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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2022128804
(43)【公開日】2022-09-05
(54)【発明の名称】ジャガイモシロシストセンチュウ防除剤
(51)【国際特許分類】
A01N 43/40 20060101AFI20220829BHJP
A01P 5/00 20060101ALI20220829BHJP
A01N 43/18 20060101ALI20220829BHJP
A01N 43/08 20060101ALI20220829BHJP
A01N 43/10 20060101ALI20220829BHJP
A01N 43/80 20060101ALI20220829BHJP
A01N 43/38 20060101ALI20220829BHJP
A01M 1/00 20060101ALI20220829BHJP
【ＦＩ】
A01N43/40 101Q
A01P5/00
A01N43/18 B
A01N43/08 H
A01N43/10 H
A01N43/80 102
A01N43/38
A01M1/00 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】14
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021027228
(22)【出願日】2021-02-24
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＴＷＥＥＮ
【国等の委託研究の成果に係る記載事項】（出願人による申告）国立研究開発法人農業・食品産業技術総合研究機構生物系特定産業技術研究支援センター「革新的技術開発・緊急展開事業（うち先導プロジェクト）」、産業技術力強化法第１７条の適用を受ける特許出願
(71)【出願人】
【識別番号】501203344
【氏名又は名称】国立研究開発法人農業・食品産業技術総合研究機構
(71)【出願人】
【識別番号】504173471
【氏名又は名称】国立大学法人北海道大学
(71)【出願人】
【識別番号】000004307
【氏名又は名称】日本曹達株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100107984
【弁理士】
【氏名又は名称】廣田 雅紀
(74)【代理人】
【識別番号】100182305
【弁理士】
【氏名又は名称】廣田 鉄平
(74)【代理人】
【識別番号】100096482
【弁理士】
【氏名又は名称】東海 裕作
(74)【代理人】
【識別番号】100131093
【弁理士】
【氏名又は名称】堀内 真
(74)【代理人】
【識別番号】100150902
【弁理士】
【氏名又は名称】山内 正子
(74)【代理人】
【識別番号】100141391
【弁理士】
【氏名又は名称】園元 修一
(74)【代理人】
【識別番号】100221958
【弁理士】
【氏名又は名称】篠田 真希恵
(74)【代理人】
【識別番号】100192441
【弁理士】
【氏名又は名称】渡辺 仁
(72)【発明者】
【氏名】串田 篤彦
(72)【発明者】
【氏名】坂田 至
(72)【発明者】
【氏名】谷野 圭持
(72)【発明者】
【氏名】加藤 港介
(72)【発明者】
【氏名】板橋 拓也
(72)【発明者】
【氏名】金澤 潤
(72)【発明者】
【氏名】池田 祐人
(72)【発明者】
【氏名】北山 卓
(72)【発明者】
【氏名】小泉 聡
(72)【発明者】
【氏名】大沢 陽子
(72)【発明者】
【氏名】井上 勉
【テーマコード（参考）】
2B121
4H011
【Ｆターム（参考）】
2B121CC29
2B121CC31
2B121EA26
2B121FA15
2B121FA16
4H011AC01
4H011BB08
4H011BB09
4H011BB10
(57)【要約】 （修正有）
【課題】工業的に容易に入手可能な、ジャガイモシロシストセンチュウ卵に対するふ化促進物質、これを用いた防除剤、および防除方法を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される化合物を有効成分として含有する、ジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
［式中、Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基等；Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基等；Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基；部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基等；Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子；Ｒｂは水素原子等；ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し；**はＺとの結合位置を示し；Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示す］
【選択図】なし
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される化合物を有効成分として含有する、ジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
［式中、Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基等；Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基等；Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基；部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基等；Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子；Ｒｂは水素原子等；ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し；**はＺとの結合位置を示し；Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示す］
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記式（Ｉ）で表される化合物、その立体異性体、及びそれらの塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有するジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
［式中、
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺとの結合位置を示し；
Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｒｂは、水素原子、水酸基、Ｒｂ１－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、またはＲｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基を示し；
Ｒｂ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示し；
Ｚが、置換のメチレン基である場合、Ｒ２とメチレン基上の置換基は一緒になって、単結合、またはメチレン基を形成してもよい。］
【化1】
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺとの結合位置を示し；
Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｒｂは、水素原子、水酸基、Ｒｂ１－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、またはＲｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基を示し；
Ｒｂ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示し；
Ｚが、置換のメチレン基である場合、Ｒ２とメチレン基上の置換基は一緒になって、単結合、またはメチレン基を形成してもよい。］
【請求項2】
式（Ｉ）中のＺが、置換若しくは無置換のメチレン基である、請求項１に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
【請求項3】
式（Ｉ）中のＺが、置換若しくは無置換のジメチレン基である、請求項１に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
【請求項4】
式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基である、請求項１に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
【請求項5】
式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基である、請求項１に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
【請求項6】
式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基である、請求項１に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
【請求項7】
式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｓ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、*－Ｎ(ＯＨ)－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、または*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｓ)－**で表される基である、請求項２に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
【請求項8】
式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、または*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基である、請求項２に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
【請求項9】
下記式（Ｉ）で表される化合物、その立体異性体及びそれらの塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有するジャガイモシロシストセンチュウ卵のふ化促進剤。
［式中、
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺとの結合位置を示し；
Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｒｂは、水素原子、水酸基、Ｒｂ１－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、またはＲｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基を示し；
Ｒｂ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示し；
Ｚが、置換のメチレン基である場合、Ｒ２とメチレン基上の置換基は一緒になって、単結合、またはメチレン基を形成してもよい。］
【化2】
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺとの結合位置を示し；
Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｒｂは、水素原子、水酸基、Ｒｂ１－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、またはＲｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基を示し；
Ｒｂ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示し；
Ｚが、置換のメチレン基である場合、Ｒ２とメチレン基上の置換基は一緒になって、単結合、またはメチレン基を形成してもよい。］
【請求項10】
ジャガイモシロシストセンチュウを防除する方法であって、請求項１～９のいずれかに記載の防除剤またはふ化促進剤を、ジャガイモシロシストセンチュウが生息する畑土壌に施用する工程を含む、ジャガイモシロシストセンチュウを防除する方法。
【請求項11】
下記式（Ｉ－ａ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩。
［式中、
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙａ－Ｘａ－は、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基、または*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺａとの結合位置を示し；
Ｘ１ａは、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｚａは、置換若しくは無置換のジメチレン基を示す。］
【化3】
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙａ－Ｘａ－は、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基、または*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺａとの結合位置を示し；
Ｘ１ａは、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｚａは、置換若しくは無置換のジメチレン基を示す。］
【請求項12】
下記式（Ｉ－ｂ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩。
［式中、
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙｂ－Ｘｂ－は、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｓ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺｂとの結合位置を示し；
Ｚｂは、置換若しくは無置換のメチレン基を示す。］
【化4】
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙｂ－Ｘｂ－は、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｓ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺｂとの結合位置を示し；
Ｚｂは、置換若しくは無置換のメチレン基を示す。］
【請求項13】
下記式（Ｉ－ｃ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩。
［式中、
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｘ１は、酸素原子または硫黄原子を示す。］
【化5】
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｘ１は、酸素原子または硫黄原子を示す。］
【請求項14】
比旋光度が（－）である５，５－ジメチル－４－フェニル－２－ピロリジノン、比旋光度が（－）である５，５－ジメチル－４－（４－メチルフェニル）－２－ピロリジノン、比旋光度が（－）である５，５－ジメチル－４－（４－クロロフェニル）－２－ピロリジノン、または比旋光度が（－）である４－（４－クロロフェニル）－３，３－ジメチルイソチアゾリジン－１，１－ジオキシドのいずれか１以上を有効成分として含有するジャガイモシロシストセンチュウのふ化促進剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ジャガイモシロシストセンチュウ防除剤に関する。具体的には、ジャガイモシロシストセンチュウ卵のふ化を誘引する効果を有するラクトン、ラクタム類を用いて、自殺的ふ化を誘発し、ジャガイモシロシストセンチュウの密度低減を可能とする、ジャガイモシロシストセンチュウ防除剤に関する。
【背景技術】
【0002】
ジャガイモに寄生するシストセンチュウ類、特にジャガイモシロシストセンチュウ（Ｇｌｏｂｏｄｅｒａ ｐａｌｌiｄａ）（以下「Ｇｐ」と言うことがある。）は、ジャガイモの世界的な主要害虫である。Ｇｐはジャガイモの根に寄生して収穫量を減少させることによって、毎年多額の損失を引き起こしている。
Ｇｐの卵は、シストと呼ばれる殻の中に１００～４００個密集して内蔵・保護され、低温や乾燥に対して高度の耐性を有する。そのためシスト中の卵はふ化しなければ十数年間の長期にわたって土壌中で生存し続ける。圃場にジャガイモが植えられると、ジャガイモの根から分泌される特定の化学物質（ふ化促進物質）に鋭敏に反応して卵は一斉に孵化し、孵化したＧｐの幼虫はシストから抜け出てジャガイモの根に寄生して被害を発生させる。
根から養分を吸収して肥大・成長したＧｐの雌は自らの体内に産卵して一生を終え、ジャガイモの根に付着したままシストに変化する。シストはジャガイモの収穫時に根から離れて土壌中に残る。土壌中にシストを残したまま、次のジャガイモを植えると、そのジャガイモも被害を受けることになる。
Ｇｐの卵は、シストと呼ばれる殻の中に１００～４００個密集して内蔵・保護され、低温や乾燥に対して高度の耐性を有する。そのためシスト中の卵はふ化しなければ十数年間の長期にわたって土壌中で生存し続ける。圃場にジャガイモが植えられると、ジャガイモの根から分泌される特定の化学物質（ふ化促進物質）に鋭敏に反応して卵は一斉に孵化し、孵化したＧｐの幼虫はシストから抜け出てジャガイモの根に寄生して被害を発生させる。
根から養分を吸収して肥大・成長したＧｐの雌は自らの体内に産卵して一生を終え、ジャガイモの根に付着したままシストに変化する。シストはジャガイモの収穫時に根から離れて土壌中に残る。土壌中にシストを残したまま、次のジャガイモを植えると、そのジャガイモも被害を受けることになる。
【0003】
Ｇｐの防除法としては、（１）農薬の施用、（２）ナス科捕獲作物（トマトやハリナスビなど）の栽培や（３）抵抗性ジャガイモの栽培、がある。
（１）Ｇｐの密度低減に有効性が確認されている農薬は１，３－ジクロロプロペンを主成分とするＤ－Ｄ剤であるが、Ｄ－Ｄ剤は劇物に指定され刺激性と毒性があるため、土壌や周辺環境、作業者の健康への悪影響が懸念されている。本剤は有害なシストセンチュウだけでなく、土壌中の様々なセンチュウ、微小生物を無作為に殺すため、特に生物環境への影響は甚大である。
（２）ナス科捕獲作物はその根からふ化促進物質を分泌するので、畑土壌中のＧｐシストに含まれる卵がふ化し、幼虫が根に侵入・寄生するが、ナス科捕獲作物からはＧｐの成育に十分な栄養を摂取することができずにそのほとんどが成虫に至る前に死滅する。これによって畑土壌中のＧｐ密度が減少する。但し、ナス科捕獲作物の栽培期間中はその畑で商品価値のある作物が栽培できなくなる。
（３）Ｇｐ抵抗性ジャガイモは、一般的なジャガイモと同じようにその根からふ化促進物質を分泌するが、その抵抗性により寄生した幼虫の成育を阻害し、その多くを死亡させる。このため、Ｇｐシストに汚染された圃場でＧｐ抵抗性ジャガイモを栽培すれば、（２）と同じようにＧｐ密度は減少し、この場合はジャガイモも収穫できる。但し、ジャガイモに高度な抵抗性を付与するには複数の抵抗性遺伝子を集積させる必要があるため、多くの時間と手間がかかる。このため、利用できるＧｐ抵抗性ジャガイモの品種はごく僅かしかなく、適宜に好ましい品質のジャガイモ品種が栽培できない。また、ジャガイモのＧｐ抵抗性はいずれ打破され、打破系統のＧｐが顕在化することが確認されていることから、その活用には慎重さが求められる。
したがって、（１）～（３）のいずれの方法にも問題がある。
（１）Ｇｐの密度低減に有効性が確認されている農薬は１，３－ジクロロプロペンを主成分とするＤ－Ｄ剤であるが、Ｄ－Ｄ剤は劇物に指定され刺激性と毒性があるため、土壌や周辺環境、作業者の健康への悪影響が懸念されている。本剤は有害なシストセンチュウだけでなく、土壌中の様々なセンチュウ、微小生物を無作為に殺すため、特に生物環境への影響は甚大である。
（２）ナス科捕獲作物はその根からふ化促進物質を分泌するので、畑土壌中のＧｐシストに含まれる卵がふ化し、幼虫が根に侵入・寄生するが、ナス科捕獲作物からはＧｐの成育に十分な栄養を摂取することができずにそのほとんどが成虫に至る前に死滅する。これによって畑土壌中のＧｐ密度が減少する。但し、ナス科捕獲作物の栽培期間中はその畑で商品価値のある作物が栽培できなくなる。
（３）Ｇｐ抵抗性ジャガイモは、一般的なジャガイモと同じようにその根からふ化促進物質を分泌するが、その抵抗性により寄生した幼虫の成育を阻害し、その多くを死亡させる。このため、Ｇｐシストに汚染された圃場でＧｐ抵抗性ジャガイモを栽培すれば、（２）と同じようにＧｐ密度は減少し、この場合はジャガイモも収穫できる。但し、ジャガイモに高度な抵抗性を付与するには複数の抵抗性遺伝子を集積させる必要があるため、多くの時間と手間がかかる。このため、利用できるＧｐ抵抗性ジャガイモの品種はごく僅かしかなく、適宜に好ましい品質のジャガイモ品種が栽培できない。また、ジャガイモのＧｐ抵抗性はいずれ打破され、打破系統のＧｐが顕在化することが確認されていることから、その活用には慎重さが求められる。
したがって、（１）～（３）のいずれの方法にも問題がある。
【0004】
（４）天然物由来のふ化促進物質をジャガイモが栽培されていない時期にＧｐ汚染圃場に散布することにより、Ｇｐ卵をふ化させ、餓死させることによって防除する方法が提案されている。天然物由来のふ化促進物質として、ソラノエクレピンＡ（Solanoeclepin A）が知られている（特許文献１）。ソラノエクレピンＡは、ジャガイモの水耕栽培液から単離されたトリシクロデカン構造を有する化合物である。構造は不明であるが、ジャガイモまたはトマトの根の浸出物から単離したふ化促進物質も知られている（特許文献２）。前記のような天然物由来のふ化促進物質を、ナス科植物の根、または、それから作出したカルスや毛状根等からも得ることが可能である。しかし、いずれの方法によっても得られるふ化促進物質は僅かであり、実用化のための必要量確保が困難である。このため、天然物由来のふ化促進物質による実用的なＧｐの防除方法は開発されていない。
（５）非天然物や無機物のＧｐ卵のふ化促進物質が報告されている（非特許文献１）。具体的には、ピクロロン酸、メタバナジン酸ナトリウム、オルトバナジウム酸ナトリウム、チオシアン酸ナトリウムが天然のふ化促進物質に対して、それぞれ約３０、７０、６０、３０％のふ化活性を発現することを開示している。しかし、これらのふ化促進物質は、ふ化活性が不十分であったり、有害物質であったりすることから実用化は困難である。
（６）天然物由来と非天然物由来のふ化促進物質を混合して使用する方法（特許文献３）も提案されている。具合的には、４－ヒドロキシベンジルアルコールとジャガイモ根浸出物（ＰＲＤ）の混合物のＧｐ卵のふ化率が６０％（コントロールは１０％）であることを開示している。しかし、ふ化活性が不十分であり、実用化には問題がある。
（５）非天然物や無機物のＧｐ卵のふ化促進物質が報告されている（非特許文献１）。具体的には、ピクロロン酸、メタバナジン酸ナトリウム、オルトバナジウム酸ナトリウム、チオシアン酸ナトリウムが天然のふ化促進物質に対して、それぞれ約３０、７０、６０、３０％のふ化活性を発現することを開示している。しかし、これらのふ化促進物質は、ふ化活性が不十分であったり、有害物質であったりすることから実用化は困難である。
（６）天然物由来と非天然物由来のふ化促進物質を混合して使用する方法（特許文献３）も提案されている。具合的には、４－ヒドロキシベンジルアルコールとジャガイモ根浸出物（ＰＲＤ）の混合物のＧｐ卵のふ化率が６０％（コントロールは１０％）であることを開示している。しかし、ふ化活性が不十分であり、実用化には問題がある。
【0005】
ところで、（化合物１）５，５－ジメチル－４－フェニル－２－ピロリジノン（CAS：20894-20-6）、（化合物２）５，５－ジメチル－４－（４－メチルフェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1477653-30-7）、（化合物３）５，５－ジメチル－４－（４－クロロフェニル）－２－ピロリジノン（CAS：36263-12-4）、（化合物４）５，５－ジメチル－４－（４－ブロモフェニル）－２－ピロリジノン（CAS：2423033-43-4）、（化合物５）１－ヒドロキシ－５，５－ジメチル－４－フェニル－２－ピロリジノン（CAS：22307-02-4）などの４－アリール－２－ピロリジノン類が、文献公知化合物として存在する（非特許文献２、３）。
また、（化合物６）５，５－ジメチル－４－（４－メトキシフェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1493722-32-9）、（化合物７）５，５－ジメチル－４－（４－トリフルオロメチルフェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1467865-26-4）、（化合物８）５，５－ジメチル－４－（４－フルオロフェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1495515-81-5）、（化合物９）５，５－ジメチル－４－（３－メチルフェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1480195-09-2）、（化合物１０）５，５－ジメチル－４－（２－メチルフェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1466249-92-2）、（化合物１１）５，５－ジメチル－４－（２，５－ジメチル－フェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1469103-51-2）、（化合物１２）５，５－ジメチル－４－（３，４－ジフルオロ－フェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1472745-56-4）、（化合物１３）５，５－ジメチル－４－（３，４，５－トリフルオロ－フェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1484547-30-9）、（化合物１４）５，５－ジメチル－４－（２，４－ジメチル－フェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1488690-56-7）などが市販されている。
（化合物１５）３，５，５－トリメチル－４－フェニル－２－ピロリジノン（CAS：2003396-63-0）は、ＣＡＳレジストリに登録される化合物である。
これらの４－アリール－２－ピロリジノン類の生理作用は不明である。
また、（化合物６）５，５－ジメチル－４－（４－メトキシフェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1493722-32-9）、（化合物７）５，５－ジメチル－４－（４－トリフルオロメチルフェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1467865-26-4）、（化合物８）５，５－ジメチル－４－（４－フルオロフェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1495515-81-5）、（化合物９）５，５－ジメチル－４－（３－メチルフェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1480195-09-2）、（化合物１０）５，５－ジメチル－４－（２－メチルフェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1466249-92-2）、（化合物１１）５，５－ジメチル－４－（２，５－ジメチル－フェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1469103-51-2）、（化合物１２）５，５－ジメチル－４－（３，４－ジフルオロ－フェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1472745-56-4）、（化合物１３）５，５－ジメチル－４－（３，４，５－トリフルオロ－フェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1484547-30-9）、（化合物１４）５，５－ジメチル－４－（２，４－ジメチル－フェニル）－２－ピロリジノン（CAS：1488690-56-7）などが市販されている。
（化合物１５）３，５，５－トリメチル－４－フェニル－２－ピロリジノン（CAS：2003396-63-0）は、ＣＡＳレジストリに登録される化合物である。
これらの４－アリール－２－ピロリジノン類の生理作用は不明である。
【0006】
（化合物１６）５，５－ジメチル－４－フェニルピロリジン－２－チオン（CAS：35418-39-4）も文献公知化合物として存在する。その生理作用は不明である（非特許文献４）。
【0007】
（化合物１７）５，５－ジメチル－４－フェニルジヒドロフラン－２（３H)－オン（CAS：13133-96-5）、（化合物１８）５，５－ジメチル－４－（ｐ－トリル）ジヒドロフラン－２（３Ｈ）－オン（CAS：63507-01-7）、（化合物１９）４－（４－フルオロフェニル）－５，５－ジメチルジヒドロフラン－２（３Ｈ）－オン（CAS：245487-39-2）、（化合物２０）５，５－ジメチル－４－（ｏ－トリル）ジヒドロフラン－２（３Ｈ）－オン（CAS：73689-82-4）などの４－アリール－ジヒドロフラン－２（３Ｈ）－オン類が、文献公知化合物として存在する（非特許文献５～７）。
化合物１７については、血管拡張剤、鎮痙剤のひとつパパベリン様の活性があることや（非特許文献６）、炎症阻害剤（Inflammation Inhibitor）であること（非特許文献７）が述べられている。
（化合物２１）３，３－ジメチル－４－フェニル－シクロペンタノン（CAS：22273-76-3）が文献公知化合物として存在する（非特許文献８）。
化合物１７については、血管拡張剤、鎮痙剤のひとつパパベリン様の活性があることや（非特許文献６）、炎症阻害剤（Inflammation Inhibitor）であること（非特許文献７）が述べられている。
（化合物２１）３，３－ジメチル－４－フェニル－シクロペンタノン（CAS：22273-76-3）が文献公知化合物として存在する（非特許文献８）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0008】
【特許文献1】ＷＯ９３／０２０８３Ａ１
【特許文献2】ＷＯ９９／５９４１４
【特許文献3】ＷＯ２０１９／０３２５４９Ａ１
【非特許文献】
【0009】
【非特許文献1】Journal of Nematology, Volume: 33, Issue: 4, Pages: 195-202, 2001
【非特許文献2】Journal of the American Chemical Society, Volume: 142, Issue: 19, Pages: 8672-8681, 2020
【非特許文献3】Australian Journal of Chemistry, Volume: 41, Issue: 1, Pages: 37-47, 1988
【非特許文献4】Australian Journal of Chemistry, Volume: 26, Issue: 10, Pages: 2177-82, 1973
【非特許文献5】Journal of the American Chemical Society, Volume: 121, Issue: 33, Pages: 7708-7709, 1999
【非特許文献6】Praktikates Akademias Athenon, Volume Date: 1982, Volume: 57, Pages: 515-28, 1983
【非特許文献7】European Journal of Medicinal Chemistry, Volume: 12, Issue: 1, Pages: 9-11, 1977
【非特許文献8】Tetrahedron Letters, Issue: 9, Pages: 749-52, 1969
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
Ｇｐの防除方法に関する先行技術において、（１）の農薬による方法は環境破壊や、耕地環境、水産資源等へ悪影響が及ぶことに対する懸念が大きく、ジャガイモの主要輸出国では使用が限定あるいは規制されている。（２）のナス科捕獲作物を栽培する方法は、商業的なデメリットがあり、（３）のＧｐ抵抗性ジャガイモ品種の栽培は、打破系統顕在化の懸念があるため連続的な作付けは避けなければならない。（４）～（６）のふ化促進物質を土壌に施用してＧｐ卵の自殺的ふ化を促して殺減する方法は、天然物由来のふ化促進物質を用いればふ化活性は高く効果は高いがふ化促進物質の量が確保できず、非天然物由来や無機物のふ化促進物質ではふ化活性が乏しく効果は期待できず、いずれも実用化は程遠い。
【0011】
しかし、ふ化促進物質によってＧｐを防除する方法は、直接的な殺生物活性はないうえ、Ｇｐだけに作用し、他の生物に対して悪影響が想定されないことから、環境保全、散布者の安全性確保等の面で極めて秀でている。また、ジャガイモが栽培されない輪作期間中であれば、処理時期を自由に選べ、生産活動を邪魔しない利点がある。
したがって、本発明の課題は、工業的に容易に入手可能な、Ｇｐ卵に対するふ化促進物質、これを用いた防除剤、および防除方法を提供することにある。
したがって、本発明の課題は、工業的に容易に入手可能な、Ｇｐ卵に対するふ化促進物質、これを用いた防除剤、および防除方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0012】
式（Ｉ）の化合物が、公知の非天然物由来や無機物のふ化促進物質と比較してＧｐ卵に対して極めて高いふ化促進作用を発現することが認められた。すなわち、本発明は以下の形態を包含する。
〔１〕 下記式（Ｉ）で表される化合物、その立体異性体及びそれらの塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有するジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
〔１〕 下記式（Ｉ）で表される化合物、その立体異性体及びそれらの塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有するジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
【0013】
【化1】
【0014】
［式中、
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺとの結合位置を示し；
Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｒｂは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、Ｒｂ１－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、またはＲｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基を示し；
Ｒｂ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示し；
Ｚが、置換のメチレン基である場合、Ｒ２とメチレン基上の置換基は一緒になって、単結合、またはメチレン基を形成してもよい。］
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺとの結合位置を示し；
Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｒｂは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、Ｒｂ１－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、またはＲｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基を示し；
Ｒｂ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示し；
Ｚが、置換のメチレン基である場合、Ｒ２とメチレン基上の置換基は一緒になって、単結合、またはメチレン基を形成してもよい。］
【0015】
〔２〕 式（Ｉ）中のＺが、置換若しくは無置換のメチレン基である、〔１〕に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
〔３〕 式（Ｉ）中のＺが、置換若しくは無置換のジメチレン基である、〔１〕に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
〔４〕 式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基である、〔１〕に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
〔５〕 式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基である、〔１〕に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
〔６〕 式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基である、〔１〕に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
〔７〕 式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｓ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、*－Ｎ(ＯＨ)－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、または*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｓ)－**で表される基である、〔２〕に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
〔８〕 式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、または*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基である、〔２〕に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
〔３〕 式（Ｉ）中のＺが、置換若しくは無置換のジメチレン基である、〔１〕に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
〔４〕 式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基である、〔１〕に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
〔５〕 式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基である、〔１〕に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
〔６〕 式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基である、〔１〕に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
〔７〕 式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｓ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、*－Ｎ(ＯＨ)－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、または*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｓ)－**で表される基である、〔２〕に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
〔８〕 式（Ｉ）中の部分構造の－Ｙ－Ｘ－が、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、または*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基である、〔２〕に記載のジャガイモシロシストセンチュウ防除剤。
【0016】
〔９〕 下記式（Ｉ）で表される化合物、その立体異性体及びそれらの塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有するジャガイモシロシストセンチュウ卵のふ化促進剤。
【0017】
【化2】
【0018】
［式中、
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺとの結合位置を示し；
Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｒｂは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、Ｒｂ１－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、またはＲｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基を示し；
Ｒｂ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示し；
Ｚが、置換のメチレン基である場合、Ｒ２とメチレン基上の置換基は一緒になって、単結合、またはメチレン基を形成してもよい。］
〔１０〕 ジャガイモシロシストセンチュウを防除する方法であって、〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の防除剤またはふ化促進剤を、ジャガイモシロシストセンチュウが生息する畑土壌に施用する工程を含む、ジャガイモシロシストセンチュウを防除する方法。
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺとの結合位置を示し；
Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｒｂは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、Ｒｂ１－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、またはＲｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基を示し；
Ｒｂ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示し；
Ｚが、置換のメチレン基である場合、Ｒ２とメチレン基上の置換基は一緒になって、単結合、またはメチレン基を形成してもよい。］
〔１０〕 ジャガイモシロシストセンチュウを防除する方法であって、〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の防除剤またはふ化促進剤を、ジャガイモシロシストセンチュウが生息する畑土壌に施用する工程を含む、ジャガイモシロシストセンチュウを防除する方法。
【0019】
〔１１〕 下記式（Ｉ－ａ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩。
【0020】
【化3】
【0021】
［式中、
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙａ－Ｘａ－は、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基、または*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺａとの結合位置を示し；
Ｘ１ａは、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｚａは、置換若しくは無置換のジメチレン基を示す。］
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙａ－Ｘａ－は、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基、または*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺａとの結合位置を示し；
Ｘ１ａは、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｚａは、置換若しくは無置換のジメチレン基を示す。］
【0022】
〔１２〕 下記式（Ｉ－ｂ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩。
【0023】
【化4】
【0024】
［式中、
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙｂ－Ｘｂ－は、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｓ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺｂとの結合位置を示し；
Ｚｂは、置換若しくは無置換のメチレン基を示す。］
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙｂ－Ｘｂ－は、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｓ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺｂとの結合位置を示し；
Ｚｂは、置換若しくは無置換のメチレン基を示す。］
【0025】
〔１３〕 下記式（Ｉ－ｃ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩。
【0026】
【化5】
【0027】
［式中、
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｘ１は、酸素原子または硫黄原子を示す。］
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｘ１は、酸素原子または硫黄原子を示す。］
【0028】
〔１４〕 比旋光度が（－）である５，５－ジメチル－４－フェニル－２－ピロリジノン、比旋光度が（－）である５，５－ジメチル－４－（４－メチルフェニル）－２－ピロリジノン、比旋光度が（－）である５，５－ジメチル－４－（４－クロロフェニル）－２－ピロリジノン、または比旋光度が（－）である４－（４－クロロフェニル）－３，３－ジメチルイソチアゾリジン－１，１－ジオキシドのいずれか１以上を有効成分として含有するジャガイモシロシストセンチュウのふ化促進剤。
【発明の効果】
【0029】
本発明の防除剤またはふ化促進剤は、ジャガイモの最重要害虫であるＧｐの環境保全的防除を実現し、ジャガイモの生産性の大幅な向上に寄与するのみならず、生産するジャガイモ品種の制約の緩和にも大きく寄与する。従って、最終的に、農業の分野で品質及び収量の向上に貢献するものである。
【発明を実施するための形態】
【0030】
〔式（Ｉ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩〕
本発明の形態のひとつは、下記の式（Ｉ）で表される化合物、その立体異性体及びそれらの塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有するジャガイモシロシストセンチュウ防除剤である。
この式（Ｉ）で表される化合物（化合物（Ｉ）ということがある。）、その立体異性体、またはそれらの塩は、Ｇｐ卵のふ化を促進する物質である。
すなわち、本発明の形態のひとつは、下記の式（Ｉ）で表される化合物、その立体異性体及びそれらの塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有するジャガイモシロシストセンチュウ卵のふ化促進剤である。
化合物（Ｉ）は、Ｇｐシスト内卵に接触することで、Ｇｐ卵をふ化させることができる。Ｇｐシストの周囲に栄養源となるジャガイモが存在しない状況で、化合物（Ｉ）をＧｐシストに接触させて人工的にＧｐ卵をふ化させることができれば、ふ化したＧｐを飢餓状態に追い込み死滅させることできる。
本発明の形態のひとつは、下記の式（Ｉ）で表される化合物、その立体異性体及びそれらの塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有するジャガイモシロシストセンチュウ防除剤である。
この式（Ｉ）で表される化合物（化合物（Ｉ）ということがある。）、その立体異性体、またはそれらの塩は、Ｇｐ卵のふ化を促進する物質である。
すなわち、本発明の形態のひとつは、下記の式（Ｉ）で表される化合物、その立体異性体及びそれらの塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有するジャガイモシロシストセンチュウ卵のふ化促進剤である。
化合物（Ｉ）は、Ｇｐシスト内卵に接触することで、Ｇｐ卵をふ化させることができる。Ｇｐシストの周囲に栄養源となるジャガイモが存在しない状況で、化合物（Ｉ）をＧｐシストに接触させて人工的にＧｐ卵をふ化させることができれば、ふ化したＧｐを飢餓状態に追い込み死滅させることできる。
【0031】
【化6】
【0032】
式中、Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺとの結合位置を示し；
Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｒｂは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、Ｒｂ１－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、 Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、またはＲｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基を示し；
Ｒｂ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示し；
Ｚが、置換のメチレン基である場合、Ｒ２とメチレン基上の置換基は一緒になって、単結合、またはメチレン基を形成してもよい。
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺとの結合位置を示し；
Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｒｂは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、Ｒｂ１－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、 Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、またはＲｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基を示し；
Ｒｂ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示し；
Ｚが、置換のメチレン基である場合、Ｒ２とメチレン基上の置換基は一緒になって、単結合、またはメチレン基を形成してもよい。
【0033】
化合物（Ｉ）には、水和物、各種溶媒和物、結晶多形等も含まれる。また、化合物（Ｉ）は、不斉炭素基づく立体異性体や、ジアステレオマーが存在し得る。このような異性体の光学活性体、および光学活性体の混合物は全て本発明の技術的範囲に包含される。
また、それらの塩も本発明に包含される。塩の詳細は後述する。
また、それらの塩も本発明に包含される。塩の詳細は後述する。
【0034】
本明細書において使われる「無置換（unsubstituted）」の用語は、母核となる基のみであることを意味する。「置換」との記載がなく母核となる基の名称のみで記載しているときは、別段の断りがない限り「無置換」の意味である。
一方、「置換（substituted）」の用語は、母核となる基のいずれかの水素原子が、母核と同一または異なる構造の基（置換基）で置換されていることを意味する。従って、「置換基」は、母核となる基に結合した他の基である。置換基は１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。２つ以上の置換基は同じでもよいし、異なってもよい。
「Ｃ１～６」などの用語は、母核となる基の炭素原子数が１～６個などであることを表している。この炭素原子数には、置換基の中にある炭素原子の数を含まない。例えば、置換基としてエトキシ基を有するブチル基は、Ｃ２アルコキシＣ４アルキル基に分類する。
一方、「置換（substituted）」の用語は、母核となる基のいずれかの水素原子が、母核と同一または異なる構造の基（置換基）で置換されていることを意味する。従って、「置換基」は、母核となる基に結合した他の基である。置換基は１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。２つ以上の置換基は同じでもよいし、異なってもよい。
「Ｃ１～６」などの用語は、母核となる基の炭素原子数が１～６個などであることを表している。この炭素原子数には、置換基の中にある炭素原子の数を含まない。例えば、置換基としてエトキシ基を有するブチル基は、Ｃ２アルコキシＣ４アルキル基に分類する。
【0035】
「置換基」は化学的に許容され、本発明の効果を有する限りにおいて特に制限されない。以下に「置換基」となり得る基を例示する。
メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、Ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、Ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；
ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基（アリル基）、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、１－メチル－２－プロペニル基、２－メチル－２－プロペニル基などのＣ２～６アルケニル基；
エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、１－メチル－２－プロピニル基などのＣ２～６アルキニル基；
メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、Ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、Ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；
ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基（アリル基）、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、１－メチル－２－プロペニル基、２－メチル－２－プロペニル基などのＣ２～６アルケニル基；
エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、１－メチル－２－プロピニル基などのＣ２～６アルキニル基；
【0036】
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ３～６シクロアルキル基；
フェニル基、ナフチル基；
ベンジル基、フェネチル基などのフェニルＣ１～６アルキル基；
３～６員ヘテロシクリル基；
３～６員へテロシクリルＣ１～６アルキル基；
フェニル基、ナフチル基；
ベンジル基、フェネチル基などのフェニルＣ１～６アルキル基；
３～６員ヘテロシクリル基；
３～６員へテロシクリルＣ１～６アルキル基；
【0037】
水酸基；
メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、Ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、Ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；
ビニルオキシ基、アリルオキシ基、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基などのＣ２～６アルケニルオキシ基；
エチニルオキシ基、プロパルギルオキシ基などのＣ２～６アルキニルオキシ基；
フェノキシ基、ナフトキシ基；
ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基；
チアゾリルオキシ基、ピリジルオキシ基などの５～６員ヘテロアリールオキシ基；
チアゾリルメチルオキシ基、ピリジルメチルオキシ基などの５～６員ヘテロアリールＣ１～６アルキルオキシ基；
メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、Ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、Ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；
ビニルオキシ基、アリルオキシ基、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基などのＣ２～６アルケニルオキシ基；
エチニルオキシ基、プロパルギルオキシ基などのＣ２～６アルキニルオキシ基；
フェノキシ基、ナフトキシ基；
ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基；
チアゾリルオキシ基、ピリジルオキシ基などの５～６員ヘテロアリールオキシ基；
チアゾリルメチルオキシ基、ピリジルメチルオキシ基などの５～６員ヘテロアリールＣ１～６アルキルオキシ基；
【0038】
ホルミル基；
アセチル基、プロピオニル基などのＣ１～６アルキルカルボニル基；
ホルミルオキシ基；
アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基などのＣ１～６アルキルカルボニルオキシ基；
ベンゾイル基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロポキシカルボニル基、Ｉ－プロポキシカルボニル基、ｎ－ブトキシカルボニル基、ｔ－ブトキシカルボニル基などのＣ１～６アルコキシカルボニル基；
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ－プロポキシカルボニルオキシ基、Ｉ－プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ－ブトキシカルボニルオキシ基、ｔ－ブトキシカルボニルオキシ基などのＣ１～６アルコキシカルボニルオキシ基；
カルボキシル基；
アセチル基、プロピオニル基などのＣ１～６アルキルカルボニル基；
ホルミルオキシ基；
アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基などのＣ１～６アルキルカルボニルオキシ基；
ベンゾイル基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロポキシカルボニル基、Ｉ－プロポキシカルボニル基、ｎ－ブトキシカルボニル基、ｔ－ブトキシカルボニル基などのＣ１～６アルコキシカルボニル基；
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ－プロポキシカルボニルオキシ基、Ｉ－プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ－ブトキシカルボニルオキシ基、ｔ－ブトキシカルボニルオキシ基などのＣ１～６アルコキシカルボニルオキシ基；
カルボキシル基；
【0039】
フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；
クロロメチル基、クロロエチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；
２－クロロ－１－プロペニル基、２－フルオロ－１－ブテニル基などのＣ２～６ハロアルケニル基；
４，４－ジクロロ－１－ブチニル基、４－フルオロ－１－ペンチニル基、５－ブロモ－２－ペンチニル基などのＣ２～６ハロアルキニル基；
ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、２，３－ジクロロブトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；
２－クロロプロペニルオキシ基、３－ブロモブテニルオキシ基などのＣ２～６ハロアルケニルオキシ基；
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基などのＣ１～６ハロアルキルカルボニル基；
クロロメチル基、クロロエチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；
２－クロロ－１－プロペニル基、２－フルオロ－１－ブテニル基などのＣ２～６ハロアルケニル基；
４，４－ジクロロ－１－ブチニル基、４－フルオロ－１－ペンチニル基、５－ブロモ－２－ペンチニル基などのＣ２～６ハロアルキニル基；
ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、２，３－ジクロロブトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；
２－クロロプロペニルオキシ基、３－ブロモブテニルオキシ基などのＣ２～６ハロアルケニルオキシ基；
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基などのＣ１～６ハロアルキルカルボニル基；
【0040】
アミノ基；
メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのＣ１～６アルキル置換アミノ基；
アニリノ基、ナフチルアミノ基；
ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基などのフェニルＣ１～６アルキルアミノ基；
ホルミルアミノ基；
アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、Ｉ－プロピルカルボニルアミノ基などのＣ１～６アルキルカルボニルアミノ基；
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ－プロポキシカルボニルアミノ基、Ｉ－プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１～６アルコキシカルボニルアミノ基；
アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、Ｎ－フェニル－Ｎ－メチルアミノカルボニル基などの無置換若しくは置換基を有するアミノカルボニル基；
アミノカルボニルオキシ基；
エチルアミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基などのＣ１～６アルキル置換アミノカルボニルオキシ基；
メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのＣ１～６アルキル置換アミノ基；
アニリノ基、ナフチルアミノ基；
ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基などのフェニルＣ１～６アルキルアミノ基；
ホルミルアミノ基；
アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、Ｉ－プロピルカルボニルアミノ基などのＣ１～６アルキルカルボニルアミノ基；
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ－プロポキシカルボニルアミノ基、Ｉ－プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１～６アルコキシカルボニルアミノ基；
アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、Ｎ－フェニル－Ｎ－メチルアミノカルボニル基などの無置換若しくは置換基を有するアミノカルボニル基；
アミノカルボニルオキシ基；
エチルアミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基などのＣ１～６アルキル置換アミノカルボニルオキシ基；
【0041】
メルカプト基；
メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、Ｉ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、Ｉ－ブチルチオ基、ｓ－ブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基などのＣ１～６アルキルチオ基；
トリフルオロメチルチオ基、２，２，２－トリフルオロエチルチオ基などのＣ１～６ハロアルキルチオ基；
メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、Ｉ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、Ｉ－ブチルチオ基、ｓ－ブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基などのＣ１～６アルキルチオ基；
トリフルオロメチルチオ基、２，２，２－トリフルオロエチルチオ基などのＣ１～６ハロアルキルチオ基；
【0042】
メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｔ－ブチルスルフィニル基などのＣ１～６アルキルスルフィニル基；
トリフルオロメチルスルフィニル基、２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル基などのＣ１～６ハロアルキルスルフィニル基；
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ－ブチルスルホニル基などのＣ１～６アルキルスルホニル基；
トリフルオロメチルスルホニル基、２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル基などのＣ１～６ハロアルキルスルホニル基；
フェニルスルホニル基；
チアゾリルスルホニル基、ピリジルスルホニル基などの５～６員ヘテロアリールスルホニル基；
トリフルオロメチルスルフィニル基、２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル基などのＣ１～６ハロアルキルスルフィニル基；
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ－ブチルスルホニル基などのＣ１～６アルキルスルホニル基；
トリフルオロメチルスルホニル基、２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル基などのＣ１～６ハロアルキルスルホニル基；
フェニルスルホニル基；
チアゾリルスルホニル基、ピリジルスルホニル基などの５～６員ヘテロアリールスルホニル基；
【0043】
ペンタフルオロスルファニル基；
シアノ基；ニトロ基；
シアノ基；ニトロ基；
【0044】
また、これらの「置換基」は、前記置換基中のいずれかの水素原子が、異なる構造の基で置換されていてもよい。その場合の「置換基」としては、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６ハロアルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ１～６ハロアルコキシ基、ハロゲノ基、シアノ基、ニトロ基などを挙げることができる。
【0045】
また、上記の「３～６員ヘテロシクリル基」とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１～４個のヘテロ原子を環の構成原子として含む、３員環、４員環、５員環または６員環の基をいう。ヘテロシクリル基は、単環および多環のいずれであってもよい。多環ヘテロシクリル基は、少なくとも一つの環がヘテロ環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。「３～６員ヘテロシクリル基」としては、３～６員飽和ヘテロシクリル基、５～６員不飽和ヘテロシクリル基、５～６員ヘテロアリール基などを挙げることができる。
【0046】
３～６員飽和ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ジオキソラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキサニル基などを挙げることができる。
５～６員不飽和ヘテロシクリル基としては、ピロリニル基、ジヒドロフラニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリニル基、オキサゾリニル基、イソオキサゾリニル基、チアゾリニル基、イソチアゾリニル基、ジヒドロピラニル基、ジヒドロオキサジニル基などを挙げることができる。
５～６員不飽和ヘテロシクリル基としては、ピロリニル基、ジヒドロフラニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリニル基、オキサゾリニル基、イソオキサゾリニル基、チアゾリニル基、イソチアゾリニル基、ジヒドロピラニル基、ジヒドロオキサジニル基などを挙げることができる。
【0047】
５員ヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などを挙げることができる。
６員ヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
６員ヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
【0048】
〔Ａｒ〕
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示す。
Ａｒにおける「フェニル基」、または「ナフチル基」上の置換基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、Ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、Ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；水酸基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、Ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、Ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；２－クロロ－ｎ－プロポキシ基、２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；フェニル基、ナフチル基などのＣ６～１０アリール基；４－メチルフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－クロロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－トリフルオロメトキシフェニル基などの、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、ハロゲノ基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換されたＣ６～１０アリール基；ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基など５員環のヘテロアリール基；Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、ハロゲノ基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換された５員環のヘテロアリール基；ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などの６員環のヘテロアリール基；Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、ハロゲノ基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換された６員環のヘテロアリール基；またはシアノ基が好ましい。
Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示す。
Ａｒにおける「フェニル基」、または「ナフチル基」上の置換基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、Ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、Ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；水酸基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、Ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、Ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；２－クロロ－ｎ－プロポキシ基、２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；フェニル基、ナフチル基などのＣ６～１０アリール基；４－メチルフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－クロロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－トリフルオロメトキシフェニル基などの、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、ハロゲノ基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換されたＣ６～１０アリール基；ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基など５員環のヘテロアリール基；Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、ハロゲノ基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換された５員環のヘテロアリール基；ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などの６員環のヘテロアリール基；Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、ハロゲノ基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換された６員環のヘテロアリール基；またはシアノ基が好ましい。
【0049】
〔Ｒ１〕
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示す。
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示す。
【0050】
Ｒ１における「Ｃ１～６アルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、Ｉ－プロピル基、Ｉ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、Ｉ－ペンチル基、ネオペンチル基、２－メチルブチル基、Ｉ－ヘキシル基などを挙げることができる。
Ｒ１における「Ｃ２～６アルケニル基」としては、ビニル基、１－プロペニル基などを挙げることができる。
Ｒ１における「Ｃ２～６アルキニル基」としては、エチニル基、１－プロピニル基などを挙げることができる。
Ｒ１における「Ｃ２～６アルケニル基」としては、ビニル基、１－プロペニル基などを挙げることができる。
Ｒ１における「Ｃ２～６アルキニル基」としては、エチニル基、１－プロピニル基などを挙げることができる。
【0051】
Ｒ１における「Ｃ１～６アルキル基」、「Ｃ２～６アルケニル基」、または「Ｃ２～６アルキニル基」上の置換基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；水酸基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、Ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、Ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；２－クロロ－ｎ－プロポキシ基、２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ３～６シクロアルキル基；フェニル基、ナフチル基；４－メチルフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－クロロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－トリフルオロメトキシフェニル基などの、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、ハロゲノ基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換されたフェニル基；ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基など５員環のヘテロアリール基；Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、ハロゲノ基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換された５員環のヘテロアリール基；ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などの６員環のヘテロアリール基；Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、ハロゲノ基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換された６員環のヘテロアリール基；またはシアノ基が好ましい。
【0052】
Ｒ１における「Ｃ３～６シクロアルキル基」としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。
【0053】
Ｒ１における「Ｃ３～６シクロアルキル基」、「フェニル基」、または「ナフチル基」上の置換基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、Ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、Ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；水酸基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、Ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、Ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；２－クロロ－ｎ－プロポキシ基、２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；フェニル基、ナフチル基などのＣ６～１０アリール基；４－メチルフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－クロロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－トリフルオロメトキシフェニル基などの、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、ハロゲノ基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換されたＣ６～１０アリール基；ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基など５員環のヘテロアリール基；Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、ハロゲノ基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換された５員環のヘテロアリール基；ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などの６員環のヘテロアリール基；Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、ハロゲノ基、Ｃ１～６ハロアルキル基、またはＣ１～６ハロアルコキシ基で置換された６員環のヘテロアリール基；またはシアノ基が好ましい。
【0054】
本発明においては、Ｒ１は、「置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基」であることが好ましく、特にメチル基であることが好ましい。
【0055】
〔Ｒ２〕
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示す。
Ｒ２における「置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基」の具体例は、Ｒ１において例示したものと同じものを挙げることができる。
本発明においては、Ｒ２は、水素原子が好ましい。
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示す。
Ｒ２における「置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基」の具体例は、Ｒ１において例示したものと同じものを挙げることができる。
本発明においては、Ｒ２は、水素原子が好ましい。
【0056】
〔－Ｙ－Ｘ－〕
部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示す。
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺとの結合位置を示し；Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；Ｒｂは、水素原子、水酸基、Ｒｂ１－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、またはＲｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基を示す。
Ｒｂ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示す。
部分構造の－Ｙ－Ｘ－は、*－ＣＨ２－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、*－Ｎ（Ｒｂ）－Ｃ(＝Ｘ１)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示す。
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺとの結合位置を示し；Ｘ１は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；Ｒｂは、水素原子、水酸基、Ｒｂ１－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基、またはＲｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基を示す。
Ｒｂ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示す。
【0057】
Ｒｂ１における「置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基」、「置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基」、「置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基」、「置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基」、「置換若しくは無置換のフェニル基」、または「置換若しくは無置換のナフチル基」の具体例は、Ｒ１において例示したものと同じものを挙げることができる。
【0058】
Ｒｂにおける「Ｒｂ１－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基」としては、アセチル基、ベンゾイル基などを挙げることができる。
Ｒｂにおける「Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基」としては、メトキシカルボニル基、ｔ－ブトキシカルボニル基などを挙げることができる。
Ｒｂにおける「Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基」としては、メチルアミノカルボニル基、Ｉ－プロピルアミノカルボニル基などを挙げることができる。
Ｒｂにおける「Ｒｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基」としては、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基などを挙げることができる。
本発明においては、Ｒｂは、水素原子または水酸基が好ましい。
Ｒｂにおける「Ｒｂ１Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基」としては、メトキシカルボニル基、ｔ－ブトキシカルボニル基などを挙げることができる。
Ｒｂにおける「Ｒｂ１ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基」としては、メチルアミノカルボニル基、Ｉ－プロピルアミノカルボニル基などを挙げることができる。
Ｒｂにおける「Ｒｂ１ ２Ｎ－Ｃ(＝Ｏ)－で表される基」としては、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基などを挙げることができる。
本発明においては、Ｒｂは、水素原子または水酸基が好ましい。
【0059】
〔Ｚ〕
Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示し、Ｚが、置換のメチレン基である場合、Ｒ２とメチレン基上の置換基は一緒になって、単結合、またはメチレン基を形成してもよい。
Ｚは、置換若しくは無置換のメチレン基、または置換若しくは無置換のジメチレン基を示し、Ｚが、置換のメチレン基である場合、Ｒ２とメチレン基上の置換基は一緒になって、単結合、またはメチレン基を形成してもよい。
【0060】
Ｚにおける「メチレン基」、または「ジメチレン基」上の置換基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、Ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、Ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、Ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、Ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；２－クロロ－ｎ－プロポキシ基、２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；またはシアノ基が好ましい。
【0061】
Ｚが、置換のメチレン基である場合にＲ２とメチレン基上の置換基が一緒になってメチレン基を形成した化合物としては、下記式（Ｉ－ｃ’）で表される化合物を挙げることができる。
【0062】
【化7】
【0063】
式中、Ａｒ、Ｒ１、および－Ｙ－Ｘ－は、式（Ｉ）中のそれらと同様の定義を示す。
【0064】
Ｚが、置換のメチレン基である場合にＲ２とメチレン基上の置換基が一緒になって単結合を形成した化合物としては、下記式（Ｉ－ｄ’）で表される化合物を挙げることができる。
【0065】
【化8】
【0066】
式中、Ａｒ、Ｒ１、および－Ｙ－Ｘ－は、式（Ｉ）中のそれらと同様の定義を示す。
ＲＺは、水素原子、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６ハロアルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ１～６ハロアルコキシ基、またはシアノ基を示す。
ＲＺは、水素原子、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６ハロアルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ１～６ハロアルコキシ基、またはシアノ基を示す。
【0067】
〔式（Ｉ－ａ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩〕
本発明の形態のひとつは、 下記式（Ｉ－ａ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩である。
本発明の形態のひとつは、 下記式（Ｉ－ａ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩である。
【0068】
【化9】
【0069】
式中、Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙａ－Ｘａ－は、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基、または*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺａとの結合位置を示し；
Ｘ１ａは、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｚａは、置換若しくは無置換のジメチレン基を示す。
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙａ－Ｘａ－は、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基、または*－ＮＨ－Ｃ(＝Ｘ１ａ)－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺａとの結合位置を示し；
Ｘ１ａは、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子を示し；
Ｚａは、置換若しくは無置換のジメチレン基を示す。
【0070】
式中、Ａｒ、Ｒ１、およびＲ２は、式（Ｉ）中のそれらと同様の定義を示す。
Ｚａにおける「ジメチレン基」上の置換基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、Ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、Ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、Ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、Ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；２－クロロ－ｎ－プロポキシ基、２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；またはシアノ基が好ましい。
Ｚａにおける「ジメチレン基」上の置換基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、Ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、Ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、Ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、Ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；２－クロロ－ｎ－プロポキシ基、２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；またはシアノ基が好ましい。
【0071】
〔式（Ｉ－ｂ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩〕
本発明の形態のひとつは、 下記式（Ｉ－ｂ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩である。
本発明の形態のひとつは、 下記式（Ｉ－ｂ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩である。
【0072】
【化10】
【0073】
式中、Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙｂ－Ｘｂ－は、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｓ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺｂとの結合位置を示し；
Ｚｂは、置換若しくは無置換のメチレン基を示す。
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｒ２は、水素原子、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
部分構造の－Ｙｂ－Ｘｂ－は、*－Ｏ－Ｃ(＝Ｓ)－**で表される基、*－Ｓ－Ｃ(＝Ｏ)－**で表される基、または*－ＮＨ－ＳＯ２－**で表される基を示し；
ここで、*は２つのＲ１を有する炭素原子との結合位置を示し、**はＺｂとの結合位置を示し；
Ｚｂは、置換若しくは無置換のメチレン基を示す。
【0074】
式中、Ａｒ、Ｒ１、およびＲ２は、式（Ｉ）中のそれらと同様の定義を示す。
Ｚｂにおける「メチレン基」上の置換基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、Ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、Ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、Ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、Ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；２－クロロ－ｎ－プロポキシ基、２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；またはシアノ基が好ましい。
Ｚｂにおける「メチレン基」上の置換基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、Ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、Ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、Ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、Ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；２－クロロ－ｎ－プロポキシ基、２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；またはシアノ基が好ましい。
【0075】
〔式（Ｉ－ｃ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩〕
本発明の形態のひとつは、下記式（Ｉ－ｃ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩である。
本発明の形態のひとつは、下記式（Ｉ－ｃ）で表される化合物、その立体異性体またはそれらの塩である。
【0076】
【化11】
【0077】
式中、Ａｒは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基、を示し；
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｘ１は、酸素原子または硫黄原子を示す。
Ｒ１は、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示し；
Ｘ１は、酸素原子または硫黄原子を示す。
【0078】
式中、Ａｒ、およびＲ１は、式（Ｉ）中のそれらと同様の定義を示す。
【0079】
〔化合物（Ｉ）の製造方法〕
化合物（Ｉ）の製造方法は、限定されない。例えば、本発明の化合物（Ｉ）は、以下に示す反応スキーム、実施例などに記載したような公知の反応を利用することにより得ることができる。
化合物（Ｉ）の製造方法は、限定されない。例えば、本発明の化合物（Ｉ）は、以下に示す反応スキーム、実施例などに記載したような公知の反応を利用することにより得ることができる。
【0080】
（反応スキーム１－１）
式（Ｉ－ｂ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ-b-1）の化合物の調製方法の概略を以下の反応スキーム１－１に示す。
式（Ｉ－ｂ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ-b-1）の化合物の調製方法の概略を以下の反応スキーム１－１に示す。
【0081】
【化12】
【0082】
式（Ｉ－ｂ－１）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。式（ＩＭ－１）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。Ｒは、低級アルキル基を示す。
式（ＩＭ－１）の化合物中のニトロ基を、酸性条件下、亜鉛を用いて還元し、加熱するなどにより環化させることで、式（Ｉ－ｂ－１）の化合物を調製できる。
式（ＩＭ－１）の化合物中のニトロ基を、酸性条件下、亜鉛を用いて還元し、加熱するなどにより環化させることで、式（Ｉ－ｂ－１）の化合物を調製できる。
【0083】
（反応スキーム１－２）
式（ＩＭ－１）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム１－２に示す。
式（ＩＭ－１）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム１－２に示す。
【0084】
【化13】
【0085】
式（ＩＭ－２）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。Ｒは、低級アルキル基を示す。式（ＩＭ-3）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。
式（ＩＭ－１）の化合物は、適当な有機塩基の存在下、式（ＩＭ－３）のニトロアルカンと式（ＩＭ－２）の桂皮酸エステル類とのマイケル付加反応を行うことで調製できる。
式（ＩＭ－１）の化合物は、適当な有機塩基の存在下、式（ＩＭ－３）のニトロアルカンと式（ＩＭ－２）の桂皮酸エステル類とのマイケル付加反応を行うことで調製できる。
【0086】
（反応スキーム２－１）
式（Ｉ－ａ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ－ａ－１）の化合物の調整方法の概略を、以下の反応スキーム２－１に示す。
式（Ｉ－ａ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ－ａ－１）の化合物の調整方法の概略を、以下の反応スキーム２－１に示す。
【0087】
【化14】
【0088】
式（Ｉ－ａ－１）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。式（ＩＭ－４）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。Ｒは、低級アルキル基を示す。
式（ＩＭ－４）の」化合物中のニトロ基を、酸性条件下、亜鉛を用いて還元し、加熱するなどにより環化させることで、式（Ｉ－ａ－１）の化合物を調製できる。
式（ＩＭ－４）の」化合物中のニトロ基を、酸性条件下、亜鉛を用いて還元し、加熱するなどにより環化させることで、式（Ｉ－ａ－１）の化合物を調製できる。
【0089】
（反応スキーム２－２）
式（ＩＭ－４）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム２－２に示す。
式（ＩＭ－４）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム２－２に示す。
【0090】
【化15】
【0091】
式（ＩＭ－５）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。式（ＩＭ－６）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。Ｒ’は、低級アルキル基を示す。式（ＩＭ－７）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。
式（ＩＭ－６）の化合物は、式（ＩＭ－７）のアルデヒドにウィッティヒ反応を行うことで調製できる。ホスホニウム塩には（メトキシメチル)トリフェニルホスホニウムクロリドを用いることが好ましい。
式（ＩＭ－６）の化合物中のエノ－ルエーテルを加水分解することで、式（ＩＭ－５）のアルデヒドを調整できる。このアルデヒドを酸化しカルボン酸へと誘導し、最後にエステル化することで、式（ＩＭ－４）の化合物を調製できる。酸化の条件は、官能基選択性が高いクラウス－ピニック酸化を用いることが好ましい。
式（ＩＭ－６）の化合物は、式（ＩＭ－７）のアルデヒドにウィッティヒ反応を行うことで調製できる。ホスホニウム塩には（メトキシメチル)トリフェニルホスホニウムクロリドを用いることが好ましい。
式（ＩＭ－６）の化合物中のエノ－ルエーテルを加水分解することで、式（ＩＭ－５）のアルデヒドを調整できる。このアルデヒドを酸化しカルボン酸へと誘導し、最後にエステル化することで、式（ＩＭ－４）の化合物を調製できる。酸化の条件は、官能基選択性が高いクラウス－ピニック酸化を用いることが好ましい。
【0092】
（反応スキーム２－３）
式［ＩＭ－７］の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム２－３に示す。
式［ＩＭ－７］の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム２－３に示す。
【0093】
【化16】
【0094】
式（ＩＭ－８）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。
式（ＩＭ－７）の化合物は、適当な有機塩基の存在下、式（ＩＭ－３）のニトロアルカンと式（ＩＭ－８）のシンナミルアルデヒド類とのマイケル付加反応を行うことで調製できる。
式（ＩＭ－７）の化合物は、適当な有機塩基の存在下、式（ＩＭ－３）のニトロアルカンと式（ＩＭ－８）のシンナミルアルデヒド類とのマイケル付加反応を行うことで調製できる。
【0095】
（反応スキーム３－１）
式（Ｉ－ａ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ－ａ－２）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム３－１に示す。
式（Ｉ－ａ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ－ａ－２）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム３－１に示す。
【0096】
【化17】
【0097】
式（Ｉ－ａ－２）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。式（ＩＭ－９）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。Ｒは、低級アルキル基を示す。
式（Ｉ－ａ－２）の化合物は、パラジウム錯体存在下、式（ＩＭ－９）の化合物とトリメチルアルミニウムを反応させることで、調製できる。
ここにおいて、パラジウム錯体は、式（ＩＭ－９）中の硫黄とシアノ基の間に酸化的にふ化する。トリメチルアルミニウムがメチル基をパラジウムに渡すことで、式（ＩＭ－９）の化合物は、アルキルチオアルミニウムになる。パラジウムは、還元的脱離でアセトニトリルを放出して触媒として再生される。
生じたアルキルチオアルミニウムが分子内のエステルと反応することで、式（Ｉ－ａ－２）の化合物となる。
式（Ｉ－ａ－２）の化合物は、パラジウム錯体存在下、式（ＩＭ－９）の化合物とトリメチルアルミニウムを反応させることで、調製できる。
ここにおいて、パラジウム錯体は、式（ＩＭ－９）中の硫黄とシアノ基の間に酸化的にふ化する。トリメチルアルミニウムがメチル基をパラジウムに渡すことで、式（ＩＭ－９）の化合物は、アルキルチオアルミニウムになる。パラジウムは、還元的脱離でアセトニトリルを放出して触媒として再生される。
生じたアルキルチオアルミニウムが分子内のエステルと反応することで、式（Ｉ－ａ－２）の化合物となる。
【0098】
（反応スキーム３－２）
式（ＩＭ－９）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム３－２に示す。
式（ＩＭ－９）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム３－２に示す。
【0099】
【化18】
【0100】
式（ＩＭ－１０）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。Ｒは、低級アルキル基を示す。
式（ＩＭ－９）の化合物は、式（ＩＭ－１０）のオレフィンに対し、Ｆｅ（ＩＩＩ）／ＮａＢＨ４を介した、チオシナート化を行うことで調製することができる。
この場合、Organic Letters, Volume 14, Issue 6, Pages 1428-1431, 2012に記載の方法を参考にすることができる。
式（ＩＭ－９）の化合物は、式（ＩＭ－１０）のオレフィンに対し、Ｆｅ（ＩＩＩ）／ＮａＢＨ４を介した、チオシナート化を行うことで調製することができる。
この場合、Organic Letters, Volume 14, Issue 6, Pages 1428-1431, 2012に記載の方法を参考にすることができる。
【0101】
（反応スキーム３－３）
式（ＩＭ－１０）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム３－３に示す。
式（ＩＭ－１０）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム３－３に示す。
【0102】
【化19】
【0103】
式（ＩＭ－１１）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。式（ＩＭ－１２）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。式（ＩＭ－１３）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。Ｔｓはトシル基を示す。
式（ＩＭ－１２）の化合物は、式（ＩＭ－１３）の化合物にシアノ化を行うことで調製できる。脱離基としてはトシルオキシ基などが好ましい。
シアノ基に対し、ＤＩＢＡＬ還元を行いイミンとし、生じたイミンを加水分解することで式（ＩＭ－１１）のアルデヒドを調製することができる。このアルデヒドを酸化しカルボン酸へと誘導し、最後にエステル化することで、式（ＩＭ－１０）の化合物を調製できる。酸化の条件は、官能基選択性が高いクラウス－ピニック酸化を用いることが好ましい。
式（ＩＭ－１２）の化合物は、式（ＩＭ－１３）の化合物にシアノ化を行うことで調製できる。脱離基としてはトシルオキシ基などが好ましい。
シアノ基に対し、ＤＩＢＡＬ還元を行いイミンとし、生じたイミンを加水分解することで式（ＩＭ－１１）のアルデヒドを調製することができる。このアルデヒドを酸化しカルボン酸へと誘導し、最後にエステル化することで、式（ＩＭ－１０）の化合物を調製できる。酸化の条件は、官能基選択性が高いクラウス－ピニック酸化を用いることが好ましい。
【0104】
（反応スキーム３－４）
式（ＩＭ－１３）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム３－４に示す。
式（ＩＭ－１３）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム３－４に示す。
【0105】
【化20】
【0106】
式（ＩＭ－１４）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。Ｒは、低級アルキル基を示す。式（ＩＭ－１４）の化合物中のエステル部分はＤＩＢＡＬ還元などで水酸基とし、ＴｓＣｌなどを反応させて式（ＩＭ－１３）の化合物を調製できる。
【0107】
（反応スキーム３－５）
式（ＩＭ－１４）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム３－５に示す。
式（ＩＭ－１４）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム３－５に示す。
【0108】
【化21】
【0109】
式（ＩＭ－１５）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。式（ＩＭ－１６）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。Ｒは、低級アルキル基を示す。
式〔ＩＭ－１４〕の化合物は、ＭｅＣ（ＯＲ）３などのオルト酢酸エステル（Ｒは低級アルキル基を示す。）を用いて、式（ＩＭ－１５）のアリルアルコールに対し、ジョンソン－クライゼン転位を行うことで調製できる。
式（ＩＭ－１５）の化合物は、式（ＩＭ－１６）の桂皮酸エステル類に対し、ＤＩＢＡＬ還元を行うことで調製できる。
式〔ＩＭ－１４〕の化合物は、ＭｅＣ（ＯＲ）３などのオルト酢酸エステル（Ｒは低級アルキル基を示す。）を用いて、式（ＩＭ－１５）のアリルアルコールに対し、ジョンソン－クライゼン転位を行うことで調製できる。
式（ＩＭ－１５）の化合物は、式（ＩＭ－１６）の桂皮酸エステル類に対し、ＤＩＢＡＬ還元を行うことで調製できる。
【0110】
（反応スキーム４）
式（Ｉ－ｂ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ－ｂ－３）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム４に示す。
式（Ｉ－ｂ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ－ｂ－３）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム４に示す。
【0111】
【化22】
【0112】
式（Ｉ－ｂ－２）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。式（Ｉ－ｂ－３）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。
式（Ｉ－ｂ－３）の化合物は、式（Ｉ－ｂ－２）の化合物にローソン試薬を反応させることで調製できる。
式（Ｉ－ｂ－３）の化合物は、式（Ｉ－ｂ－２）の化合物にローソン試薬を反応させることで調製できる。
【0113】
（反応スキーム５）
式（Ｉ－ｂ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ－ｂ－４）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム５に示す。
式（Ｉ－ｂ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ－ｂ－４）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム５に示す。
【0114】
【化23】
【0115】
式（Ｉ－ｂ－４）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。
式（Ｉ－ｂ－４）のチオラクトンは、式（Ｉ－ｂ－３）のチオノラクトンを、ルイス酸を触媒に異性化することで調製することができる。この場合、Tetrahedron Letters, Volume 47, Issue 34, Pages 6067-6070, 2006に記載の方法を参考にすることができる。
式（Ｉ－ｂ－４）のチオラクトンは、式（Ｉ－ｂ－３）のチオノラクトンを、ルイス酸を触媒に異性化することで調製することができる。この場合、Tetrahedron Letters, Volume 47, Issue 34, Pages 6067-6070, 2006に記載の方法を参考にすることができる。
【0116】
（反応スキーム６－１）
式（Ｉ－ｂ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ－ｂ－５）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム６－１に示す。
式（Ｉ－ｂ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ－ｂ－５）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム６－１に示す。
【0117】
【化24】
【0118】
式（Ｉ－ｂ－５）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。式（ＩＭ－１７）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。式（ＩＭ－１８）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。
式（ＩＭ－１８）の化合物中のニトロ基を、酸性条件下亜鉛を用いて還元し、式（ＩＭ－１７）の化合物として、さらに加熱などにより環化させることで、式（Ｉ－ｂ－５）の化合物を調製できる。
式（ＩＭ－１８）の化合物中のニトロ基を、酸性条件下亜鉛を用いて還元し、式（ＩＭ－１７）の化合物として、さらに加熱などにより環化させることで、式（Ｉ－ｂ－５）の化合物を調製できる。
【0119】
（反応スキーム６－２）
式（ＩＭ－１８）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム６－２に示す。
式（ＩＭ－１８）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム６－２に示す。
【0120】
【化25】
【0121】
式（ＩＭ－１９）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。
式（ＩＭ－１８）の化合物は、適当な有機塩基の存在下、式（ＩＭ－３）のニトロアルカンと式（ＩＭ－１９）の化合物との付加反応を行うことで調製できる。
式（ＩＭ－１８）の化合物は、適当な有機塩基の存在下、式（ＩＭ－３）のニトロアルカンと式（ＩＭ－１９）の化合物との付加反応を行うことで調製できる。
【0122】
（反応スキーム６－３）
式（ＩＭ－１９）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム６－３に示す。
式（ＩＭ－１９）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム６－３に示す。
【0123】
【化26】
【0124】
式（ＩＭ－２０）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。式（ＩＭ－２１）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。
式（ＩＭ－２１）の芳香族ビニルに対し、ＤＭＦ溶媒中で塩化スルホニルと反応させて式（ＩＭ－２０）の化合物として、有機塩基などの存在下フェノールと反応させることで調製できる。
式（ＩＭ－２１）の芳香族ビニルに対し、ＤＭＦ溶媒中で塩化スルホニルと反応させて式（ＩＭ－２０）の化合物として、有機塩基などの存在下フェノールと反応させることで調製できる。
【0125】
（反応スキーム７－１）
式（Ｉ－ｃ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ－ｃ－１）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム７－１に示す。
式（Ｉ－ｃ）で表される化合物の内で、以下に示す式（Ｉ－ｃ－１）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム７－１に示す。
【0126】
【化27】
【0127】
式（ＩＭ－２２）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。式（ＩＭ－２３）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。
式（ＩＭ－２３）の化合物のメチロール部分をクロム酸酸化などによりカルボン酸とし、適当な脱水剤の存在下環化することＩＭ－２３）、式（ＩＭ－２２）の化合物を調製できる。
さらに、脱保護を行うことで、式（Ｉ-c-1）の化合物を調製できる。
式（ＩＭ－２３）の化合物のメチロール部分をクロム酸酸化などによりカルボン酸とし、適当な脱水剤の存在下環化することＩＭ－２３）、式（ＩＭ－２２）の化合物を調製できる。
さらに、脱保護を行うことで、式（Ｉ-c-1）の化合物を調製できる。
【0128】
（反応スキーム７－２）
式（ＩＭ－２３）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム７－２に示す。
式（ＩＭ－２３）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム７－２に示す。
【0129】
【化28】
【0130】
式（ＩＭ－２４）中の記号は、式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。式（ＩＭ－２５）中のＡｒは、式（Ｉ）中のそれと同様の意味を示す。
チタンテトライソプロポキシドなどの有機チタン化合物存在下、グリニャール試薬と式（ＩＭ－２５）の化合物を反応させることで、式（ＩＭ－２４）の化合物を調製することができる。スキーム中で、グリニャール試薬をＲ１ＭｇＸで表した。Ｒ１は、式（Ｉ）中のそれと同様の意味を示し、Ｘはハロゲノ基を示す。
式（ＩＭ－２３）の化合物は、式（ＩＭ－２４）の化合物を二炭酸ジ－ｔ－ブチル（Ｂｏｃ２Ｏ）などを用いてＢｏｃ保護することで調製できる。
チタンテトライソプロポキシドなどの有機チタン化合物存在下、グリニャール試薬と式（ＩＭ－２５）の化合物を反応させることで、式（ＩＭ－２４）の化合物を調製することができる。スキーム中で、グリニャール試薬をＲ１ＭｇＸで表した。Ｒ１は、式（Ｉ）中のそれと同様の意味を示し、Ｘはハロゲノ基を示す。
式（ＩＭ－２３）の化合物は、式（ＩＭ－２４）の化合物を二炭酸ジ－ｔ－ブチル（Ｂｏｃ２Ｏ）などを用いてＢｏｃ保護することで調製できる。
【0131】
（反応スキーム７－３）
式（ＩＭ－２５）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム７－３に示す。
式（ＩＭ－２５）の化合物の調製方法の概略を、以下の反応スキーム７－３に示す。
【0132】
【化29】
【0133】
式（ＩＭ－２６）中のＡｒは、式（Ｉ）中のそれと同様の意味を示す。
式（ＩＭ－２５）の化合物は、式（ＩＭ－２６）のアリールアセトニトリルとエピクロロヒドリンを、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドなどの金属アミド類の存在下、カップリング反応を行うことで調製できる。
式（ＩＭ－２５）の化合物は、式（ＩＭ－２６）のアリールアセトニトリルとエピクロロヒドリンを、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドなどの金属アミド類の存在下、カップリング反応を行うことで調製できる。
【0134】
〔塩〕
化合物（Ｉ）及びその立体異性体の塩は、農園芸学的に許容される塩であれば、特に制限されない。例えば、塩酸、硫酸などの無機酸の塩；酢酸、乳酸などの有機酸の塩；リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属の塩；カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩；鉄、銅などの遷移金属の塩；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ヒドラジンなどの有機塩基の塩；アンモニアなどを挙げることができる。化合物（Ｉ）及びその立体異性体の塩は、化合物（Ｉ）及びその立体異性体から公知の手法によって得ることができる。
化合物（Ｉ）及びその立体異性体の塩は、農園芸学的に許容される塩であれば、特に制限されない。例えば、塩酸、硫酸などの無機酸の塩；酢酸、乳酸などの有機酸の塩；リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属の塩；カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩；鉄、銅などの遷移金属の塩；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ヒドラジンなどの有機塩基の塩；アンモニアなどを挙げることができる。化合物（Ｉ）及びその立体異性体の塩は、化合物（Ｉ）及びその立体異性体から公知の手法によって得ることができる。
【0135】
以下の表１に示す化合物は、公知の化合物であり、公知の方法により製造することができる。または購入し使用することもできる。表中には各化合物のＣＡＳ番号も記した。
【0136】
【表1】
【0137】
〔ジャガイモシロシストセンチュウ防除剤〕
本発明の形態のひとつは、上記の式（Ｉ）で表される化合物、その立体異性体及びそれらの塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有するジャガイモシロシストセンチュウ防除剤である。
本発明の形態のひとつは、上記の式（Ｉ）で表される化合物、その立体異性体及びそれらの塩から選ばれる少なくとも１つを有効成分として含有するジャガイモシロシストセンチュウ防除剤である。
【0138】
本発明の防除剤は、化合物（Ｉ）、その立体異性体及びそれらの塩から選ばれる少なくとも１つのみからなるものであってもよいし、農薬として一般にとり得る剤形、例えば、水和剤、粒剤、粉剤、乳剤、水溶剤、懸濁剤、フロアブル等に製剤化したものであってもよい。
【0139】
製剤化に当たって公知の添加剤または担体を用いることができる。
すなわち、本発明の態様のひとつは、農芸化学的に許容できる固体担体、および／または液体担体を含む、防除剤である。
固体の剤形を目的とする場合は、大豆粉、小麦粉等の植物性粉末、珪藻土、燐灰石、石こう、タルク、ベントナイト、パイロフィライト、クレイ等の鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ、尿素、芒硝等の有機及び無機化合物などの固体担体を用いることができる。
液体の剤形を目的とする場合は、ケロシン、キシレン及びソルベントナフサ等の石油留分、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコール、アセトン、トリクロルエチレン、メチルイソブチルケトン、鉱物油、植物油、水などの液体担体を用いることができる。
すなわち、本発明の態様のひとつは、農芸化学的に許容できる固体担体、および／または液体担体を含む、防除剤である。
固体の剤形を目的とする場合は、大豆粉、小麦粉等の植物性粉末、珪藻土、燐灰石、石こう、タルク、ベントナイト、パイロフィライト、クレイ等の鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ、尿素、芒硝等の有機及び無機化合物などの固体担体を用いることができる。
液体の剤形を目的とする場合は、ケロシン、キシレン及びソルベントナフサ等の石油留分、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコール、アセトン、トリクロルエチレン、メチルイソブチルケトン、鉱物油、植物油、水などの液体担体を用いることができる。
【0140】
製剤化において、必要に応じて、界面活性剤を添加することができる。界面活性剤としては、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンが付加したアルキルエーテル、ポリオキシエチレンが付加した高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したソルビタン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したトリスチリルフェニルエーテル等の非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテルの硫酸エステル塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ポリカルボン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムアルデヒド縮合物、イソブチレン-無水マレイン酸の共重合体等を挙げることができる。
【0141】
本発明の防除剤は、剤形に応じて、有効成分濃度を適宜設定することができる。例えば、水和剤における有効成分濃度は、好ましくは５～９０重量％、より好ましくは１０～８５重量％である。乳剤における有効成分濃度は、好ましくは３～７０重量％、より好ましくは５～６０重量％である。粒剤における有効成分濃度は、好ましくは０．０１～５０重量％、より好ましくは０．０５～４０重量％である。
【0142】
このようにして得られた水和剤若しくは乳剤は水で所定の濃度に希釈して懸濁液或いは乳濁液として、粒剤はそのまま土壌に散布処理もしくは混和処理することができる。本発明の防除剤を圃場に適用するに当たっては１ヘクタール当たり有効成分０．１ｇ以上の適当量を施用することができる。
【0143】
〔ジャガイモシロシストセンチュウ防除剤の施用方法〕
本発明の防除剤は、ジャガイモの栽培を行っていない時期に、ジャガイモシロシストセンチュウが生息する畑土壌に施用するものである。
本発明の防除剤は、その有効成分がＧｐ卵のふ化を促進する物質であることを特徴とする。そのため、本発明の防除剤を適用することで、Ｇｐ卵をふ化させることができる。ジャガイモの栽培を行っていない時期、すなわち、栄養源となるジャガイモが存在しない状況で、本発明の防除剤を施用し人工的にＧｐ卵をふ化させることで、ふ化したＧｐを飢餓状態に追い込み死滅させることが可能となる。
本発明の防除剤は、Ｇｐ卵をふ化させることができるが、Ｇｐ卵のふ化に適した春から秋の間に施用することが好ましい。この期間において輪作作物の栽培前後に本発明の防除剤を施用することが好ましい。
本発明の防除剤は、ジャガイモの栽培を行っていない時期に、ジャガイモシロシストセンチュウが生息する畑土壌に施用するものである。
本発明の防除剤は、その有効成分がＧｐ卵のふ化を促進する物質であることを特徴とする。そのため、本発明の防除剤を適用することで、Ｇｐ卵をふ化させることができる。ジャガイモの栽培を行っていない時期、すなわち、栄養源となるジャガイモが存在しない状況で、本発明の防除剤を施用し人工的にＧｐ卵をふ化させることで、ふ化したＧｐを飢餓状態に追い込み死滅させることが可能となる。
本発明の防除剤は、Ｇｐ卵をふ化させることができるが、Ｇｐ卵のふ化に適した春から秋の間に施用することが好ましい。この期間において輪作作物の栽培前後に本発明の防除剤を施用することが好ましい。
【0144】
このようにジャガイモを栽培する前に、栽培する土壌中のＧｐを駆除することで、ジャガイモの安定した収穫が可能となる。
すなわち、本発明の形態のひとつは、ジャガイモシロシストセンチュウを防除する方法であって、本発明の防除剤または本発明のふ化促進剤を、ジャガイモを栽培する前にジャガイモを栽培する土壌に施用する工程を含む、ジャガイモシロシストセンチュウを防除する方法である。
すなわち、本発明の形態のひとつは、ジャガイモシロシストセンチュウを防除する方法であって、本発明の防除剤または本発明のふ化促進剤を、ジャガイモを栽培する前にジャガイモを栽培する土壌に施用する工程を含む、ジャガイモシロシストセンチュウを防除する方法である。
【0145】
Ｇｐのシストは、土壌中深さ０～２０ｃｍのところに分布する傾向にある。そこに分布するＧｐのシストに、本発明の防除剤を接触させるためには、一般的な土壌処理方法を用いればよい。土壌混和、土壌注入、土壌灌注などの処理方法を用いればよい。
例えば、液状の製剤であればそれを所定の濃度まで希釈して散布液とし、圃場全体にスプレーヤー散布し、ロータリー混和すればよい。粒剤であればブロードキャスタ（fertilizer spreader）により散布し、ロータリー混和すればよい。
例えば、液状の製剤であればそれを所定の濃度まで希釈して散布液とし、圃場全体にスプレーヤー散布し、ロータリー混和すればよい。粒剤であればブロードキャスタ（fertilizer spreader）により散布し、ロータリー混和すればよい。
【実施例0146】
〔化合物（Ｉ）の製造実施例〕
〔製造実施例１〕
６，６－ジメチル－５－（ｐ－トリル）ピペリジン－２－オン（化合物Ａ－３）の合成
〔工程１〕
〔製造実施例１〕
６，６－ジメチル－５－（ｐ－トリル）ピペリジン－２－オン（化合物Ａ－３）の合成
〔工程１〕
【0147】
【化30】
【0148】
４－メチルシンナムアルデヒド（９８．８９ｇ）、ジクロロメタン（２．５Ｌ）、２－ニトロプロパン（１２２．３２ｇ）およびジエチルアミン（１００．２７ｇ）の混合物を室温で一晩攪拌した。
得られた混合物に１Ｎ塩酸を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。上記式で示される中間体１を収率９５．９％で１５０．５４ｇ得た。
得られた中間体１の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝952(s, 1H, CHO), 7.26-7.05 (m, 4H, ArH), 3.97-3.94 (m, 1H, -C(Ar)H-), 3.07-2.65(m, 2H, -CH2-), 2.32 (s, 3H, ArCH3), 1.57 (s, 3H, -CH3), 1.47s (s, 3H, -CH3).
〔工程２〕
得られた混合物に１Ｎ塩酸を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。上記式で示される中間体１を収率９５．９％で１５０．５４ｇ得た。
得られた中間体１の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝952(s, 1H, CHO), 7.26-7.05 (m, 4H, ArH), 3.97-3.94 (m, 1H, -C(Ar)H-), 3.07-2.65(m, 2H, -CH2-), 2.32 (s, 3H, ArCH3), 1.57 (s, 3H, -CH3), 1.47s (s, 3H, -CH3).
〔工程２〕
【0149】
【化31】
【0150】
(メトキシメチル)トリフェニルホスホニウムクロリド（１０．２８ｇ）およびＴＨＦ（１００ｍｌ）の混合物に氷冷下でカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド（３．１４ｇ）を添加し、３０分攪拌した。中間体１（４．７１ｇ）を添加し、さらに３０分攪拌した。
室温に昇温し、４．５時間攪拌した。得られた混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、上記式で示される中間体２を収率８０．９％で４．２６ｇ得た。
〔工程３〕
室温に昇温し、４．５時間攪拌した。得られた混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、上記式で示される中間体２を収率８０．９％で４．２６ｇ得た。
〔工程３〕
【0151】
【化32】
【0152】
中間体２（４．２６ｇ）およびＴＨＦ（３０ｍｌ）の混合物に、氷冷下で４Ｎ塩酸を添加した。室温に昇温後１．５時間攪拌した。
得られた混合物に水を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた濃縮残渣に亜塩素酸ナトリウム（５．８６ｇ）、リン酸水素ナトリウム（５．０５ｇ）、アミレン（１１．３６ｇ）、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール（５０ｍｌ）および水（１６ｍｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。
得られた混合物に水を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。濃縮残渣にメタノール（８０ｍｌ）を加え、室温でトリメチルシリルジアゾメタン１０％ヘキサン溶液（５５．５ｇ）を滴下した。
得られた混合物を室温で１．５時間攪拌し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、上記式で示される中間体３を収率５７．０％で２．５８ｇ得た。
得られた中間体３の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.20(d, 2H, J = 8.4 Hz, ArH), 7.06 (d,2H, J = 8.4 Hz, ArH),3.60 (s, 3H, -COOCH3), 3.33-3.29 (m, 1H, -C(Ar)H-), 2.33 (s, 3H, ArCH3),2.14-1.84 (m, 4H, -CH2CH2-), 1.60 (s, 3H, -CH3), 1.43s (s, 3H, -CH3).
〔工程４〕
得られた混合物に水を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた濃縮残渣に亜塩素酸ナトリウム（５．８６ｇ）、リン酸水素ナトリウム（５．０５ｇ）、アミレン（１１．３６ｇ）、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール（５０ｍｌ）および水（１６ｍｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。
得られた混合物に水を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。濃縮残渣にメタノール（８０ｍｌ）を加え、室温でトリメチルシリルジアゾメタン１０％ヘキサン溶液（５５．５ｇ）を滴下した。
得られた混合物を室温で１．５時間攪拌し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、上記式で示される中間体３を収率５７．０％で２．５８ｇ得た。
得られた中間体３の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.20(d, 2H, J = 8.4 Hz, ArH), 7.06 (d,2H, J = 8.4 Hz, ArH),3.60 (s, 3H, -COOCH3), 3.33-3.29 (m, 1H, -C(Ar)H-), 2.33 (s, 3H, ArCH3),2.14-1.84 (m, 4H, -CH2CH2-), 1.60 (s, 3H, -CH3), 1.43s (s, 3H, -CH3).
〔工程４〕
【0153】
【化33】
【0154】
中間体３（２．５８ｇ）、酢酸（５０ｍｌ）および亜鉛（１２．０２ｇ）の混合物を６０℃で一晩攪拌した。
得られた混合物を室温まで放冷し、セライトろ過した。得られたろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：メタノール＝９：１）に付し、化合物A-3を収率４０．５％で０．８１ｇ得た。
得られた混合物を室温まで放冷し、セライトろ過した。得られたろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：メタノール＝９：１）に付し、化合物A-3を収率４０．５％で０．８１ｇ得た。
【0155】
〔製造実施例２〕
５－（４－クロロフェニル）－６，６－ジメチルテトラヒドロ－２Ｈ－チオピラン－２－オン（化合物A-6）の合成
〔工程１〕
５－（４－クロロフェニル）－６，６－ジメチルテトラヒドロ－２Ｈ－チオピラン－２－オン（化合物A-6）の合成
〔工程１〕
【0156】
【化34】
【0157】
ethyl (E)-3-(4-chlorophenyl)-2-methylacrylate（４．６３ｍｇ）およびＴＨＦ（９．７ｍｌ）の混合物に、－７８℃でＤＩＢＡＬ－Ｈの１．０３Ｍヘキサン溶液（４．７ｍｌ）を添加した。０℃に昇温後、１時間攪拌した。
得られた混合物に飽和酒石酸カリウムナトリウム水溶液を加え、室温で１時間攪拌後、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。
濃縮残渣にトルエン（９．７ｍｌ）、オルト酢酸トリエチル（３．５ｍｌ）およびプロピオン酸（１４．５μｌ）を加え、還流下で一晩攪拌した。
室温に冷却後、水を加えジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９８：２）に付し、上記式で示される中間体４を収率８２．０％で４００．２ｍｇ得た。
得られた中間体４の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 500.16MHz): δ＝7.26(d, 2H, J = 6.3 Hz, ArH), 7.16 (d, 2H, J = 8.1 Hz, ArH), 4.89 (s, 2H, =CH2),4.09-4.02 (m, 2H, -COOCH2-), 3.76 (t, 1H, J = 8.0 Hz, -(Ar)CH-), 2.84 (dd, 1H,J = 7.5 Hz, 15.5 Hz, -CH2COO-), 2.69 (dd, 1H, J = 8.1 Hz, 14.9 Hz, -CH2COO-),1.60 (s, 3H, -CH3), 1.17 (t, 3H, J = 7.4 Hz, -COOCH2CH3).
〔工程２〕
得られた混合物に飽和酒石酸カリウムナトリウム水溶液を加え、室温で１時間攪拌後、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。
濃縮残渣にトルエン（９．７ｍｌ）、オルト酢酸トリエチル（３．５ｍｌ）およびプロピオン酸（１４．５μｌ）を加え、還流下で一晩攪拌した。
室温に冷却後、水を加えジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９８：２）に付し、上記式で示される中間体４を収率８２．０％で４００．２ｍｇ得た。
得られた中間体４の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 500.16MHz): δ＝7.26(d, 2H, J = 6.3 Hz, ArH), 7.16 (d, 2H, J = 8.1 Hz, ArH), 4.89 (s, 2H, =CH2),4.09-4.02 (m, 2H, -COOCH2-), 3.76 (t, 1H, J = 8.0 Hz, -(Ar)CH-), 2.84 (dd, 1H,J = 7.5 Hz, 15.5 Hz, -CH2COO-), 2.69 (dd, 1H, J = 8.1 Hz, 14.9 Hz, -CH2COO-),1.60 (s, 3H, -CH3), 1.17 (t, 3H, J = 7.4 Hz, -COOCH2CH3).
〔工程２〕
【0158】
【化35】
【0159】
中間体４（１９９．３ｍｇ）およびジクロロメタン（３．９ｍｌ）の混合物に－７８℃でＤＩＢＡＬ－Ｈの１．０３Ｍヘキサン溶液（１．９１ｍｌ）を添加した。０℃に昇温後、３０分攪拌した。
得 られた混合物に飽和酒石酸カリウムナトリウム水溶液を加え、室温で１時間攪拌後、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８：２）に付し、上記式で示される中間体５を定量的に１６５．８ｍｇ得た。
得られた中間体５の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 500.16MHz): δ＝7.27(d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 7.16 (d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 4.94 (s, 1H, =CH2),4.87 (s, 1H, =CH2), 3.63 (td, 1H, J = 6.3 Hz, 10.4 Hz, -CH2-), 3.56 (t, 1H, J =6.3 Hz, 10.4 Hz, - CH2-), 3.41 (t, 1H, J = 8.0 Hz, -CH2O-), 2.13 (qd, 1H, J =6.9 Hz, 13.8 Hz, -(Ar)CH-), 1.96-1.88 (m, 1H, -CH2-), 1.57 (s, 3H, -CH3).
〔工程３〕
得 られた混合物に飽和酒石酸カリウムナトリウム水溶液を加え、室温で１時間攪拌後、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８：２）に付し、上記式で示される中間体５を定量的に１６５．８ｍｇ得た。
得られた中間体５の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 500.16MHz): δ＝7.27(d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 7.16 (d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 4.94 (s, 1H, =CH2),4.87 (s, 1H, =CH2), 3.63 (td, 1H, J = 6.3 Hz, 10.4 Hz, -CH2-), 3.56 (t, 1H, J =6.3 Hz, 10.4 Hz, - CH2-), 3.41 (t, 1H, J = 8.0 Hz, -CH2O-), 2.13 (qd, 1H, J =6.9 Hz, 13.8 Hz, -(Ar)CH-), 1.96-1.88 (m, 1H, -CH2-), 1.57 (s, 3H, -CH3).
〔工程３〕
【0160】
【化36】
【0161】
中間体５（１６５．８ｍｇ）、ジクロロメタン（３．９ｍｌ）、トリエチルアミン（２８５μｌ）、トシルクロリド（１９５．５ｍｇ）および４－ジメチルアミノピリジン（４．８ｍｇ）の混合物を室温で一晩攪拌した。
得られた混合物に飽和重曹水を加え、ジクロロエタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン： 酢酸エチル＝９５：５）に付し、上記式で示される中間体６を収率９３．０％で２６９．１ｍｇ得た。
得られた中間体６の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 500.16MHz): δ＝7.74(d, 2H, J = 8.1 Hz, -SO2ArH), 7.33 (d, 2H, J = 8.0 Hz, -ArH), 7.19 (d, 2H, J =8.1 Hz, ArH), 7.01 (d, 2H, J = 8.6 Hz, -SO2ArH), 4.84 (s, 1H=CH2), 4.81 (s, 1H,=CH2), 4.01 (td, 1H, J = 5.7 Hz, 9.8 Hz, -CH2-), 3.86-3.82 (m, 1H, -CH2-), 3.29(t, 1H, J = 8.1 Hz, -(Ar)CH-), 2.46 (s, 3H, -ArCH3), 2.23 (qd, 1H, J = 6.9 Hz,14.3 Hz, -CH2-), 1.99-1.92 (m, 1H, -CH2-), 1.50 (s, 3H, -CH3).
〔工程４〕
得られた混合物に飽和重曹水を加え、ジクロロエタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン： 酢酸エチル＝９５：５）に付し、上記式で示される中間体６を収率９３．０％で２６９．１ｍｇ得た。
得られた中間体６の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 500.16MHz): δ＝7.74(d, 2H, J = 8.1 Hz, -SO2ArH), 7.33 (d, 2H, J = 8.0 Hz, -ArH), 7.19 (d, 2H, J =8.1 Hz, ArH), 7.01 (d, 2H, J = 8.6 Hz, -SO2ArH), 4.84 (s, 1H=CH2), 4.81 (s, 1H,=CH2), 4.01 (td, 1H, J = 5.7 Hz, 9.8 Hz, -CH2-), 3.86-3.82 (m, 1H, -CH2-), 3.29(t, 1H, J = 8.1 Hz, -(Ar)CH-), 2.46 (s, 3H, -ArCH3), 2.23 (qd, 1H, J = 6.9 Hz,14.3 Hz, -CH2-), 1.99-1.92 (m, 1H, -CH2-), 1.50 (s, 3H, -CH3).
〔工程４〕
【0162】
【化37】
【0163】
中間体６（１６８．２ｍｇ）、ジメチルスルホキシド（０．９２ｍｌ）およびシアン化ナトリウム（１１３ｍｇ）の混合物を７５℃で１時間攪拌した。
得られた混合物を室温まで放冷し、飽和重曹水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５）に付し、上記式で示される中間体７を定量的に１０５．３ｍｇ得た。
得られた中間体７の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 500.16MHz): δ＝7.30(d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 7.15 (d, 2H, J = 8.0 Hz, ArH), 4.94 (s, 2H, =CH2),3.32 (t, 1H, J = 8.0 Hz, -(Ar)CH-), 2.33-2.27 (m, 1H, -CH2-), 2.24-2.16 (m, 2H,-CH2-), 2.04-1.97 (m, 1H, -CH2-), 1.57 (s, 3H, -CH3).
〔工程５〕
得られた混合物を室温まで放冷し、飽和重曹水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５）に付し、上記式で示される中間体７を定量的に１０５．３ｍｇ得た。
得られた中間体７の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 500.16MHz): δ＝7.30(d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 7.15 (d, 2H, J = 8.0 Hz, ArH), 4.94 (s, 2H, =CH2),3.32 (t, 1H, J = 8.0 Hz, -(Ar)CH-), 2.33-2.27 (m, 1H, -CH2-), 2.24-2.16 (m, 2H,-CH2-), 2.04-1.97 (m, 1H, -CH2-), 1.57 (s, 3H, -CH3).
〔工程５〕
【0164】
【化38】
【0165】
中間体７（１０５．３ｍｇ）およびジクロロメタン（２．３ｍｌ）の混合物に－７８℃でＤＩＢＡＬ－Ｈの１．０３Ｍヘキサン溶液（８９５μｌ）を添加した。０℃に昇温後、３０分攪拌した。
得られた混合物に１０％酒石酸水溶液を加え、室温で１時間攪拌後、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。
得られた残渣に亜塩素酸ナトリウム（２０８．５ｍｇ）、リン酸水素ナトリウム（１７９．８ｍｇ）、アミレン（４９７μｌ）、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール（１．７３ｍｌ）および水（５７６μｌ）を加え、室温で３０分攪拌した。
得られた混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。
濃縮残渣にメタノール（２．３ｍｌ）を加え、室温でトリメチルシリルジアゾメタン１０％ヘキサン溶液（１．１５ｍｌ）を滴下した。
得られた混合物を室温で３０分攪拌し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９８：２）に付し、上記式で示される中間体８を収率９１％で１０６．１ｍｇ得た。
得られた中間体８の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 500.16MHz): δ＝7.27(d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 7.14 (d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 4.92 (s, 1H, =CH2),4.88 (s, 1H, =CH2), 3.65 (s, 3H-COOCH3), 3.18 (t, 1H, J = 7.5 Hz, -(Ar)CH-),2.30-2.21 (m, 2H, -CH2-), 2.18-2.11 (m, 1H, -CH2-), 2.05-1.97 (m, 1H, -CH2-),1.55 (s, 3H, -CH3).
〔工程６〕
得られた混合物に１０％酒石酸水溶液を加え、室温で１時間攪拌後、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を飽和重曹水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。
得られた残渣に亜塩素酸ナトリウム（２０８．５ｍｇ）、リン酸水素ナトリウム（１７９．８ｍｇ）、アミレン（４９７μｌ）、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール（１．７３ｍｌ）および水（５７６μｌ）を加え、室温で３０分攪拌した。
得られた混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。
濃縮残渣にメタノール（２．３ｍｌ）を加え、室温でトリメチルシリルジアゾメタン１０％ヘキサン溶液（１．１５ｍｌ）を滴下した。
得られた混合物を室温で３０分攪拌し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９８：２）に付し、上記式で示される中間体８を収率９１％で１０６．１ｍｇ得た。
得られた中間体８の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 500.16MHz): δ＝7.27(d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 7.14 (d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 4.92 (s, 1H, =CH2),4.88 (s, 1H, =CH2), 3.65 (s, 3H-COOCH3), 3.18 (t, 1H, J = 7.5 Hz, -(Ar)CH-),2.30-2.21 (m, 2H, -CH2-), 2.18-2.11 (m, 1H, -CH2-), 2.05-1.97 (m, 1H, -CH2-),1.55 (s, 3H, -CH3).
〔工程６〕
【0166】
【化39】
【0167】
シュウ酸鉄(ＩＩＩ)六水和物（４９１．１ｍｇ）および水（８．５ｍｌ）の混合物に氷冷下でチオシアン酸カリウム（１９７．３ｍｇ）、エタノール（８．１ｍｌ）、中間体８（５１．３ｍｇ）および水素化ホウ素ナトリウム（４９．１ｍｇ）を添加し、アルゴン雰囲気下で１．５時間攪拌した。
得られた混合物にアンモニア水を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８：２）に付し、上記式で示される中間体９を収率６４．０％で４０．０ｍｇ得た。
得られた中間体９の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 500.16MHz): δ＝7.33(d, 2H, J = 8.0 Hz, ArH), 7.16 (d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 3.63 (s, 3H, -COOCH3),2.91-2.88 (m, 1H, -(Ar)CH-), 2.40-2.33 (m, 1H, -CH2-), 2.13-2.03 (m, 3H,-CH2CH2-), 1.51 (s, 3H, -CH3), 1.48 (s, 3H, -CH3).
〔工程７〕
得られた混合物にアンモニア水を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８：２）に付し、上記式で示される中間体９を収率６４．０％で４０．０ｍｇ得た。
得られた中間体９の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 500.16MHz): δ＝7.33(d, 2H, J = 8.0 Hz, ArH), 7.16 (d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 3.63 (s, 3H, -COOCH3),2.91-2.88 (m, 1H, -(Ar)CH-), 2.40-2.33 (m, 1H, -CH2-), 2.13-2.03 (m, 3H,-CH2CH2-), 1.51 (s, 3H, -CH3), 1.48 (s, 3H, -CH3).
〔工程７〕
【0168】
【化40】
【0169】
中間体９（７．６ｍｇ）、ベンゼン（２４０μｌ）、トリメチルアルミニウム２Ｍトルエン溶液（２４．４μｌ）、ビス(トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスフィン)パラジウム（０）（２．５ｍｇ）の混合物をアルゴン雰囲気下、室温で３０分攪拌した。
得られた混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１０）に付し、化合物Ａ－６を収率５３．０％で３．３ｍｇ得た。
得られた混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１０）に付し、化合物Ａ－６を収率５３．０％で３．３ｍｇ得た。
【0170】
〔製造実施例３〕
５，５－ジメチル－４－（ｐ－トリル）ジヒドロフラン－２（３Ｈ）－チオン（化合物Ｂ－２）の合成
５，５－ジメチル－４－（ｐ－トリル）ジヒドロフラン－２（３Ｈ）－チオン（化合物Ｂ－２）の合成
【0171】
【化41】
【0172】
化合物１８（０．２３ｇ）、トルエン（１０ｍｌ）およびローソン試薬（０．８９ｇ）の混合物を還流下で一晩攪拌した。
得られた混合物を室温まで放冷し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、化合物Ｂ－２を収率８１．９％で０．１９ｇ得た。
得られた混合物を室温まで放冷し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、化合物Ｂ－２を収率８１．９％で０．１９ｇ得た。
【0173】
〔製造実施例４〕
５，５－ジメチル－４－（ｐ－トリル）ジヒドロチオフェン－２（３Ｈ）－オン（化合物Ｂ－６）の合成
５，５－ジメチル－４－（ｐ－トリル）ジヒドロチオフェン－２（３Ｈ）－オン（化合物Ｂ－６）の合成
【0174】
【化42】
【0175】
化合物Ｂ－２（０．１９ｇ）、１，２－ジクロロエタン（９ｍＬ）および１Ｍ二塩化エチルアルミニウムヘキサン溶液（１．４ｍＬ）の混合物を７０℃で一晩攪拌した。
得られた混合物を室温まで放冷し、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５）に付し、化合物Ｂ－６を収率５０．５％で０．１０ｇ得た。
得られた混合物を室温まで放冷し、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５）に付し、化合物Ｂ－６を収率５０．５％で０．１０ｇ得た。
【0176】
〔製造実施例５〕
４－（４－クロロフェニル）－３，３－ジメチルイソチアゾリジン－１，１－ジオキシド（化合物B-12）の合成
〔工程１〕
４－（４－クロロフェニル）－３，３－ジメチルイソチアゾリジン－１，１－ジオキシド（化合物B-12）の合成
〔工程１〕
【0177】
【化43】
【0178】
ＤＭＦ（１２．８ｍｌ）に氷冷下で塩化スルフリル（１３．４ｍｌ）を加えた。室温で３０分攪拌後、４－クロロ－スチレン（１１．５０ｇ）を加えた。得られた混合物を９０℃で３時間攪拌した。
得られた混合物を室温まで放冷し、水を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。
得られた濃縮残渣にジクロロメタン（３００ｍｌ）およびトリエチルアミン（１２．６ｇ）を加え、氷冷下でフェノール（８．２１ｇ）を加えた。得られた混合物を室温で一晩攪拌した。
飽和食塩水を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、上記式で示される中間体１０を収率４４．７％で１０．９４ｇ得た。
得られた中間体１０の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.50-7.24(m, 10H, ArH, -CH=CH-), 6.84 (d, 2H, J = 15.6 Hz, -CH=CH-).
〔工程２〕
得られた混合物を室温まで放冷し、水を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。
得られた濃縮残渣にジクロロメタン（３００ｍｌ）およびトリエチルアミン（１２．６ｇ）を加え、氷冷下でフェノール（８．２１ｇ）を加えた。得られた混合物を室温で一晩攪拌した。
飽和食塩水を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、上記式で示される中間体１０を収率４４．７％で１０．９４ｇ得た。
得られた中間体１０の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.50-7.24(m, 10H, ArH, -CH=CH-), 6.84 (d, 2H, J = 15.6 Hz, -CH=CH-).
〔工程２〕
【0179】
【化44】
【0180】
中間体１０（１０．９４ｇ）、アセトニトリル（１００ｍｌ）、２－ニトロプロパン（４．９６ｇ）およびＤＢＵ（８．４８ｇ）の混合物を室温で一晩攪拌した。
１Ｎ塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、上記式で示される中間体１１を収率６６．２％で９．４３ｇ得た。
得られた中間体１１の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.36-7.26(m, 5H, ArH), 7.18-7.15 (m, 2H, ArH), 6.99-6.97 (m, 2H, ArH), 3.96-3.74 (m, 3H,-C(Ar)HCH2-), 1.58 (s, 6H, -CH3).
〔工程３〕
１Ｎ塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、上記式で示される中間体１１を収率６６．２％で９．４３ｇ得た。
得られた中間体１１の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.36-7.26(m, 5H, ArH), 7.18-7.15 (m, 2H, ArH), 6.99-6.97 (m, 2H, ArH), 3.96-3.74 (m, 3H,-C(Ar)HCH2-), 1.58 (s, 6H, -CH3).
〔工程３〕
【0181】
【化45】
【0182】
中間体１１（１．１５ｇ）、酢酸（１５ｍｌ）および亜鉛（３．９２ｇ）の混合物を５０℃で一晩攪拌した。得られた混合物を室温まで放冷し、セライトろ過した。得られたろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。
得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：メタノール＝８：２）に付し、上記式で示される中間体１２を収率３９．５％で０．４２ｇ得た。
得られた中間体１２の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.33-7.22(m, 7H, ArH), 7.00-6.97 (m, 2H, ArH), 4.12-4.08 (m, 1H, -CH2-), 3.77-3.75 (m,1H, -CH2-), 3.24-3.20 (m, 1H, -C(Ar)H-), 1.15 (s, 3H, -CH3), 1.03 (s, 3H, -CH3).
〔工程３〕
得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：メタノール＝８：２）に付し、上記式で示される中間体１２を収率３９．５％で０．４２ｇ得た。
得られた中間体１２の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.33-7.22(m, 7H, ArH), 7.00-6.97 (m, 2H, ArH), 4.12-4.08 (m, 1H, -CH2-), 3.77-3.75 (m,1H, -CH2-), 3.24-3.20 (m, 1H, -C(Ar)H-), 1.15 (s, 3H, -CH3), 1.03 (s, 3H, -CH3).
〔工程３〕
【0183】
【化46】
【0184】
中間体１２（０．４２ｇ）およびトルエン（６．０ｍｌ）の混合物を還流下で一晩攪拌した。
得られた混合物を室温まで放冷し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：５）に付し、化合物Ｂ－１２を収率７９．４％で０．２１ｇ得た。
得られた混合物を室温まで放冷し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：５）に付し、化合物Ｂ－１２を収率７９．４％で０．２１ｇ得た。
【0185】
〔製造実施例６〕
４，４－ジメチル－５－フェニル－３－アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン－２－オン（化合物Ｃ－１）の合成
〔工程１〕
４，４－ジメチル－５－フェニル－３－アザビシクロ［３．１．０］ヘキサン－２－オン（化合物Ｃ－１）の合成
〔工程１〕
【0186】
【化47】
【0187】
１．９Ｍ ＮａＨＭＤＳ／ＴＨＦ溶液（３９．５ｍｌ）にＴＨＦ（１０ｍｌ）を加え、－１０℃に冷却した。この溶液に、シアン化ベンジル（３．５１ｇ）およびＴＨＦ（４５ｍｌ）の混合溶液を滴下し、－１０℃で１０分撹拌した。得られた混合物にエピクロロヒドリン（２．５４ｍｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。
得られた混合物に４Ｍジオキサン塩酸（３０ｍｌ）を添加し室温で１．５時間撹拌した後、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。
得られた濃縮残渣にＴＨＦ（５０ｍｌ）、３ＭＭｅＭｇＣｌ／ＴＨＦ溶液（３２ｍｌ）を順次加え、混合物を加熱還流下３０分撹拌した。得られた混合物を室温まで放冷した後、オルトチタン酸テトライソプロピル（８．１８ｍｌ）を滴下し、室温で３日間撹拌した。
得られた混合物に氷冷下、飽和塩化アンモニウム水溶液及び２Ｎ塩酸を添加し、セライトろ過した。ろ液を酢酸エチルで洗浄した後、得られた水層に飽和重曹水を加えて塩基性にした。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。
得られた濃縮残渣にジクロメタン（２５ｍｌ）および二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチル（２．６０ｇ）を加え、室温で一晩撹拌した。
得られた混合物を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、上記式で示される中間体１３を収率１２．３％で１．１３ｇ得た。
得られた中間体１３の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.35-7.19(m, 5H, ArH), 5.41-5.35 (m, 1H, -NH-), 4.31 (s, 1H, -OH), 4.11-3.77 (m, 2H,-CH2-), 1.48 (s, 3H, -CH3), 1.46 (s, 9H, -(CH3)3), 1.29 (s, 3H, -CH3),1.28-1.24 (m, 1H, -CH2-), 1.15-1.11 (m, 1H, -CH2-), 0.77-0.65 (m, 1H, -C(C)H-).
〔工程２〕
得られた混合物に４Ｍジオキサン塩酸（３０ｍｌ）を添加し室温で１．５時間撹拌した後、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。
得られた濃縮残渣にＴＨＦ（５０ｍｌ）、３ＭＭｅＭｇＣｌ／ＴＨＦ溶液（３２ｍｌ）を順次加え、混合物を加熱還流下３０分撹拌した。得られた混合物を室温まで放冷した後、オルトチタン酸テトライソプロピル（８．１８ｍｌ）を滴下し、室温で３日間撹拌した。
得られた混合物に氷冷下、飽和塩化アンモニウム水溶液及び２Ｎ塩酸を添加し、セライトろ過した。ろ液を酢酸エチルで洗浄した後、得られた水層に飽和重曹水を加えて塩基性にした。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。
得られた濃縮残渣にジクロメタン（２５ｍｌ）および二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチル（２．６０ｇ）を加え、室温で一晩撹拌した。
得られた混合物を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）に付し、上記式で示される中間体１３を収率１２．３％で１．１３ｇ得た。
得られた中間体１３の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.35-7.19(m, 5H, ArH), 5.41-5.35 (m, 1H, -NH-), 4.31 (s, 1H, -OH), 4.11-3.77 (m, 2H,-CH2-), 1.48 (s, 3H, -CH3), 1.46 (s, 9H, -(CH3)3), 1.29 (s, 3H, -CH3),1.28-1.24 (m, 1H, -CH2-), 1.15-1.11 (m, 1H, -CH2-), 0.77-0.65 (m, 1H, -C(C)H-).
〔工程２〕
【0188】
【化48】
【0189】
中間体１３（１．１３ｇ）、ＤＭＦ（３０ｍｌ）、モレキュラーシーブス４Ａ（４ｇ）および二クロム酸ピリジニウム（４．１８ｇ）の混合物を室温で一晩攪拌した。
得られた混合物を氷冷し、セライトろ過した。得られたろ液に水及び２Ｎ塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、上記式で示される中間体１４を収率８１．６％で０．９１ｇ得た。
得られた中間体１４の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.35-7.31(m, 5H, ArH), 2.25 (dd, 1H, -COC(C)H-), 1.60 (s, 3H, -CH3), 1.53 (s, 9H,-(CH3)3), 1.36-1.30 (m, 2H, -CH2-), 1.25 (s, 3H, -CH3).
〔工程３〕
得られた混合物を氷冷し、セライトろ過した。得られたろ液に水及び２Ｎ塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、上記式で示される中間体１４を収率８１．６％で０．９１ｇ得た。
得られた中間体１４の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.35-7.31(m, 5H, ArH), 2.25 (dd, 1H, -COC(C)H-), 1.60 (s, 3H, -CH3), 1.53 (s, 9H,-(CH3)3), 1.36-1.30 (m, 2H, -CH2-), 1.25 (s, 3H, -CH3).
〔工程３〕
【0190】
【化49】
【0191】
中間体１４（０．５０ｇ）、ジクロロメタン（７ｍｌ）および４Ｍジオキサン塩酸（３．３２ｍｌ）の混合物を室温で３時間攪拌した。
得られた混合物に氷冷下で飽和重曹水を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、化合物C-1を収率９５．２％で０．３２ｇ得た。
得られた混合物に氷冷下で飽和重曹水を加え、ジクロロメタンで抽出した。得られた有機層を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、化合物C-1を収率９５．２％で０．３２ｇ得た。
【0192】
前記の製造実施例の化合物および同様の方法で製造した化合物（Ｉ）の一例を第２表～第５表に示す。併せて物性値として融点も示す。
【0193】
【表2】
【0194】
【表3】
【0195】
【表4】
【0196】
【表5】
【0197】
第２表～第５表に記載した化合物のうち、融点の欄に＊を付した化合物は、非晶または粘性オイルの性状を有する化合物であった。その1Ｈ－ＮＭＲデータを以下に示す。
化合物番号A-1：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.32-7.21(m, 5H, ArH), 5.64 (brs, 1H, -NH-), 2.87-2.84 (m, 1H,-C(Ar)H-), 2.60-1.91 (m, 4H, -CH2CH2-), 1.20 (s, 3H, -CH3), 1.08 (s, 3H, -CH3).
化合物番号A-3：1H-NMR(CDCl3 ,399.78MHz): δ＝7.26-7.08 (m, 4H, ArH), 5.61(brs, 1H, -NH-), 2.84-2.80 (m, 1H,-C(Ar)H-), 2.60-1.87 (m, 4H, -CH2CH2-), 2.31(s ,3H, ArCH3), 1.19 (s, 3H, -CH3),1.07 (s, 3H, -CH3).
化合物番号A-4：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.99 (d, 2H, J = 8.1Hz, ArH), 7.30 (d, 2H, J = 8.1Hz, ArH), 5.79(brs, 1H, -NH-), 3.92 (s, 3H, -COOCH3), 2.94-2.91 (m, 1H, -C(Ar)H-), 2.61-1.92(m, 4H, -CH2CH2-), 1.21 (s, 3H, -CH3), 1.08 (s, 3H, -CH3).
化合物番号A-5：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.33-7.28 (m, 3H, ArH), 7.22-7.20 (m, 2H, ArH), 3.15-3.13 (m, 1H,-C(Ar)H-), 2.85-2.10 (m, 4H, -CH2CH2-), 1.39 (s, 3H, -CH3), 1.32 (s, 3H, -CH3).
化合物番号A-6：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.32-7.31 (d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 7.16-7.14 (d, 2H, J = 8.0 Hz,ArH), 3.14 (dd, 1H, J = 1.7 Hz, 12.0 Hz, -C(Ar)H-), 2.86-2.81 (m, 1H,-CH2CH2-), 2.74 (ddd, 1H, J = 5.8 Hz, 12.1 Hz, 17.8 Hz, -CH2CH2-), 2.58-2.49(m, 1H, -CH2CH2-), 2.10-2.05 (m, 1H, -CH2CH2-), 2.85-2.06 (m, 4H, -CH2CH2-),1.36 (s, 3H, -CH3), 1.30(s, 3H, -CH3).
化合物番号A-7：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.13 (d, 2H, J = 8.1Hz, ArH), 7.09 (d, 2H, J = 8.0 Hz, ArH),3.11-3.09 (m, 1H, -C(Ar)H-), 2.85-2.06 (m, 4H, -CH2CH2-), 2.34(s, 3H, ArCH3),1.37(s, 3H, -CH3), 1.30 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-1：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.37-7.18 (m, 5H, ArH), 3.55-3.49 (m, 3H, -C(Ar)HCH2-), 1.64 (s, 3H,-CH3), 1.12 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-2：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.17-7.07 (m, 4H, ArH), 3.50-3.48 (m, 3H, -C(Ar)HCH2-), 2.35 (s, 3H,ArCH3), 1.62 (s, 3H, -CH3), 1.12 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-3：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.26-6.94 (m, 3H, ArH), 3.79-3.39 (m, 3H, -C(Ar)HCH2-), 2.30 (s, 3H,-ArCH3), 2.28 (s, 3H, -ArCH3), 1.64 (s, 3H, -CH3), 1.16 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-4：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.36-7.22 (m, 5H, ArH), 3.63-2.87 (m, 3H, -C(Ar)HCH2-), 1.57 (s, 3H,-CH3), 1.31 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-5：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.49 (d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 7.13 (d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH),3.58-2.87 (m, 3H, -C(Ar)HCH2-), 1.55 (s, 3H, -CH3), 1.29 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-9：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.39-7.24 (m, 5H, ArH), 4.26 (brs, 1H, -NH-), 3.79-3.53 (m, 3H,-C(Ar)HCH2-), 1.40 (s, 3H, -CH3), 1.11 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-10：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.52-7.12 (m, 4H, ArH), 4.20 (brs, 1H, -NH-), 3.75-3.54 (m, 3H,-C(Ar)HCH2-), 1.40 (s, 3H, -CH3), 1.11 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-12：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.37-7.18 (m, 4H, ArH), 4.27 (brs, 1H, -NH-), 3.74-3.55 (m, 3H,-C(Ar)HCH2-), 1.40 (s, 3H, -CH3), 1.10 (s, 3H, -CH3).
化合物番号C-1：1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.35-7.28 (m, 5H, ArH), 5.06 (s, 1H, -NH-), 2.20-2.16 (m, 1H,-COCH-), 1.38 (s, 3H, -CH3), 1.35-1.33 (dd, 1H, -CH2-), 1.28-1.25 (dd, 1H,-CH2-), 1.08 (s, 3H, -CH3).
化合物番号D-2：1H-NMR(CDCl3 ,399.78MHz): δ＝7.06-7.01 (m, 3H, ArH), 3.77-3.73 (m, 1H, -C(Ar)H-), 3.04-2.81 (m,2H, -CH2-), 2.32 (s ,3H, ArCH3), 2.30 (s ,3H, ArCH3), 1.54 (s, 3H, -CH3), 1.09(s, 3H, -CH3).
化合物番号D-4：1H-NMR(CDCl3 ,399.78MHz): δ＝6.94 (s, 1H, ArH), 6.81 (s, 1H, ArH), 3.45-3.41 (m, 1H, -C(Ar)H-),3.02-2.82 (m, 2H, -CH2-), 2.32 (s ,6H, ArCH3), 1.54 (s, 3H, -CH3), 1.06 (s, 3H,-CH3).
化合物番号D-5：1H-NMR(CDCl3 ,399.78MHz): δ＝7.20-7.12 (m, 4H, ArH), 3.51-3.47 (m, 1H, -C(Ar)H-), 3.03-2.83 (m,2H, -CH2-), 2.65 (q, 2H, J = 7.6 Hz, 15.6 Hz, -ArCH2- ), 1.54 (s, 3H, -CH3) ,1.23 (t, 3H, J = 7.2 Hz, -CH2CH3), 1.05 (s, 3H, -CH3).
化合物番号D-19：1H-NMR(CDCl3 ,399.78MHz): δ＝7.09 (s, 1H, ArH), 7.05-7.00 (m, 2H, ArH), 6.41 (brs, 1H, -NH-),5.86 (d, 1H, J = 2Hz, =CH-), 2.50 (s ,3H, ArCH3), 2.24 (s ,3H, ArCH3), 1.41 (s,6H, -CH3).
化合物番号A-1：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.32-7.21(m, 5H, ArH), 5.64 (brs, 1H, -NH-), 2.87-2.84 (m, 1H,-C(Ar)H-), 2.60-1.91 (m, 4H, -CH2CH2-), 1.20 (s, 3H, -CH3), 1.08 (s, 3H, -CH3).
化合物番号A-3：1H-NMR(CDCl3 ,399.78MHz): δ＝7.26-7.08 (m, 4H, ArH), 5.61(brs, 1H, -NH-), 2.84-2.80 (m, 1H,-C(Ar)H-), 2.60-1.87 (m, 4H, -CH2CH2-), 2.31(s ,3H, ArCH3), 1.19 (s, 3H, -CH3),1.07 (s, 3H, -CH3).
化合物番号A-4：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.99 (d, 2H, J = 8.1Hz, ArH), 7.30 (d, 2H, J = 8.1Hz, ArH), 5.79(brs, 1H, -NH-), 3.92 (s, 3H, -COOCH3), 2.94-2.91 (m, 1H, -C(Ar)H-), 2.61-1.92(m, 4H, -CH2CH2-), 1.21 (s, 3H, -CH3), 1.08 (s, 3H, -CH3).
化合物番号A-5：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.33-7.28 (m, 3H, ArH), 7.22-7.20 (m, 2H, ArH), 3.15-3.13 (m, 1H,-C(Ar)H-), 2.85-2.10 (m, 4H, -CH2CH2-), 1.39 (s, 3H, -CH3), 1.32 (s, 3H, -CH3).
化合物番号A-6：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.32-7.31 (d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 7.16-7.14 (d, 2H, J = 8.0 Hz,ArH), 3.14 (dd, 1H, J = 1.7 Hz, 12.0 Hz, -C(Ar)H-), 2.86-2.81 (m, 1H,-CH2CH2-), 2.74 (ddd, 1H, J = 5.8 Hz, 12.1 Hz, 17.8 Hz, -CH2CH2-), 2.58-2.49(m, 1H, -CH2CH2-), 2.10-2.05 (m, 1H, -CH2CH2-), 2.85-2.06 (m, 4H, -CH2CH2-),1.36 (s, 3H, -CH3), 1.30(s, 3H, -CH3).
化合物番号A-7：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.13 (d, 2H, J = 8.1Hz, ArH), 7.09 (d, 2H, J = 8.0 Hz, ArH),3.11-3.09 (m, 1H, -C(Ar)H-), 2.85-2.06 (m, 4H, -CH2CH2-), 2.34(s, 3H, ArCH3),1.37(s, 3H, -CH3), 1.30 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-1：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.37-7.18 (m, 5H, ArH), 3.55-3.49 (m, 3H, -C(Ar)HCH2-), 1.64 (s, 3H,-CH3), 1.12 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-2：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.17-7.07 (m, 4H, ArH), 3.50-3.48 (m, 3H, -C(Ar)HCH2-), 2.35 (s, 3H,ArCH3), 1.62 (s, 3H, -CH3), 1.12 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-3：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.26-6.94 (m, 3H, ArH), 3.79-3.39 (m, 3H, -C(Ar)HCH2-), 2.30 (s, 3H,-ArCH3), 2.28 (s, 3H, -ArCH3), 1.64 (s, 3H, -CH3), 1.16 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-4：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.36-7.22 (m, 5H, ArH), 3.63-2.87 (m, 3H, -C(Ar)HCH2-), 1.57 (s, 3H,-CH3), 1.31 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-5：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.49 (d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH), 7.13 (d, 2H, J = 8.6 Hz, ArH),3.58-2.87 (m, 3H, -C(Ar)HCH2-), 1.55 (s, 3H, -CH3), 1.29 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-9：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.39-7.24 (m, 5H, ArH), 4.26 (brs, 1H, -NH-), 3.79-3.53 (m, 3H,-C(Ar)HCH2-), 1.40 (s, 3H, -CH3), 1.11 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-10：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.52-7.12 (m, 4H, ArH), 4.20 (brs, 1H, -NH-), 3.75-3.54 (m, 3H,-C(Ar)HCH2-), 1.40 (s, 3H, -CH3), 1.11 (s, 3H, -CH3).
化合物番号B-12：1H-NMR(CDCl3 ,500.16MHz): δ＝7.37-7.18 (m, 4H, ArH), 4.27 (brs, 1H, -NH-), 3.74-3.55 (m, 3H,-C(Ar)HCH2-), 1.40 (s, 3H, -CH3), 1.10 (s, 3H, -CH3).
化合物番号C-1：1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.35-7.28 (m, 5H, ArH), 5.06 (s, 1H, -NH-), 2.20-2.16 (m, 1H,-COCH-), 1.38 (s, 3H, -CH3), 1.35-1.33 (dd, 1H, -CH2-), 1.28-1.25 (dd, 1H,-CH2-), 1.08 (s, 3H, -CH3).
化合物番号D-2：1H-NMR(CDCl3 ,399.78MHz): δ＝7.06-7.01 (m, 3H, ArH), 3.77-3.73 (m, 1H, -C(Ar)H-), 3.04-2.81 (m,2H, -CH2-), 2.32 (s ,3H, ArCH3), 2.30 (s ,3H, ArCH3), 1.54 (s, 3H, -CH3), 1.09(s, 3H, -CH3).
化合物番号D-4：1H-NMR(CDCl3 ,399.78MHz): δ＝6.94 (s, 1H, ArH), 6.81 (s, 1H, ArH), 3.45-3.41 (m, 1H, -C(Ar)H-),3.02-2.82 (m, 2H, -CH2-), 2.32 (s ,6H, ArCH3), 1.54 (s, 3H, -CH3), 1.06 (s, 3H,-CH3).
化合物番号D-5：1H-NMR(CDCl3 ,399.78MHz): δ＝7.20-7.12 (m, 4H, ArH), 3.51-3.47 (m, 1H, -C(Ar)H-), 3.03-2.83 (m,2H, -CH2-), 2.65 (q, 2H, J = 7.6 Hz, 15.6 Hz, -ArCH2- ), 1.54 (s, 3H, -CH3) ,1.23 (t, 3H, J = 7.2 Hz, -CH2CH3), 1.05 (s, 3H, -CH3).
化合物番号D-19：1H-NMR(CDCl3 ,399.78MHz): δ＝7.09 (s, 1H, ArH), 7.05-7.00 (m, 2H, ArH), 6.41 (brs, 1H, -NH-),5.86 (d, 1H, J = 2Hz, =CH-), 2.50 (s ,3H, ArCH3), 2.24 (s ,3H, ArCH3), 1.41 (s,6H, -CH3).
【0198】
〔光学活性な化合物の製造方法〕
以下に示す光学活性な化合物番号２の化合物（化合物番号２（－）と記す。）についても製造した。化学式中の＊は鏡像異性体過剰化合物であることを示す。
以下に示す光学活性な化合物番号２の化合物（化合物番号２（－）と記す。）についても製造した。化学式中の＊は鏡像異性体過剰化合物であることを示す。
【0199】
【化50】
【0200】
化合物２（－）の比旋光度は（－）であった。詳しくは、「比旋光度［α］（３６５ｎｍ、２５℃）＝－９８．８（ｃ１．０５７、ジクロロメタン）」であった。融点は、１５４－１５５℃であった。鏡像体過剰率は９９．８％ｅｅであった。
その製造方法を以下に示す。
その製造方法を以下に示す。
【0201】
〔製造実施例７〕
（－）－５，５－ジメチル－４－（４－メチルフェニル）－２－ピロリジノン（化合物２（－））の合成
〔工程１〕
（－）－５，５－ジメチル－４－（４－メチルフェニル）－２－ピロリジノン（化合物２（－））の合成
〔工程１〕
【0202】
【化51】
【0203】
ethyl (E)-3-(p-tolyl)acrylate（１１８．５９ｇ）、アセトニトリル（３００ｍｌ）、２－ニトロプロパン（１４０．２４ｍＬ）及びＤＢＵ（２３２．６０ｍＬ）の混合物を室温で一晩攪拌した。
１Ｎ塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５）に付し、上記式で示される中間体１５を収率８６．３％で１５０．３５ｇ得た。
得られた中間体１５の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.12-7.07(m, 4H, ArH), 4.02-3.90 (m, 2H, -COOCH2-), 3.88-3.84 (m, 1H, -C(Ar)H-),2.89-2.60 (m, 2H, - CH2COO-), 2.31 (s, 3H, -ＡｒCH3),1.57 (s, 3H, -CH3), 1.48 (s, 3H, -CH3), 1.05 (ｔ, 3H, J = 6.8 Hz, -ＣＨ2CH3).
〔工程２〕
１Ｎ塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５）に付し、上記式で示される中間体１５を収率８６．３％で１５０．３５ｇ得た。
得られた中間体１５の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.12-7.07(m, 4H, ArH), 4.02-3.90 (m, 2H, -COOCH2-), 3.88-3.84 (m, 1H, -C(Ar)H-),2.89-2.60 (m, 2H, - CH2COO-), 2.31 (s, 3H, -ＡｒCH3),1.57 (s, 3H, -CH3), 1.48 (s, 3H, -CH3), 1.05 (ｔ, 3H, J = 6.8 Hz, -ＣＨ2CH3).
〔工程２〕
【0204】
【化52】
【0205】
中間体１５（５．５８ｇ）、メタノール（２０ｍｌ）、及び水酸化カリウム（１．６８ｇ）の混合物を室温で一晩攪拌した。
得られた混合物に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた水層に、濃塩酸を加え、ジクロロエタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮し、上記式で示される中間体１６を収率７４．６％で３．７５ｇ得た。
得られた中間体１６の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.12-7.05(m, 4H, ArH), 3.83-3.79 (m, 1H, -C(Ar)H-), 2.91-2.61 (m, 2H, - CH2COO-), 2.31(s, 3H, -ＡｒCH3), 1.54 (s, 3H, -CH3), 1.45 (s, 3H, -CH3).
〔工程３〕
得られた混合物に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた水層に、濃塩酸を加え、ジクロロエタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮し、上記式で示される中間体１６を収率７４．６％で３．７５ｇ得た。
得られた中間体１６の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.12-7.05(m, 4H, ArH), 3.83-3.79 (m, 1H, -C(Ar)H-), 2.91-2.61 (m, 2H, - CH2COO-), 2.31(s, 3H, -ＡｒCH3), 1.54 (s, 3H, -CH3), 1.45 (s, 3H, -CH3).
〔工程３〕
【0206】
【化53】
【0207】
中間体１６（２．５１ｇ）、ジクロロメタン（２００ｍｌ）、(S)-1-(naphthalen-2-yl)ethan-1-amine（２．１０ｇ）、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（３．８３ｇ）及び４－ジメチルアミノピリジン（０．３７ｇ）の混合物を室温で一晩攪拌した。
得られた混合物に水を加え、ジクロロエタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、上記式で示される中間体１７－１を収率９４．６％で１．９１ｇ、中間体１７－２を収率９１．１％で１．８４ｇ得た。
得られた中間体１７－１の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.80-7.73 (m, 3H, ArH), 7.53 (s, 1H,ArH), 7.49-7.43 (m, 2H, ArH), 7.19-7.17 (m, 1H, ArH), 7.13-7.06 (m, 4H, ArH),5.48 (brd, 1H, J = 7.6 Hz, -NH-), 5.09-5.02 (m, 1H, -C*(Me)H-), 3.78-3.74 (m,1H, -C(Ar)H-), 2.71-2.62 (m, 2H, - CH2CO-), 2.32 (s, 3H, -ＡｒCH3), 1.55 (s, 3H, -CH3), 1.52 (s, 3H, -CH3), 1.28-1.23 (m, 3H,C*-CH3).
得られた中間体１７－２の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.78-7.75 (m, 1H, ArH), 7.69-7.66 (m,1H, ArH), 7.61 (d, 1H, J = 8 Hz, ArH), 7.47-7.41 (m, 2H, ArH), 7.38 (s, 1H,ArH), 7.05-7.01 (m, 4H, ArH), 6.89-6.86 (m, 1H, ArH), 5.48 (brd, 1H, J = 8.4Hz, -NH-), 5.13-5.05 (m, 1H, -C*(Me)H-), 3.79-3.75 (m, 1H, -C(Ar)H-), 2.72-2.61(m, 2H, - CH2CO-), 2.27 (s, 3H, -ＡｒCH3), 1.55 (s, 3H,-CH3), 1.54 (s, 3H, -CH3), 1.44-1.42 (m, 3H, C*-CH3).
〔工程４〕
得られた混合物に水を加え、ジクロロエタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、上記式で示される中間体１７－１を収率９４．６％で１．９１ｇ、中間体１７－２を収率９１．１％で１．８４ｇ得た。
得られた中間体１７－１の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.80-7.73 (m, 3H, ArH), 7.53 (s, 1H,ArH), 7.49-7.43 (m, 2H, ArH), 7.19-7.17 (m, 1H, ArH), 7.13-7.06 (m, 4H, ArH),5.48 (brd, 1H, J = 7.6 Hz, -NH-), 5.09-5.02 (m, 1H, -C*(Me)H-), 3.78-3.74 (m,1H, -C(Ar)H-), 2.71-2.62 (m, 2H, - CH2CO-), 2.32 (s, 3H, -ＡｒCH3), 1.55 (s, 3H, -CH3), 1.52 (s, 3H, -CH3), 1.28-1.23 (m, 3H,C*-CH3).
得られた中間体１７－２の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.78-7.75 (m, 1H, ArH), 7.69-7.66 (m,1H, ArH), 7.61 (d, 1H, J = 8 Hz, ArH), 7.47-7.41 (m, 2H, ArH), 7.38 (s, 1H,ArH), 7.05-7.01 (m, 4H, ArH), 6.89-6.86 (m, 1H, ArH), 5.48 (brd, 1H, J = 8.4Hz, -NH-), 5.13-5.05 (m, 1H, -C*(Me)H-), 3.79-3.75 (m, 1H, -C(Ar)H-), 2.72-2.61(m, 2H, - CH2CO-), 2.27 (s, 3H, -ＡｒCH3), 1.55 (s, 3H,-CH3), 1.54 (s, 3H, -CH3), 1.44-1.42 (m, 3H, C*-CH3).
〔工程４〕
【0208】
【化54】
【0209】
中間体１７－１（１．９０ｇ）、酢酸（１５ｍｌ）、無水酢酸（３０ｍｌ）及び亜硝酸ナトリウム（３．２４ｇ）の混合物を室温で一晩攪拌した。
得られた混合物に重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣にＴＨＦ（３０ｍＬ）、水（１５ｍＬ）及び水酸化リチウム（０．２２ｇ）を加え、室温で一晩攪拌した。
得られた混合物に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた水層に、濃塩酸を加え、ジクロロエタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮し、上記式で示される中間体１６－１を収率６３．６％で０．７５ｇ得た。
〔工程５〕
得られた混合物に重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣にＴＨＦ（３０ｍＬ）、水（１５ｍＬ）及び水酸化リチウム（０．２２ｇ）を加え、室温で一晩攪拌した。
得られた混合物に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた水層に、濃塩酸を加え、ジクロロエタンで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮し、上記式で示される中間体１６－１を収率６３．６％で０．７５ｇ得た。
〔工程５〕
【0210】
【化55】
【0211】
中間体１６－１（０．７５ｇ）、ジエチルエーテル（１２ｍｌ）、メタノール（３ｍｌ）の混合物に、氷冷下でトリメチルシリルジアゾメタン１０％ヘキサン溶液（３．０ｍｌ）を加えた。室温に昇温後、１時間攪拌した。
得られた混合物に酢酸を加え、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、上記式で示される中間体１８－１を収率８８．４％で０．７０ｇ得た。
得られた中間体１８－１の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.12-7.07(m, 4H, ArH), 3.88-3.85 (m, 1H, -C(Ar)H-), 3.51 (s, 3H,-COOCH3), 2.91-2.61 (m, 2H, - CH2COO-), 2.31 (s, 3H, -ArCH3), 1.56 (s, 3H,-CH3), 1.47 (s, 3H, -CH3).
〔工程６〕
得られた混合物に酢酸を加え、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）に付し、上記式で示される中間体１８－１を収率８８．４％で０．７０ｇ得た。
得られた中間体１８－１の１H－ＮＭＲデータを以下に示す。
1H-NMR(CDCl3 , 399.78MHz): δ＝7.12-7.07(m, 4H, ArH), 3.88-3.85 (m, 1H, -C(Ar)H-), 3.51 (s, 3H,-COOCH3), 2.91-2.61 (m, 2H, - CH2COO-), 2.31 (s, 3H, -ArCH3), 1.56 (s, 3H,-CH3), 1.47 (s, 3H, -CH3).
〔工程６〕
【0212】
【化56】
【0213】
中間体１８－１（０．７０ｇ）、エタノール（１２ｍＬ）、飽和塩化アンモニウム水溶液（３ｍｌ）および亜鉛（１．４６ｇ）の混合物を還流下で一晩攪拌した。
得られた混合物を室温まで放冷し、セライトろ過した。得られたろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：メタノール＝９：１）に付し、化合物２（－）（９９．８％ｅｅ）を収率７６．７％で０．４３ｇ得た。
得られた混合物を室温まで放冷し、セライトろ過した。得られたろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：メタノール＝９：１）に付し、化合物２（－）（９９．８％ｅｅ）を収率７６．７％で０．４３ｇ得た。
【0214】
同様に以下に示す光学活性な化合物番号１の化合物（化合物番号１（－）と記す。）についても製造した。化学式中の＊は鏡像異性体過剰化合物であることを示す。
【0215】
【化57】
【0216】
化合物１（－）の比旋光度は（－）であった。詳しくは、「比旋光度［α］（３６５ｎｍ、２５℃）＝－１１０．４（ｃ１．０８７、ジクロロメタン）」であった。融点は、１１９－１２１℃であった。鏡像体過剰率は９９．７％ｅｅであった。
【0217】
同様に以下に示す光学活性な化合物番号３の化合物（化合物番号３（－）と記す。）についても製造した。化学式中の＊は鏡像異性体過剰化合物であることを示す。
【0218】
【化58】
【0219】
化合物３（－）の比旋光度は（－）であった。詳しくは、「比旋光度［α］（３６５ｎｍ、２５℃）＝－８６．３（ｃ１．６２９、ジクロロメタン）」であった。融点は、１７４－１７５℃であった。鏡像体過剰率は９９．２％ｅｅであった。
【0220】
以下に示す光学活性な化合物番号Ｂ－１２の化合物（化合物番号Ｂ－１２（－）と記す。）についても製造した。化学式中の＊は鏡像異性体過剰化合物であることを示す。
【0221】
【化59】
【0222】
この化合物は、キラル分離用カラムを用いて、分取精製を行うことで製造した。
化合物Ｂ－１２（－）の比旋光度は（－）であった。詳しくは、「比旋光度［α］（３６５ｎｍ、２５℃）＝－５３．８８（ｃ１．６２９、ジクロロメタン）」であった。鏡像体過剰率は９９．９％ｅｅであった。
化合物Ｂ－１２（－）の比旋光度は（－）であった。詳しくは、「比旋光度［α］（３６５ｎｍ、２５℃）＝－５３．８８（ｃ１．６２９、ジクロロメタン）」であった。鏡像体過剰率は９９．９％ｅｅであった。
【0223】
分取の条件を以下に示す。分取用の試料は、化合物Ｂ－１２に２-プロパノールを加え、濃度２０ｍｇ／ｍLの溶液を作成し、これにさらにｎ－ヘプタンを加え濃度１０ｍｇ／ｍＬの溶液とすることで調製した。
（分取条件）
Column：CHIRALARTCellulose-C(5μm) 250x30mm Ｉ.D.
Eluent：n-heptane/2-propanol(50/50)
Flow rate：21.3 mL/min
Temperature：ambient
Detection：UV at 230nm
Load：330 mg (10mg/mL)
System：LC-Forte/R(YMC)
（分取条件）
Column：CHIRALARTCellulose-C(5μm) 250x30mm Ｉ.D.
Eluent：n-heptane/2-propanol(50/50)
Flow rate：21.3 mL/min
Temperature：ambient
Detection：UV at 230nm
Load：330 mg (10mg/mL)
System：LC-Forte/R(YMC)
【0224】
上記の製造方法を参考に、比旋光度が（＋）の化合物も製造した。それぞれの物性データを以下に示す。
化合物番号１（＋）：（＋）－５，５－ジメチル－４－フェニル－２－ピロリジノン
「比旋光度［α］（３６５ｎｍ、２５℃）＝＋１１０．２（ｃ１．３７５、ジクロロメタン）」であった。融点は、１２０－１２１℃であった。鏡像体過剰率は９９．７％ｅｅであった。
化合物番号２（＋）：（＋）－５，５－ジメチル－４－（４－メチルフェニル）－２－ピロリジノン
「比旋光度［α］（３６５ｎｍ、２５℃）＝＋９４．２（ｃ１．１４３、ジクロロメタン）」であった。融点は、１５４－１５５℃であった。鏡像体過剰率は９８．８％ｅｅであった。
化合物番号３（＋）：（＋）－５，５－ジメチル－４－（４－クロロフェニル）－２－ピロリジノン
「比旋光度［α］（３６５ｎｍ、２５℃）＝＋８６．３（ｃ０．７９２、ジクロロメタン）」であった。融点は、１７４－１７５℃であった。鏡像体過剰率は９９．６％ｅｅであった。
化合物番号B-12（＋）：（＋）－４－（４－クロロフェニル）－３，３－ジメチルイソチアゾリジン－１，１－ジオキシド
「比旋光度［α］（３６５ｎｍ、２５℃）＝＋５６．０９（ｃ０．７９２、ジクロロメタン）」であった。融点は、１７９－１８０℃であった。鏡像体過剰率は９９．９％ｅｅであった。
化合物番号１（＋）：（＋）－５，５－ジメチル－４－フェニル－２－ピロリジノン
「比旋光度［α］（３６５ｎｍ、２５℃）＝＋１１０．２（ｃ１．３７５、ジクロロメタン）」であった。融点は、１２０－１２１℃であった。鏡像体過剰率は９９．７％ｅｅであった。
化合物番号２（＋）：（＋）－５，５－ジメチル－４－（４－メチルフェニル）－２－ピロリジノン
「比旋光度［α］（３６５ｎｍ、２５℃）＝＋９４．２（ｃ１．１４３、ジクロロメタン）」であった。融点は、１５４－１５５℃であった。鏡像体過剰率は９８．８％ｅｅであった。
化合物番号３（＋）：（＋）－５，５－ジメチル－４－（４－クロロフェニル）－２－ピロリジノン
「比旋光度［α］（３６５ｎｍ、２５℃）＝＋８６．３（ｃ０．７９２、ジクロロメタン）」であった。融点は、１７４－１７５℃であった。鏡像体過剰率は９９．６％ｅｅであった。
化合物番号B-12（＋）：（＋）－４－（４－クロロフェニル）－３，３－ジメチルイソチアゾリジン－１，１－ジオキシド
「比旋光度［α］（３６５ｎｍ、２５℃）＝＋５６．０９（ｃ０．７９２、ジクロロメタン）」であった。融点は、１７９－１８０℃であった。鏡像体過剰率は９９．９％ｅｅであった。
【0225】
〔製剤例〕
本発明の防除剤に関する製剤例を若干示すが、化合物（Ｉ）（有効成分）、添加物及び添加割合は、本実施例にのみ限定されることなく、広い範囲で変更可能である。製剤実施例中の部は重量部を示す。
（製剤実施例１）水和剤
化合物（Ｉ） ２０部
ホワイトカーボン ２０部
ケイソウ土 ５２部
アルキル硫酸ソーダ ８部
以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分２０％の水和剤を得る。
（製剤実施例２）乳剤
化合物（Ｉ） ２０部
キシレン ５５部
ジメチルホルムアミド １５部
ポリオキシエチレンフェニルエーテル １０部
以上を混合、溶解して有効成分２０％の乳剤を得る。
（製剤実施例３）粒剤
化合物（Ｉ） ５部
タルク ４０部
クレイ ３８部
ベントナイト １０部
アルキル硫酸ソーダ ７部
以上を均一に混合して微細に粉砕後、直径０．５～１．０ｍｍの粒状に造粒して有効成分５％の粒剤を得る。
（製剤実施例４）液剤
化合物（Ｉ） １０部
ジメチルスルホキシド ７５部
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ５部
ポリオキシエチレン高級脂肪酸エーテル １０部
以上を混合、溶解して有効成分１０％の液剤を得る。
本発明の防除剤に関する製剤例を若干示すが、化合物（Ｉ）（有効成分）、添加物及び添加割合は、本実施例にのみ限定されることなく、広い範囲で変更可能である。製剤実施例中の部は重量部を示す。
（製剤実施例１）水和剤
化合物（Ｉ） ２０部
ホワイトカーボン ２０部
ケイソウ土 ５２部
アルキル硫酸ソーダ ８部
以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分２０％の水和剤を得る。
（製剤実施例２）乳剤
化合物（Ｉ） ２０部
キシレン ５５部
ジメチルホルムアミド １５部
ポリオキシエチレンフェニルエーテル １０部
以上を混合、溶解して有効成分２０％の乳剤を得る。
（製剤実施例３）粒剤
化合物（Ｉ） ５部
タルク ４０部
クレイ ３８部
ベントナイト １０部
アルキル硫酸ソーダ ７部
以上を均一に混合して微細に粉砕後、直径０．５～１．０ｍｍの粒状に造粒して有効成分５％の粒剤を得る。
（製剤実施例４）液剤
化合物（Ｉ） １０部
ジメチルスルホキシド ７５部
ポリオキシエチレンアルキルエーテル ５部
ポリオキシエチレン高級脂肪酸エーテル １０部
以上を混合、溶解して有効成分１０％の液剤を得る。
【0226】
〔生物試験例〕
（試験例１）ジャガイモシロシストセンチュウ卵に対するふ化促進効果評価試験（液浸試験）
（１）供試薬液の調製
ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート（Ｔｗｅｅｎ２０）を０．０５％（ｖ／ｖ）含有する水溶液に対し、所定量の化合物（Ｉ）を溶解させて、化合物（Ｉ）の１００ｐｐｍ溶液を調製した。
化合物（Ｉ）の１００ｐｐｍ溶液を、さらに０．０５％（ｖ／ｖ）Ｔｗｅｅｎ２０水溶液で希釈し、化合物（Ｉ）の濃度が２ｐｐｍの供試薬液を調製した。
（２）試験方法
前年以前に温室で増殖させたジャガイモシロシストセンチュウのシストを集め、蒸留水に浸漬して１６℃で約２週間保温した後、シストをメスで破砕して卵を取り出し、卵懸濁液を得た。１ｍＬあたり約６００卵の密度になるように調製した後、Ｔｗｅｅｎ２０を０．０５％（ｖ／ｖ）濃度になるように加えた。この卵懸濁液を容量１３．５ｍＬのスクリューキャップガラスバイアル（内径２．１ｃｍ、高さ４．８ｃｍ）に１ｍＬ入れ、化合物（Ｉ）の濃度が２ｐｐｍの供試薬液を１ｍＬずつ加え、蓋をして１６℃で保温した。
約２週間後に１ｍＬを取りだし、実体顕微鏡下でふ化幼虫数と未ふ化卵数を計数した。各化合物につき２反復を設置し、平均ふ化率を算出した。
（３）試験結果
試験結果を以下の表６に示す。
（試験例１）ジャガイモシロシストセンチュウ卵に対するふ化促進効果評価試験（液浸試験）
（１）供試薬液の調製
ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート（Ｔｗｅｅｎ２０）を０．０５％（ｖ／ｖ）含有する水溶液に対し、所定量の化合物（Ｉ）を溶解させて、化合物（Ｉ）の１００ｐｐｍ溶液を調製した。
化合物（Ｉ）の１００ｐｐｍ溶液を、さらに０．０５％（ｖ／ｖ）Ｔｗｅｅｎ２０水溶液で希釈し、化合物（Ｉ）の濃度が２ｐｐｍの供試薬液を調製した。
（２）試験方法
前年以前に温室で増殖させたジャガイモシロシストセンチュウのシストを集め、蒸留水に浸漬して１６℃で約２週間保温した後、シストをメスで破砕して卵を取り出し、卵懸濁液を得た。１ｍＬあたり約６００卵の密度になるように調製した後、Ｔｗｅｅｎ２０を０．０５％（ｖ／ｖ）濃度になるように加えた。この卵懸濁液を容量１３．５ｍＬのスクリューキャップガラスバイアル（内径２．１ｃｍ、高さ４．８ｃｍ）に１ｍＬ入れ、化合物（Ｉ）の濃度が２ｐｐｍの供試薬液を１ｍＬずつ加え、蓋をして１６℃で保温した。
約２週間後に１ｍＬを取りだし、実体顕微鏡下でふ化幼虫数と未ふ化卵数を計数した。各化合物につき２反復を設置し、平均ふ化率を算出した。
（３）試験結果
試験結果を以下の表６に示す。
【0227】
【表6】
【0228】
（４）光学活性な化合物についての試験結果
化合物（Ｉ）のうちで、光学活性な化合物についての試験結果を以下の表７に示す。なお、いくつかの化合物については、さらに低濃度まで試験を行った。
化合物（Ｉ）のうちで、光学活性な化合物についての試験結果を以下の表７に示す。なお、いくつかの化合物については、さらに低濃度まで試験を行った。
【0229】
【表7】
【0230】
（試験例２）ジャガイモシロシストセンチュウに対する密度低減試験（ポット試験）
（１）供試薬液の調製
化合物（Ｉ）２０ｍｇをジメチルスルホキシド１ｍＬに溶解したあと、０．１％のポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート水溶液１９９ｍＬを加えて化合物（Ｉ）の濃度が１００ｐｐｍの供試薬液を得た。また、これを蒸留水で１０倍に希釈し、１０ｐｐｍの供試薬液を調製した。
（２）試験方法
ジャガイモシロシストセンチュウが発生する畑から土壌を採取し、卵密度を次のように調査した。乾燥させた土壌１００ｇからふるい分けシスト流し法によってシストを分離・破砕し、実体顕微鏡下で卵数を計数した。これを初期密度とした。
採取した畑土壌８００ｍＬに１００ｐｐｍまたは１０ｐｐｍに調製した供試薬液３２ｍＬを加えてよく攪拌し、１０．５ｃｍロングポット（上径１０．５ｃｍ、高さ２２．５ｃｍ）に詰め、植物を無栽培の状態で温室に置き３０日間管理した。各ポットには６～７日おきに蒸留水を２６ｍＬずつ灌水した。
３０日後に土壌をアルミバットにあけて風乾し、乾燥土壌１００ｇから上記と同様にシストを分離して残卵数を計数した（処理後密度）。各化合物について１濃度あたり３ポットを設置し、初期密度とそれぞれの処理後密度から平均密度低下率を算出した。
（３）試験結果
化合物番号２、３、４、５、１２、１８、Ａ－３、およびＤ－１５の化合物について本試験を行った。化合物による処理を行わなかったポットを無処理区とした。
試験結果を以下の表８に示す。
（１）供試薬液の調製
化合物（Ｉ）２０ｍｇをジメチルスルホキシド１ｍＬに溶解したあと、０．１％のポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート水溶液１９９ｍＬを加えて化合物（Ｉ）の濃度が１００ｐｐｍの供試薬液を得た。また、これを蒸留水で１０倍に希釈し、１０ｐｐｍの供試薬液を調製した。
（２）試験方法
ジャガイモシロシストセンチュウが発生する畑から土壌を採取し、卵密度を次のように調査した。乾燥させた土壌１００ｇからふるい分けシスト流し法によってシストを分離・破砕し、実体顕微鏡下で卵数を計数した。これを初期密度とした。
採取した畑土壌８００ｍＬに１００ｐｐｍまたは１０ｐｐｍに調製した供試薬液３２ｍＬを加えてよく攪拌し、１０．５ｃｍロングポット（上径１０．５ｃｍ、高さ２２．５ｃｍ）に詰め、植物を無栽培の状態で温室に置き３０日間管理した。各ポットには６～７日おきに蒸留水を２６ｍＬずつ灌水した。
３０日後に土壌をアルミバットにあけて風乾し、乾燥土壌１００ｇから上記と同様にシストを分離して残卵数を計数した（処理後密度）。各化合物について１濃度あたり３ポットを設置し、初期密度とそれぞれの処理後密度から平均密度低下率を算出した。
（３）試験結果
化合物番号２、３、４、５、１２、１８、Ａ－３、およびＤ－１５の化合物について本試験を行った。化合物による処理を行わなかったポットを無処理区とした。
試験結果を以下の表８に示す。
【0231】
【表8】
【0232】
（試験例３）ジャガイモシロシストセンチュウに対する密度低減試験（圃場小区画試験）
（１）供試薬液の調製
製剤実施例４を参考に、化合物番号２の化合物の１０％液剤を調製した。この１０％液剤を蒸留水で希釈し、３００ｐｐｍ、３０ｐｐｍ、および３ｐｐｍ濃度の供試薬液を調製した。
（２）試験方法
ジャガイモシロシストセンチュウが発生する畑に小区画を設置し、化合物製剤を処理して線虫密度低減効果を調査した。小区画は、幅２５ｃｍの塩化ビニル製の板を筒状に丸めて直径３０ｃｍの円筒を作製し、それを深さ２０ｃｍまで埋め込むことによって設置した。これを圃場内に多数設置し、初期密度調査用の土壌を採取した後、各濃度の供試薬液を１平方メートルあたり５または１Ｌの割合で散布し（７０．７ｍＬ／枠）、移植ごてで混合した（深さ約１５ｃｍ）。これによって薬剤投下量が異なる４種の処理区を設け、それぞれの薬剤投下量は、１０ａあたり１５００、３００、３０、３ｇである。
約８０日後に枠内の土壌を採取し、土壌中の線虫卵密度は以下のように調査した。乾燥させた土壌１００ｇからふるい分けシスト流し法によってシストを分離し、メスで破砕して卵を取り出し、蒸留水に懸濁させて一定量を取り出し、実体顕微鏡下で卵数を計数した。
各濃度につき４区画ずつ設置し、それぞれ初期密度と処理後密度から平均密度低下率を算出した。
（３）試験結果
当該化合物（化合物番号２）処理により、土壌中のＧｐ密度は大きく低下した。薬剤投下量ごとのＧｐ密度低下率は以下の通りであった。１０ａ当たり３０ｇ以上の投下量ではＧｐ密度を８０％以上低下させ、密度低減に卓効を示した。
投下量１５００ｇ／１０ａ：９８．４％
３００ｇ／１０ａ：９４．４％
３０ｇ／１０ａ：８８．８％
３ｇ／１０ａ：６５．６％
０ｇ／１０ａ（無処理）：９．０％（いずれも４区平均）
（１）供試薬液の調製
製剤実施例４を参考に、化合物番号２の化合物の１０％液剤を調製した。この１０％液剤を蒸留水で希釈し、３００ｐｐｍ、３０ｐｐｍ、および３ｐｐｍ濃度の供試薬液を調製した。
（２）試験方法
ジャガイモシロシストセンチュウが発生する畑に小区画を設置し、化合物製剤を処理して線虫密度低減効果を調査した。小区画は、幅２５ｃｍの塩化ビニル製の板を筒状に丸めて直径３０ｃｍの円筒を作製し、それを深さ２０ｃｍまで埋め込むことによって設置した。これを圃場内に多数設置し、初期密度調査用の土壌を採取した後、各濃度の供試薬液を１平方メートルあたり５または１Ｌの割合で散布し（７０．７ｍＬ／枠）、移植ごてで混合した（深さ約１５ｃｍ）。これによって薬剤投下量が異なる４種の処理区を設け、それぞれの薬剤投下量は、１０ａあたり１５００、３００、３０、３ｇである。
約８０日後に枠内の土壌を採取し、土壌中の線虫卵密度は以下のように調査した。乾燥させた土壌１００ｇからふるい分けシスト流し法によってシストを分離し、メスで破砕して卵を取り出し、蒸留水に懸濁させて一定量を取り出し、実体顕微鏡下で卵数を計数した。
各濃度につき４区画ずつ設置し、それぞれ初期密度と処理後密度から平均密度低下率を算出した。
（３）試験結果
当該化合物（化合物番号２）処理により、土壌中のＧｐ密度は大きく低下した。薬剤投下量ごとのＧｐ密度低下率は以下の通りであった。１０ａ当たり３０ｇ以上の投下量ではＧｐ密度を８０％以上低下させ、密度低減に卓効を示した。
投下量１５００ｇ／１０ａ：９８．４％
３００ｇ／１０ａ：９４．４％
３０ｇ／１０ａ：８８．８％
３ｇ／１０ａ：６５．６％
０ｇ／１０ａ（無処理）：９．０％（いずれも４区平均）
【0233】
化合物（Ｉ）の中から無作為に選択したものが、上記のような効果を奏することから、化合物（Ｉ）は、例示しきれなかった化合物を含め、高いＧｐ防除効果を奏する化合物であることが理解できる。