特表2016-541120損傷を受けた低誘電率膜のポア封止のためのＵＶ支援光化学気相堆積

発明の名称　損傷を受けた低誘電率膜のポア封止のためのＵＶ支援光化学気相堆積

出願人　アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド　（識別番号 390040660）

　　　　特許公開件数ランキング 43 位（558件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 34 位（556件）（共同出願を含む）

公報番号　特表-2016-541120

公報発行日　2016年12月28

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-T-2016-541120

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