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ＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ商標一覧

2024年11月25日更新

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商標ランキング2016年 108位(2件) 　前年 103位(7件)
総区分数2区分1商標あたりの平均区分数1区分
類似群コード最頻出09A01... (出現率100%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ－
指定商品・指定役務総数141商標あたりの平均数7
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位アプ (出現率100%)
1位オリ (出現率100%)
2位アル (出現率50%)
2位エイ (出現率50%)
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位アア (出現率100%)
1位アド (出現率100%)
1位オア (出現率100%)
2位アイ (出現率50%)
2位エイ (出現率50%)
2位オイ (出現率50%)

ＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ2016年の商標登録

2件
直近の商標登録(2024年11月25日発行公報)：商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務		 類似群コード
登録5871540
登録日：2016年8月5日
商標ランキング 出願から11ヵ月
出願日：2015年9月16日
商願2015-89811
 商標登録5871540
アプライドオリンピア
アプライド
オリンピア
 7類
集積回路・半導体基板・薄膜・シリコンディスク・シリコンウェハーの加工・製造用の機械器具 半導体製造用研磨装置・半導体製造用洗浄装置・半導体製造用処理モニタリング装置及び半導体製造用半導体計測装置を含む半導体基板・半導体基板上に形成される薄膜・シリコンディスク及びシリコンウェハの処理及び製造のための装置及び機械 半導体製造装置 半導体・液晶製造用研磨加工装置 高圧表面洗浄機 続く…
09A01(第7類) 09A02(第7類) 09A05(第7類) 09A06(第7類) 09A07(第7類) 続く
登録5871539
登録日：2016年8月5日
商標ランキング 出願から11ヵ月
出願日：2015年9月16日
商願2015-89810
 商標登録5871539
アプライドオリンピアエイエルデイ
アプライドオリンピア
アプライド
オリンピアエイエルデイ
オリンピア
続く…
7類
集積回路・半導体基板・薄膜・シリコンディスク・シリコンウェハーの加工・製造用の機械器具 半導体製造用研磨装置・半導体製造用洗浄装置・半導体製造用処理モニタリング装置及び半導体製造用半導体計測装置を含む半導体基板・半導体基板上に形成される薄膜・シリコンディスク及びシリコンウェハの処理及び製造のための装置及び機械 半導体製造装置 半導体・液晶製造用研磨加工装置 高圧表面洗浄機 続く…
09A01(第7類) 09A02(第7類) 09A05(第7類) 09A06(第7類) 09A07(第7類) 続く

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