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特開2017-224000リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明の名称 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
出願人 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． （識別番号 504151804）
特許公開件数ランキング 166 位（61件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 263 位（33件）（共同出願を含む）
出願人 エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ． （識別番号 503195263）
特許公開件数ランキング 13975 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 3848 位（2件）（共同出願を含む）
公報番号 特開-2017-224000
公報発行日 2017年12月21
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-A-2017-224000
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