)
MS ES
+:486
【0459】
実施例51:4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−((2−フルオロベンジル)オキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0460】
【0461】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C55)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)ppm ppm−0.22−0.25(m,2H)0.26−0.47(m,2H)0.77−1.08(m,1H)2.73−3.45(m,2H)4.77(br s,2H)5.15(s,2H)6.98−7.63(m,10H)7.85−7.97(m,2H)12.84(br s,1H)
MS ES
+:434
【0462】
実施例52:4−((N−シクロブチルメチル)−4−((2−フルオロベンジル)オキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0463】
【0464】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C56)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)ppm1.20−2.20(m,7H)2.26−2.74(m,2H)4.64(s,2H)5.18(s,2H)6.97−7.66(m,10H)7.83−8.07(m,2H)12.81(br s,1H)
MS ES
+:448
【0465】
実施例53:4−((N−ベンジル−4−((2−フルオロベンジル)オキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0466】
【0467】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C57)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)ppm4.56(br s,4H)5.16(s,2H)7.00−7.61(m,15H)7.87−7.99(m,2H)12.92(br s,1H)
MS ES
+:470
【0468】
実施例54:4−((N−(シクロプロピルメチル)−2−(フルオロ)−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0469】
【0470】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C59)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm−0.06−0.28(m,2H)0.31−0.52(m,2H)0.73−1.15(m,1H)2.99−3.41(m,2H)4.55−4.97(m,2H)6.73−7.07(m,2H)7.25−7.56(m,7H)7.86−8.02(m,2H)12.91(br s,1H)
MS ES
+:438
【0471】
実施例55:4−((N−ベンジル−4−(2−フルオロフェノキシ)シクロヘキサンカルボキシアミド)メチル)安息香酸(シスおよびトランス環異性体のおおよそ1:1の混合物)
【0472】
【0473】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C60)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)ppm1.27−2.13(m,8H)2.61−2.86(m,1H)4.00−4.40(m,1H)4.45−4.73(m,4H)6.88−7.00(m,1H)7.05−7.44(m,10H)7.85−8.00(m,2H)12.90(br s,1H)
MS ES
+:462
【0474】
実施例56:トランス−4−((N−ベンジル−4−(2−メトキシフェノキシ)シクロヘキサカルボキシアミド)メチル)安息香酸
【0475】
【0476】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C61)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)ppm1.10−2.11(m,8H)2.57−2.78(m,1H)3.73(s,3H)4.11−4.25(m,1H)4.46−4.74(m,4H)6.81−7.04(m,4H)7.15−7.44(m,7H)7.86−8.00(m,2H)12.90(br s.1H)
MS ES
+:474
【0477】
実施例57:シス−4−((N−(3−(3−フルオロフェニル)プロピル)−4−(2−メトキシフェノキシ)シクロヘキサンカルボキシアミド)メチル)安息香酸
【0478】
【0479】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C62)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)ppm1.34−1.98(m,10H)2.39−2.66(m,3H)3.15−3.40(m,2H)3.71−3.87(m,3H)4.37−4.51(m,1H)4.52−4.78(m,2H)6.79−7.12(m,7H)7.19−7.39(m,3H)7.82−8.01(m,2H)12.80(br s,1H)
MS ES
+:520
【0480】
実施例58:トランス−4−((N−(3−(3−フルオロフェニル)プロピル)−4−(2−メトキシフェノキシ)シクロヘキサンカルボキシアミド)メチル)安息香酸
【0481】
【0482】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C63)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)ppm1.19−2.13(m,10H)2.36−2.65(m,3H)3.15−3.49(m,2H)3.67−3.81(m,3H)4.09−4.24(m,1H)4.51−4.78(m,2H)6.79−7.10(m,7H)7.18−7.40(m,3H)7.81−8.00(m,2H)12.86(br s,1H)
MS ES
+:520
【0483】
実施例59:2−フルオロ−4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−(3−メトキシベンジル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0484】
【0485】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C64)から生成した。
1HNMR(300MHz,CDCl
3)δppm3.79(s,3H)4.34−4.91(m,4H)6.57−7.34(m,12H)7.34−7.61(m,2H)7.90−8.07(m,1H)
MS ES
+:504
【0486】
実施例60:4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−プロピルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0487】
【0488】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C25a)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm0.65−1.06(m,3H)1.48−1.79(m,2H)3.11−3.52(m,2H),4.56−4.85(m,2H)6.87−7.52(m,10H)8.06−8.12(m,2H)
MS ES
+:408
【0489】
実施例61:4−((4−(2−メトキシフェノキシ)−N−(2,2,2−トリフルオロエチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0490】
【0491】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C40a)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm3.79(s,3H)3.84−4.12(m,2H)4.77−4.95(m,2H)6.85−7.47(m,10H)8.03−8.12(m,2H)
MS ES
+:460
【0492】
実施例62:4−((4−(2−メトキシフェノキシ)−N−プロピルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0493】
【0494】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C40b)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm0.65−1.05(m,3H)1.41−1.78(m,2H)3.12−3.52(m,2H).3.80(s,3H)4.55−4.87(m,2H)6.81−7.51(m,10H)8.04−8.12(m,2H)
MS ES
+:420
【0495】
実施例63:4−((N−(2,2−ジフルオロプロピル)−4−(2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0496】
【0497】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C40c)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm1.32−1.84(m,3H)3.45−4.02(m,5H)4.65−5.06(m,2H)6.79−7.50(m,10H)7.99−8.15(m,2H)
MS ES
+:456
【0498】
実施例64:4−((4−(2−メトキシフェノキシ)−N−(3,3,3−トリフルオロプロピル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0499】
【0500】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C40d)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm2.35−2.67(m,2H)3.50−3.69(m,5H)4.58−4.81(m,2H)6.80−7.48(m,10H)8.06−8.14(m,2H)
MS ES
+:474
【0501】
実施例65:4−((N−ブチル−4−(2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0502】
【0503】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C40e)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm0.67−1.01(m,3H)1.01−1.74(m,4H)3.11−3.56(m,2H)4.56−4.90(m,2H)6.80−7.58(m,10H)8.03−8.14(m,2H)
MS ES
+:434
【0504】
実施例66:4−((N−(シクロプロピルメチル)−2−フルオロ−4−(2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0505】
【0506】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C65)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm−0.06−0.29(m,2H)0.30−0.53(m,2H)0.78−1.16(m,1H)2.98−3.45(m,2H)3.77(s,3H)4.57−4.98(m,2H)6.59−6.87(m,2H)6.98−7.51(m,7H)7.84−8.00(m,2H)12.90(br s,1H)
MS ES
+:450
【0507】
実施例67:4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−(2−フルオロ−6−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0508】
【0509】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C66)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm−0.10−0.28(m,2H)0.37−0.58(m,2H)0.78−1.15(m,1H)2.98−3.50(m,2H)3.79(s,3H)4.68−5.05(m,2H)6.69−7.50(m,9H)8.02−8.11(m,2H)
MS ES
+:450
【0510】
実施例68
4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−(4−フルオロ−2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0511】
【0512】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C67)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm−0.09−0.29(m,2H)0.44−0.58(m,2H)0.78−1.17(m,1H)3.01−3.55(m,2H)3.78(s,3H)4.70−5.05(m,2H)6.70−7.52(m,9H)8.03−8.12(m,2H)
MS ES
+:450
【0513】
実施例69:4−((N−(シクロプロピルメチル)−5−(2−メトキシフェノキシ)ピコリンアミド)メチル)安息香酸
【0514】
【0515】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C68)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm−0.08−0.68(m,4H)0.85−1.33(m,1H)3.16−3.56(m,2H)3.61−4.04(m,3H)4.78−5.19(m,2H)6.80−8.55(m,11H)
MS ES
+:433
【0516】
実施例70:4−((4−o−トリルオキシ)−N−(2,2,2−トリフルオロエチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0517】
【0518】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C40f)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm2.18(s,3H)4.02(br s,2H)4.85(br s,2H)6.81−7.58(m,10H)8.00−8.20(m,2H)
MS ES
+:444
【0519】
実施例71;4−((4−(2−フルオロフェノキシ)−N−(3,3,3−トリフルオロプロピル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0520】
【0521】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C25b)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm2.35−2.65(m,2H)3.53−3.68(m,2H)4.60−4.78(m,2H)6.88−7.45(m,10H)8.06−8.13(m,2H)
MS ES
+:462
【0522】
実施例72:4−((4−(2−クロロフェノキシ)−N−(2,2,2−トリフルオロエチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0523】
【0524】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C40g)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm3.81−4.18(m,2H)4.84(br s,2H)6.88−7.57(m,10H)8.01−8.16(m,2H)
MS ES
+:464
【0525】
実施例73:4−((N−エチル−4−(o−トリルオキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0526】
【0527】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C40h)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm0.92−1.12(m,3H)2.11(s,3H)3.08−3.40(m,2H)4.46−4.78(m,2H)6.74−7.50(m,10H)7.82−7.93(m,2H)
MS ES
+:390
【0528】
実施例74:4−((N−(2,2−ジフルオロプロピル)−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0529】
【0530】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C25c)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm1.24−1.92(m,3H)3.36−4.08(m,2H)4.57−5.13(m,2H)6.79−7.58(m,10H)7.90−8.20(m,2H)
MS ES
+:444
【0531】
実施例75:4−((N−ブチル−4−(2−フルオロフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0532】
【0533】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C25d)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm0.66−1.77(m,7H)3.08−3.57(m,2H)4.49−4.93(m,2H)6.81−7.57(m,10H)8.04−8.18(m,2H)
MS ES
+:422
【0534】
実施例76:4−((4−(2−クロロフェノキシ)−N−エチルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0535】
【0536】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C40i)から生成した。
1HNMR(400MHz,DMSO−d
6)δppm0.78−1.23(m,3H)2.98−3.65(m,2H)4.40−4.82(m,2H)6.70−7.70(m,10H)7.77−8.01(m,2H)
MS ES
+:410
【0537】
実施例77:4−((N−(シクロプロピルメチル)−5−(2−フルオロフェノキシ)ピコリンアミド)メチル)安息香酸
【0538】
【0539】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C69)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm−0.06−0.25(m,2H)0.38−0.56(m,2H)0.77−1.33(m,1H)3.27−3.40(m,2H)4.99(s,2H)7.07−8.44(m,11H)
MS ES
+:421
【0540】
実施例78:4−((4−(2−クロロフェノキシ)−N−(2,2−ジフルオロエチル)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0541】
【0542】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C40j)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm3.59−3.81(m,2H)4.80(br s,2H)5.05−6.40(m,1H)6.81−7.53(m,10H)8.04−8.17(m,2H)
MS ES
+:446
【0543】
実施例79:4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−(5−フルオロ−2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0544】
【0545】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C67b)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δ−0.12−0.32(m,2H)0.41−0.58(m,2H)0.78−1.15(m,1H)3.02−3.52(m,2H)3.78(s,3H)4.68−5.08(m,2H)6.69−7.08(m,5H)7.19−7.58(m,4H)8.04−8.12(m,2H)
MS ES
+:450
【0546】
実施例80:4−((4−(4−フルオロ−2−メトキシフェノキシ)−N−プロピルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0547】
【0548】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C67a)から生成した。
1HNMR(300MHz,CDCl
3)δppm0.65−1.08(m,3H)1.47−1.74(m,2H)3.10−3.50(m,2H),3.77(s,3H)4.55−4.98(m,2H)6.58−7.58(m,9H)7.90−8.23(m,2H)
MS ES
+:438
【0549】
実施例81:4−((4−(5−フルオロ−2−メトキシフェノキシ)−N−プロピルベンズアミド)メチル)安息香酸
【0550】
【0551】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C67c)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm0.65−1.12(m,3H)1.40−1.84(m,2H)3.03−3.58(m,2H),3.78(s,3H)4.48−5.01(m,2H)6.67−7.12(m,5H)7.20−7.67(m,4H)8.00−8.22(m,2H)
MS ES
+:438
【0552】
実施例82:4−((N−(シクロプロピルメチル)−4−(3−フルオロ−2−メトキシフェノキシ)ベンズアミド)メチル)安息香酸
【0553】
【0554】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C67d)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δ−0.09−0.27(m,2H)0.42−0.58(m,2H)0.78−1.15(m,1H)3.03−3.55(m,2H)3.86(s,3H)4.70−5.08(m,2H)6.72−6.87(m,1H)6.87−7.08(m,4H)7.22−7.58(m,4H)8.03−8.12(m,2H)
MS ES
+:450
【0555】
実施例83:4−((N−(シクロプロピルメチル)−5−(2−フルオロフェノキシ)ピリミジン−2−カルボキシアミド)メチル)安息香酸
【0556】
【0557】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C72)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δ−0.06−0.20(m,2H)0.38−0.57(m,2H)0.91−1.14(m,1H)3.01−3.43(m,2H)4.64−5.06(m,2H),7.12−7.33(m,4H)7.40−7.53(m,2H)8.01−8.10(m,2H)8.38−8.57(m,2H)
MS ES
+:422
【0558】
実施例84:4−((N−(シクロプロピルメチル)−5−(2−メトキシフェノキシ)ピリミジン−2−カルボキシアミド)メチル)安息香酸
【0559】
【0560】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C73)から生成した。
1HNMR(300MHz,DMSO−d
6)δ−0.12−0.20(m,2H)0.26−0.42(m,2H)0.76−1.12(m,1H)2.82−3.30(m,2H)3.68−3.76(m,3H)4.35−4.79(m,2H),6.95−7.34(m,6H)7.69−7.82(m,2H)8.39−8.49(m,2H)
MS ES
+:434
【0561】
実施例85:4−((5−(2−メトキシフェノキシ)−N−プロピルピリミジン−2−カルボキシアミド)メチル)安息香酸
【0562】
【0563】
方法H1にて親物質のメチルエステル(中間体C74)から生成した。
1HNMR(400MHz,CDCl
3)δppm0.63−0.99(m,3H)1.48−1.77(m,2H)3.03−3.50(m,2H),3.71−3.86(m,3H)4.49−4.93(m,2H)6.93−7.53(m,6H)7.96−8.14(m,2H)8.28−8.52
MS ES
+:422
【0564】
3.本発明の化合物の生物学的有効性
【0565】
インビトロLPA5受容体試験
LPA5受容体がそのリガンド、オレオイル−L−α−リソホスファチジン酸(LPA)と結合すると、細胞内に蓄積されたカルシウムが細胞質に放出されるが、これはGqによるイノシトールトリホスフェイト(IP3)量の増加により調整される。Gqはヘテロ三量体Gタンパク質のサブユニットで、ホスホリパーゼCを活性化する。
【0566】
試験対象の化合物について、ヒトLPA5受容体を発現するRH7777細胞から蓄積カルシウムの細胞内放出がLPAにより引き起こされるのを防止する能力を、様々な試験対象化合物が存在下でLPAを有する細胞を刺激して試験対象化合物の拮抗作用、つまりインビトロでの活性を測定して評価した。
【0567】
通常培養培地(最小必須培地、10%ウシ胎児血清)に約1万個の細胞を、黒色クリア底でポリ−D−リジンでコーティングされた384ウェルプレート(Corning社)のアッセイウェル毎に播種した。細胞を30分常温で放置し、その後37℃5%CO
2の雰囲気で一晩培養した。播種から16時間から20時間後、培養培地を、1.25mMのプロベネシドを含むアッセイバッファ(1xハンクス平衡塩溶液、25mM HEPES 0.1%w/v無脂肪酸BSA(牛血清アルブミン)、pH7.4)と1×カルシウム5試薬(Molecular Deivces社)で置換してカルシウム感受性蛍光染料を細胞に添加した。細胞を37℃で1時間培養して染料を取り込ませた。
【0568】
拮抗剤作用を試験するため、最終的な濃度範囲0.32nM〜10μM(アッセイバッファで希釈)の試験対象の化合物をアッセイウェルに添加し、15分間培養させた。試験対象の化合物と共に培養させた後、アッセイプレートをFLIPRテトラシステム(Molecular Devices社)に配置し、LPA(アッセイバッファで希釈)を添加して、LPA5受容体に対するEC
90の測定値と同等の最終濃度に調製した。515〜575nM続いて470〜495nMにおける励起により変化した蛍光染料の測定値によりリガンド依存の細胞内カルシウム量を求めた。試験対象の化合物が無い状態の対照ウェルの測定値により、4パラメータカーブを当てはめるアルゴリズムを用いて阻害率カーブをプロットでき、またIC
50値を各化合物について算出することができた。
【0569】
結果
【0570】
インビボでのファルネシル二リン酸誘導の炎症モデル
ファルネシル二リン酸(FPP)は、LPA5受容体の内生リガンドであり、インビトロではEC
50が49nMであり、他のLPA受容体の3倍の選択力を有すると報告されている(Williamsら(2009),’Unique Ligand Selectivity of the GPR92/LPA5 Lysophosphatidate Receptor Indicates Role in Human Platelet Activations J Biol.Chem.,284(25):17304−17319)。FPPが誘導する痛覚過敏モデルは、LPA5受容体の作用薬であるFPPを後ろ足の足底に注射することで痛覚を誘導する薬力学ラットモデルである。LPA5受容体拮抗剤を事前投与するとFPP誘導の痛覚過敏症を防ぐことができる。
【0571】
成人のオスのラットの基準値測定を、ランダルセリット法(Randall-Selitto method)により後ろ足に与えた痛みを伴う圧力刺激に対する逃避閾値を評価することで求めた(Randall and Selitto(1957), 「A method for measurement of analgesic activity on inflamed tissue」. Arch Int Pharmacodyn Ther.,111(4):409−19)。その後、FPPの足底注射(32nMで100μm)の30分から120分前にこの動物に対して腹腔内(ip)または経口(po)で試験対象の化合物または食塩水ビヒクルを投与した。同じ側の足のFPP注射30〜90分御に逃避反応を再度評価した。
【0572】
結果
【0573】
インビトロLPA1受容体アッセイ
LPA1が、そのリガンドであるオレオイル−L−α−リゾホスファチジン酸(LPA)と結合すると、細胞内に蓄積されたカルシウムが細胞質に放出される、これはGqによるイノシトールトリホスフェイト(IP3)量の増加により調製される。Gqはヘテロ三量体Gタンパク質のサブユニットで、ホスホリパーゼCを活性化する。
【0574】
試験対象の化合物について、ヒトLPA1受容体を発現するRH7777細胞から蓄積カルシウムの細胞内放出がLPAにより引き起こされるのを防止する能力を、様々な試験対象化合物が存在する状態でLPAを有する細胞を刺激して試験対象化合物の拮抗作用、つまりビトロでの活性を測定して評価した。
【0575】
通常培養培地(ダルベッコ改変イーグル培地、10%ウシ胎児血清)に約1万個の細胞を、黒色クリア底でポリ−D−リジンでコーティングされた384ウェルプレート(Beckton Dickinson社)のアッセイウェル毎に播種した。細胞を30分常温で放置し、その後37℃5%CO
2の雰囲気で一晩培養した。播種から16時間から20時間後、培養培地を、1.25mMのプロベネシドを含むアッセイバッファ(1×ハンクス平衡塩溶液、25mM HEPES 0.1%w/v無脂肪酸BSA(牛血清アルブミン)、pH7.4)と1×カルシウム5試薬(Molecular Deivces社)で置換してカルシウム感受性蛍光染料を細胞に添加した。細胞を37℃で1時間培養して染料を取り込ませた。
【0576】
拮抗剤作用を試験するため、最終的な濃度範囲0.32nM〜10μM(アッセイバッファで希釈)の試験対象の化合物をアッセイウェルに添加し、25分間培養させた。試験対象の化合物と共に培養させた後、アッセイプレートをFLIPRテトラシステム(Molecular Devices社)に配置し、LPA(アッセイバッファで希釈)を添加して、LPA1受容体に対するEC
80の測定値と同等の最終濃度に調製した。515〜575nM続いて470〜495nMにおける励起により変化した蛍光染料の測定値によりリガンド依存の細胞内カルシウム量を求めた。試験対象の化合物が無い状態の対照ウェルの測定値により、4パラメータカーブを当てはめるアルゴリズムを用いて阻害率カーブをプロットでき、またIC
50値を各化合物について算出することができた。
【0577】
【0578】
インビボでのブレオマイシン誘導の強皮症モデル
【0579】
実験概要
成人のオスのC57BL/6マウス(8〜10週齢)を群に割当て、1週間順応させた。一日前にマウスの背中の皮を剃った。0日目よりマウスにブレオマイシン硫酸塩を溶解したリン酸緩衝食塩水(PBS)溶液(1mg/ml)100μLを、剃った皮膚に皮内注射で投与した。注射は、4週間一日おきに1平方センチメートル内で繰り返した。10匹のマウスの群(対照群)には同量のPBSを注射した。治療は下記の表に示した投与計画に則り行われた。0日目の実験開始時にマウスの体重を測定し、実験中週2回体重を測定した。実験の終了時、28日目には、マウスを処分し、背中の皮をの試料を更に分析した。全ての群はn=10であり、ビヒクルは蒸留水で投与量は強制飼養(経口)にて10ml/kgであった。局所塗布では投与量は25μlであった。
【0580】
結果
体重を標準誤差(SEM)と共にグラフにした。皮膚試料(各マウスにつき2枚の生体試料、各直径4mm)を加水分解し、試料のヒドロキシプロリン含有量を、連続フロー分析器を使用した半自動プロセスの分析で測定した。自動分析器の測定値をヒドロキシプロリン対照をと算出したコラーゲン含有量に対して調整した。体重の減少が、実施例5を投与された群で見られたが、ビヒクルを投与された群の体重の減少と変わりはなかった。ブレオマイシンの投与では、10%未満の体重の減少が見られた。ブレオマイシン投与は、対照や食塩水を投与した群と比較して皮膚コラーゲン含有量の非常に大きな増加を引き起こした(p<0.01)。イマチニブとベタメタゾン0.1%は、賦形剤を投与した群と比較して、皮膚コラーゲン含有量の顕著な減少を引き起こした(p<0.05)。0日目および14日目から投与された実施例5の化合物は、ビヒクルを投与された群と比較して皮膚コラーゲン含有量の非常に大きな増加を引き起こした(p<0.01)。プロトピック0.1%は、賦形剤を投与した群と比較して、皮膚コラーゲン含有量の非常に顕著な減少を引き起こした(p<0.001)。よって、実施例5の化合物は、コラーゲンの皮膚含有量の測定値としての抗線維症効果をインビボのブレオマイシン誘導強皮症モデルにて示した。