特表2019-521471(P2019-521471A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特表2019-521471窒素イオン注入においてイオン源性能を改善するためのフッ素化組成物
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  • 特表2019521471-窒素イオン注入においてイオン源性能を改善するためのフッ素化組成物 図000005
  • 特表2019521471-窒素イオン注入においてイオン源性能を改善するためのフッ素化組成物 図000006
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