発明の名称 リソグラフィ装置のレチクル冷却システム
出願人 エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. (識別番号 503195263)
特許公開件数ランキング 13870 位(0件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 3848 位(2件)(共同出願を含む)
出願人 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. (識別番号 504151804)
特許公開件数ランキング 168 位(60件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 263 位(33件)(共同出願を含む)
公報番号 特開-2016-212363
公報発行日 2016年12月15
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-A-2016-212363
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