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特開2024-112329プロセス状態予測システム
発明の名称 プロセス状態予測システム
出願人 東京エレクトロン株式会社 （識別番号 219967）
特許公開件数ランキング 35 位（570件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 20 位（748件）（共同出願を含む）
出願人 国立大学法人北海道大学 （識別番号 504173471）
特許公開件数ランキング 602 位（118件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 463 位（97件）（共同出願を含む）
公報番号 特開-2024-112329
公報発行日 2024年8月21
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2024-112329
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