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特開2024-145995アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024145995
(43)【公開日】2024-10-15
(54)【発明の名称】アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法
(51)【国際特許分類】
C07F 9/50 20060101AFI20241004BHJP
【ＦＩ】
C07F9/50
【審査請求】未請求
【請求項の数】13
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023058649
(22)【出願日】2023-03-31
(71)【出願人】
【識別番号】504137912
【氏名又は名称】国立大学法人 東京大学
(71)【出願人】
【識別番号】000004455
【氏名又は名称】株式会社レゾナック
(71)【出願人】
【識別番号】303060664
【氏名又は名称】日本ポリエチレン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100099759
【弁理士】
【氏名又は名称】青木 篤
(74)【代理人】
【識別番号】100123582
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 真二
(74)【代理人】
【識別番号】100146466
【弁理士】
【氏名又は名称】高橋 正俊
(74)【代理人】
【識別番号】100202418
【弁理士】
【氏名又は名称】河原 肇
(74)【代理人】
【識別番号】100210697
【弁理士】
【氏名又は名称】日浅 里美
(72)【発明者】
【氏名】野崎 京子
(72)【発明者】
【氏名】岩▲崎▼ 孝紀
(72)【発明者】
【氏名】木村 健人
(72)【発明者】
【氏名】黒田 潤一
(72)【発明者】
【氏名】黒川 菜摘
(72)【発明者】
【氏名】櫻木 努
【テーマコード（参考）】
4H050
【Ｆターム（参考）】
4H050AA02
4H050AB90
4H050WA15
4H050WA26
(57)【要約】
【課題】アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物を高い収率で製造すること。
【解決手段】特定のアラルキルハライドを０価の金属マグネシウム、特定の２価の亜鉛化合物、及び特定の１価のリチウム化合物と反応させて、中間体であるアラルキル基を有する亜鉛化合物を得ることと、前記アラルキル基を有する亜鉛化合物とホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物とを反応させることとを含む製造方法。
【選択図】なし
【解決手段】特定のアラルキルハライドを０価の金属マグネシウム、特定の２価の亜鉛化合物、及び特定の１価のリチウム化合物と反応させて、中間体であるアラルキル基を有する亜鉛化合物を得ることと、前記アラルキル基を有する亜鉛化合物とホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物とを反応させることとを含む製造方法。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
一般式（１）
（式中、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、アルコキシ基、アリールオキシ基、水素原子若しくは炭化水素基で置換されたシリル基、アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、又は水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアシロキシ基からなる群から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい総炭素原子数１～１８０の炭化水素基を表し、Ｒ６及びＲ７の少なくとも一方は、一般式（２）
（式中、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数１～１０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基で置換された総炭素原子数２～２０の炭化水素基、炭素原子数６～１０のアリールオキシ基で置換された総炭素原子数７～２０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～１０のアリールオキシ基、及び炭素原子数２～１０のアシロキシ基からなる群より選ばれるいずれかを表し、Ｒ１７とＲ２２は、単結合を形成していてもよい。なお、一般式（２）では、炭素原子と一般式（１）におけるＰとの結合も表記している。）で表されるアラルキル基である。Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０の炭化水素基、炭素原子数１～８のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、水素原子若しくは炭素原子数１～２０の炭化水素基で置換されたシリル基、又はハロゲン原子で置換された炭素原子数１～２０の炭化水素基を表す。Ｒ１２は炭素原子数１～２０の炭化水素基、水素原子若しくは炭素原子数１～２０の炭化水素基で置換されたシリル基、又はハロゲン原子で置換された炭素原子数１～２０の炭化水素基を表す。）
で表される、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法であって、
下記一般式（３）
（式中、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２は一般式（２）と同一であり、Ｘ１はハロゲン原子を表す。）
で表されるアラルキルハライドを、
０価の金属マグネシウム、
下記一般式（４）
（式中、Ｘ２は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数１～１０の炭化水素基で置換されたアミノ基、アルキル基で置換されていてもよいピペリジニル基、又は炭素原子数２～１０のアシロキシ基を表す。）
で表される２価の亜鉛化合物、及び
下記一般式（５）
（式中、Ｘ３はハロゲン原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数１～１０の炭化水素基で置換されたアミノ基、又は炭素原子数２～１０のアシロキシ基を表す。）
で表される１価のリチウム化合物と反応させて、
一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物を生成させることと、
（式中、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、一般式（３）、一般式（４）、及び一般式（５）と同一である。）
前記アラルキル基を有する亜鉛化合物と、一般式（７）
（式中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は、一般式（１）と同一である。Ｘ４はハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、水素原子若しくは炭化水素基で置換されたシリル基、アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、又は水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアシロキシ基からなる群から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい総炭素原子数１～１８０の炭化水素基を表す。Ｘ５はハロゲン原子、炭素原子数１～８のアルコキシ基、又は炭素原子数６～２０のアリールオキシ基を表す。）
で表されるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物とを反応させることとを含む、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【化1】
【化2】
で表される、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法であって、
下記一般式（３）
【化3】
で表されるアラルキルハライドを、
０価の金属マグネシウム、
下記一般式（４）
【化4】
で表される２価の亜鉛化合物、及び
下記一般式（５）
【化5】
で表される１価のリチウム化合物と反応させて、
一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物を生成させることと、
【化6】
前記アラルキル基を有する亜鉛化合物と、一般式（７）
【化7】
で表されるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物とを反応させることとを含む、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項2】
一般式（１）において、Ｒ６及びＲ７が一般式（２）で表される同一のアラルキル基であり、
一般式（７）において、Ｘ４及びＸ５が、同一である、
請求項１に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
一般式（７）において、Ｘ４及びＸ５が、同一である、
請求項１に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項3】
一般式（２）及び一般式（３）において、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数１～１０の炭化水素基、又は炭素原子数１～１０のアルコキシ基である、請求項１又は２に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項4】
一般式（２）及び一般式（３）において、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が全て水素原子である、請求項１又は２に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項5】
一般式（３）において、Ｘ１が塩素原子である、請求項１又は２に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項6】
一般式（１）及び一般式（７）において、Ｒ１２が炭素原子数１～２０の炭化水素基である、請求項１又は２に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項7】
一般式（１）及び一般式（７）において、Ｒ１２がイソブチル基である、請求項１又は２に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項8】
一般式（１）及び一般式（７）において、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１が、全て水素原子である、請求項１又は２に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項9】
一般式（７）において、Ｘ４及びＸ５がハロゲン原子である、請求項１又は２に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項10】
一般式（４）の２つのＸ２、及び一般式（５）のＸ３がハロゲン原子である、請求項１又は２に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項11】
前記アラルキル基を有する亜鉛化合物が、一般式（６－１）で表される亜鉛化合物である、請求項１又は２に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項12】
一般式（４）の２つのＸ２、及び一般式（５）のＸ３が同一のハロゲン原子である、請求項１又は２に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【請求項13】
一般式（４）の２つのＸ２、及び一般式（５）のＸ３が塩素原子である、請求項１又は２に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸化合物は、遷移金属の配位子前駆体として用いることが可能である。当該前駆体から誘導された配位子とパラジウムとで錯形成された金属錯体触媒は、オレフィン重合、特に極性基を有するアリル化合物等の極性基含有モノマーの重合において高い性能を発現することが知られている（国際公開第２０２０／１７５４８２号（特許文献１）、国際公開第２０２３／０３７８４９号（特許文献２））。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】国際公開第２０２０／１７５４８２号
【特許文献2】国際公開第２０２３／０３７８４９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかし、特許文献１及び特許文献２では、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸化合物の合成の収率が低く、工業的に適用するにはより収率の向上が求められていた。
【0005】
特許文献２では、ジフェニルメタンとｎ－ブチルリチウムを反応させてジアリールメチルリチウムを生成させ、次いで、ジクロロホスフィノベンゼンスルホン酸リチウムとジアリールメチルリチウムを反応させて、アラルキル基の１種であるジアリールメチル基を有するホスフィン－スルホン酸化合物を製造している。この方法において、収率は３５％程度と低い。これは、アラルキル基に含まれるメチル基の水素原子が、ジアリールメチルリチウムと副反応を起こすためである。この副反応は、温度等の反応条件を変更しても抑制することができない。
【0006】
特許文献２は、ジアリールクロロメタンに、マグネシウム、塩化亜鉛及び塩化リチウムを作用させて発生させた金属反応剤（分子内に金属元素を有する反応剤）と、ジクロロホスフィノベンゼンスルホン酸リチウムとを反応させて、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸化合物を製造する方法も記載している。しかし、この方法もホスフィン－スルホン酸化合物の合成の収率は十数％程度と低い。これは、金属反応剤とジクロロホスフィノベンゼンスルホン酸リチウムが副反応を起こすためである。
【0007】
本発明者らは、ホスフィン－スルホン酸エステル化合物が極性基含有モノマー等のオレフィンの重合において高い性能を発現することに着目し、ホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法を検討した。具体的には、特開２０１４－１５９５４０号公報に記載の手法を参考にして、ベンゼンスルホン酸イソブチルとｎ－ブチルリチウムを反応させて得られたリチウム化合物をクロロビス（アラルキル）ホスフィンと反応させて、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物を製造するルートを検討した。しかし、このルートでは、ホスフィン化合物が嵩高いため、リチウム化合物とホスフィン化合物との反応が全く進行せず、目的の化合物を取得することはできない。
【0008】
本発明の課題は、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物を高い収率で製造することである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、アラルキルハライドに、０価の金属マグネシウム、２価の亜鉛化合物、及び１価のリチウム化合物を作用させて発生させた金属反応剤と、ホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物とを反応させることにより、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物を高い収率で製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。これは、０価の金属マグネシウム、２価の亜鉛化合物、及び１価のリチウム化合物の存在下で発生させた金属反応剤の反応性が適切であり、かつホスフィノベンゼンスルホン酸のスルホ基が保護されているため、金属反応剤がホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物と円滑に反応し、かつ金属反応剤による副反応が抑制されるためである。
【0010】
すなわち、本発明は以下の［１］～［１３］のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法に関する。
［１］
一般式（１）
（式中、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、アルコキシ基、アリールオキシ基、水素原子若しくは炭化水素基で置換されたシリル基、アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、又は水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアシロキシ基からなる群から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい総炭素原子数１～１８０の炭化水素基を表し、Ｒ６及びＲ７の少なくとも一方は、一般式（２）
（式中、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数１～１０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基で置換された総炭素原子数２～２０の炭化水素基、炭素原子数６～１０のアリールオキシ基で置換された総炭素原子数７～２０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～１０のアリールオキシ基、及び炭素原子数２～１０のアシロキシ基からなる群より選ばれるいずれかを表し、Ｒ１７とＲ２２は、単結合を形成していてもよい。なお、一般式（２）では、炭素原子と一般式（１）におけるＰとの結合も表記している。）で表されるアラルキル基である。Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０の炭化水素基、炭素原子数１～８のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、水素原子若しくは炭素原子数１～２０の炭化水素基で置換されたシリル基、又はハロゲン原子で置換された炭素原子数１～２０の炭化水素基を表す。Ｒ１２は炭素原子数１～２０の炭化水素基、水素原子若しくは炭素原子数１～２０の炭化水素基で置換されたシリル基、又はハロゲン原子で置換された炭素原子数１～２０の炭化水素基を表す。）
で表される、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法であって、
下記一般式（３）
（式中、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２は一般式（２）と同一であり、Ｘ１はハロゲン原子を表す。）
で表されるアラルキルハライドを、
０価の金属マグネシウム、
下記一般式（４）
（式中、Ｘ２は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数１～１０の炭化水素基で置換されたアミノ基、アルキル基で置換されていてもよいピペリジニル基、又は炭素原子数２～１０のアシロキシ基を表す。）
で表される２価の亜鉛化合物、及び
下記一般式（５）
（式中、Ｘ３はハロゲン原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数１～１０の炭化水素基で置換されたアミノ基、又は炭素原子数２～１０のアシロキシ基を表す。）
で表される１価のリチウム化合物と反応させて、
一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物を生成させることと、
（式中、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、一般式（３）、一般式（４）、及び一般式（５）と同一である。）
前記アラルキル基を有する亜鉛化合物と、一般式（７）
（式中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は、一般式（１）と同一である。Ｘ４はハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、水素原子若しくは炭化水素基で置換されたシリル基、アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、又は水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアシロキシ基からなる群から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい総炭素原子数１～１８０の炭化水素基を表す。Ｘ５はハロゲン原子、炭素原子数１～８のアルコキシ基、又は炭素原子数６～２０のアリールオキシ基を表す。）
で表されるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物とを反応させることとを含む、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［２］
一般式（１）において、Ｒ６及びＲ７が一般式（２）で表される同一のアラルキル基であり、
一般式（７）において、Ｘ４及びＸ５が、同一である、
［１］に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［３］
一般式（２）及び一般式（３）において、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数１～１０の炭化水素基、又は炭素原子数１～１０のアルコキシ基である、［１］又は［２］に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［４］
一般式（２）及び一般式（３）において、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が全て水素原子である、［１］～［３］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［５］
一般式（３）において、Ｘ１が塩素原子である、［１］～［４］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［６］
一般式（１）及び一般式（７）において、Ｒ１２が炭素原子数１～２０の炭化水素基である、［１］～［５］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［７］
一般式（１）及び一般式（７）において、Ｒ１２がイソブチル基である、［１］～［６］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［８］
一般式（１）及び一般式（７）において、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１が、全て水素原子である、［１］～［７］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［９］
一般式（７）において、Ｘ４及びＸ５がハロゲン原子である、［１］～［８］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［１０］
一般式（４）の２つのＸ２、及び一般式（５）のＸ３がハロゲン原子である、［１］～［９］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［１１］
前記アラルキル基を有する亜鉛化合物が、一般式（６－１）で表される亜鉛化合物である、［１］～［１０］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［１２］
一般式（４）の２つのＸ２、及び一般式（５）のＸ３が同一のハロゲン原子である、［１］～［１１］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［１３］
一般式（４）の２つのＸ２、及び一般式（５）のＸ３が塩素原子である、［１］～［１２］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［１］
一般式（１）
【化1】
【化2】
で表される、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法であって、
下記一般式（３）
【化3】
で表されるアラルキルハライドを、
０価の金属マグネシウム、
下記一般式（４）
【化4】
で表される２価の亜鉛化合物、及び
下記一般式（５）
【化5】
で表される１価のリチウム化合物と反応させて、
一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物を生成させることと、
【化6】
前記アラルキル基を有する亜鉛化合物と、一般式（７）
【化7】
で表されるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物とを反応させることとを含む、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［２］
一般式（１）において、Ｒ６及びＲ７が一般式（２）で表される同一のアラルキル基であり、
一般式（７）において、Ｘ４及びＸ５が、同一である、
［１］に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［３］
一般式（２）及び一般式（３）において、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数１～１０の炭化水素基、又は炭素原子数１～１０のアルコキシ基である、［１］又は［２］に記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［４］
一般式（２）及び一般式（３）において、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が全て水素原子である、［１］～［３］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［５］
一般式（３）において、Ｘ１が塩素原子である、［１］～［４］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［６］
一般式（１）及び一般式（７）において、Ｒ１２が炭素原子数１～２０の炭化水素基である、［１］～［５］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［７］
一般式（１）及び一般式（７）において、Ｒ１２がイソブチル基である、［１］～［６］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［８］
一般式（１）及び一般式（７）において、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１が、全て水素原子である、［１］～［７］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［９］
一般式（７）において、Ｘ４及びＸ５がハロゲン原子である、［１］～［８］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［１０］
一般式（４）の２つのＸ２、及び一般式（５）のＸ３がハロゲン原子である、［１］～［９］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［１１］
前記アラルキル基を有する亜鉛化合物が、一般式（６－１）で表される亜鉛化合物である、［１］～［１０］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［１２］
一般式（４）の２つのＸ２、及び一般式（５）のＸ３が同一のハロゲン原子である、［１］～［１１］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
［１３］
一般式（４）の２つのＸ２、及び一般式（５）のＸ３が塩素原子である、［１］～［１２］のいずれかに記載のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物を高い収率で製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【0012】
本明細書では、数値範囲について「～」を使用する場合には、両端の数値は、それぞれ上限値及び下限値であり、数値範囲に含まれる。
【0013】
一実施形態のアラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法は、下記一般式（１）で表される、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法に関するものである。
（式中、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、アルコキシ基、アリールオキシ基、水素原子若しくは炭化水素基で置換されたシリル基、アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、又は水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアシロキシ基からなる群から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい総炭素原子数１～１８０の炭化水素基を表し、Ｒ６及びＲ７の少なくとも一方は、一般式（２）
（式中、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数１～１０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基で置換された総炭素原子数２～２０の炭化水素基、炭素原子数６～１０のアリールオキシ基で置換された総炭素原子数７～２０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～１０のアリールオキシ基、及び炭素原子数２～１０のアシロキシ基からなる群より選ばれるいずれかを表し、Ｒ１７とＲ２２は、単結合を形成していてもよい。なお、一般式（２）では、炭素原子と一般式（１）におけるＰとの結合も表記している。）で表されるアラルキル基である。Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０の炭化水素基、炭素原子数１～８のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、水素原子若しくは炭素原子数１～２０の炭化水素基で置換されたシリル基、又はハロゲン原子で置換された炭素原子数１～２０の炭化水素基を表す。Ｒ１２は炭素原子数１～２０の炭化水素基、水素原子若しくは炭素原子数１～２０の炭化水素基で置換されたシリル基、又はハロゲン原子で置換された炭素原子数１～２０の炭化水素基を表す。）
【化8】
【化9】
【0014】
本明細書では、「炭化水素」は、飽和及び不飽和の脂肪族炭化水素、並びに芳香族炭化水素を含む。
【0015】
本明細書では、「総炭素原子数」は、基に含まれるすべての炭素原子の総数を意味する。例えば、炭素原子数１のアルコキシ基で置換された炭素原子数６の炭化水素基の総炭素原子数は、７である。
【0016】
一般式（１）におけるＲ６及びＲ７は、それぞれ独立して、アルコキシ基、アリールオキシ基、水素原子若しくは炭化水素基で置換されたシリル基、アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、又は水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアシロキシ基からなる群から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい総炭素原子数１～１８０の炭化水素基を表し、Ｒ６及びＲ７の少なくとも一方は、一般式（２）で表されるアラルキル基である。
【0017】
Ｒ６とＲ７は同じであっても、異なっていてもよいが、製造が容易なことから同じ基であること、すなわち、一般式（２）で表される同一のアラルキル基であることが好ましい。触媒活性の面から、Ｒ６とＲ７は、両方とも一般式（２）で表されるアラルキル基であることが好ましい。
【0018】
Ｒ６及びＲ７が表すアルコキシ基としては、炭素原子数１～２０のものが好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、及びイソプロポキシ基が挙げられる。
【0019】
Ｒ６及びＲ７が表すアリールオキシ基としては、炭素原子数６～２４のものが好ましく、例えばフェノキシ基が挙げられる。
【0020】
Ｒ６及びＲ７が表す炭化水素基で置換されたシリル基としては、例えばトリメチルシリル基が挙げられる。アルキル基で置換されていてもよいアミノ基としては、例えばアミノ基、メチルアミノ基、及びジメチルアミノ基が挙げられる。
【0021】
Ｒ６及びＲ７が表す水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアシロキシ基からなる群から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい総炭素原子数１～１８０の炭化水素基におけるハロゲン原子は、例えばフッ素原子、塩素原子、又は臭素原子であり、フッ素原子が好ましい。アルコキシ基は、炭素原子数１～２０のものが好ましく、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、及びイソプロポキシ基が挙げられる。アリールオキシ基は、炭素原子数６～２４のものが好ましく、その具体例としては、フェノキシ基が挙げられる。アシロキシ基としては、例えばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、及びベンゾイルオキシ基が挙げられる。総炭素原子数１～１８０の炭化水素基の総炭素原子数は、５～１００が好ましく、１０～５０がより好ましい。水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアシロキシ基からなる群から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい総炭素原子数１～１８０の炭化水素基は、特に限定されないが、少なくとも１つは一般式（２）で表されるアラルキル基である。
【0022】
水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアシロキシ基からなる群から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい総炭素原子数１～１８０の炭化水素基であって、一般式（２）で表される基以外の基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、２－ペンチル基、３－ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ－ヘキシル基、２－ヘキシル基、３－ヘキシル基、２－ヘプチル基、３－ヘプチル基、４－ヘプチル基、２－メチル－４－ヘプチル基、２，６－ジメチル－４－ヘプチル基、３－メチル－４－ヘプチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、１－アダマンチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、２’－メトキシベンジル基、３’－メトキシベンジル基、４’－メトキシベンジル基、４’－トリフルオロメチルベンジル基、フェニル基、２－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、４－メチルフェニル基、２，６－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、２－イソプロピルフェニル基、３－イソプロピルフェニル基、４－イソプロピルフェニル基、２，６－ジイソプロピルフェニル基、３，５－ジイソプロピルフェニル基、２，４，６－トリイソプロピルフェニル基、２－ｔ－ブチルフェニル基、２－シクロヘキシルフェニル基、２－メトキシフェニル基、３－メトキシフェニル基、４－メトキシフェニル基、２，６－ジメトキシフェニル基、３，５－ジメトキシフェニル基、２，４，６－トリメトキシフェニル基、４－フルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、２－フリル基、２－ビフェニル基、２’，６’－ジメトキシ－２－ビフェニル基、２’－メチル－２－ビフェニル基、及び２’，４’，６’－トリイソプロピル－２－ビフェニル基が挙げられる。
【0023】
Ｒ６及びＲ７の少なくとも一方は、一般式（２）
（式中、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数１～１０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基で置換された総炭素原子数２～２０の炭化水素基、炭素原子数６～１０のアリールオキシ基で置換された総炭素原子数７～２０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～１０のアリールオキシ基、及び炭素原子数２～１０のアシロキシ基からなる群より選ばれるいずれかを表し、Ｒ１７とＲ２２は、単結合を形成していてもよい。なお、一般式（２）では、炭素原子と一般式（１）におけるＰとの結合も表記している。）で表されるアラルキル基である。
【化10】
【0024】
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が表すハロゲン原子の具体例としては、ヨウ素原子、フッ素原子、臭素原子、及び塩素原子が挙げられ、特に好ましくはフッ素原子及び塩素原子である。
【0025】
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が表す炭素原子数１～１０の炭化水素基は、アルキル基、又はアリール基であることが好ましい。炭素原子数１～１０の炭化水素基の好ましい例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、及びベンジル基が挙げられ、特に好ましくは、メチル基、イソプロピル基、ｔ－ブチル基、及びフェニル基である。
【0026】
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が表すハロゲン原子で置換された炭素原子数１～１０の炭化水素基の好ましい例としては、１つ以上のハロゲン原子で置換された前述で例示された炭素原子数１～１０の炭化水素基が挙げられ、特に好ましくは、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ペンタフルオロエチル基、及びペンタフルオロフェニル基である。
【0027】
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が表す炭素原子数１～１０のアルコキシ基で置換された総炭素原子数２～２０の炭化水素基中の炭素原子数１～１０のアルコキシ基の好ましい例としては、メトキシ基、エトキシ基、１－プロポキシ基、イソプロポキシ基、１－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、及びペンチロキシ基が挙げられる。炭素原子数１～１０のアルコキシ基で置換された総炭素原子数２～２０の炭化水素基の好ましい例としては、これらのアルコキシ基で置換された前述で例示された炭素原子数１～１０の炭化水素基が挙げられる。特に好ましくは、メトキシメチル基、２－メトキシエチル基、イソプロポキシメチル基、２－イソプロポキシエチル基、２－メトキシフェニル基、３－メトキシフェニル基、及び４－メトキシフェニル基である。
【0028】
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が表す炭素原子数６～１０のアリールオキシ基で置換された総炭素原子数７～２０の炭化水素基中の炭素原子数６～１０のアリールオキシ基の好ましい例としては、フェノキシ基、１－ナフトキシ基、及び２－ナフトキシ基が挙げられる。炭素原子数６～１０のアリールオキシ基で置換された総炭素原子数７～２０の炭化水素基の好ましい例としては、これらのアリールオキシ基で置換された前述で例示された炭素原子数１～１０の炭化水素基が挙げられる。特に好ましくは、フェノキシメチル基、２－フェノキシエチル基、２－フェノキシフェニル基、３－フェノキシフェニル基、及び４－フェノキシフェニル基である。
【0029】
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が表す炭素原子数１～１０のアルコキシ基の好ましい例としては、メトキシ基、エトキシ基、１－プロポキシ基、イソプロポキシ基、１－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、及びペンチロキシ基が挙げられ、特にメトキシ基、及びイソプロポキシ基が好ましい。
【0030】
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が表す炭素原子数６～１０のアリールオキシ基の好ましい例としては、フェノキシ基、１－ナフトキシ基、及び２－ナフトキシ基が挙げられ、特にフェノキシ基が好ましい。
【0031】
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が表す炭素原子数２～１０のアシロキシ基の好ましい例としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ヴァレリルオキシ基、イソヴァレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、及びベンゾイルオキシ基が挙げられ、特に好ましくは、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、及びベンゾイルオキシ基である。
【0032】
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数１～１０の炭化水素基、又は炭素原子数１～１０のアルコキシ基であることが好ましく、水素原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、又は炭素原子数１～１０のアルコキシ基であることがより好ましく、水素原子、又は炭素原子数１～１０の炭化水素基であることが更に好ましい。炭素原子数１～１０の炭化水素基は、炭素原子数１～５のアルキル基であることが好ましく、メチル基、又はｔ－ブチル基であることが更に好ましい。炭素原子数１～１０のアルコキシ基は、炭素原子数１～５のアルコキシ基であることが好ましく、メトキシ基であることが更に好ましい。
【0033】
Ｒ１７とＲ２２が単結合を形成している場合、一般式（２）で表されるアラルキル基はフルオレン環を形成する。この場合も、好ましいＲ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０及びＲ２１は前述のものと同様である。
【0034】
Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２が、全て水素原子であるか、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１～５のアルキル基であることが最も好ましい。
【0035】
一般式（２）で表されるアラルキル基の具体例としては、ジフェニルメチル基、２－メチルジフェニルメチル基、３－メチルジフェニルメチル基、４－メチルジフェニルメチル基、２－エチルジフェニルメチル基、３－エチルジフェニルメチル基、４－エチルジフェニルメチル基、２－ｎ－プロピルジフェニルメチル基、３－ｎ－プロピルジフェニルメチル基、４－ｎ－プロピルジフェニルメチル基、２－イソプロピルジフェニルメチル基、３－イソプロピルジフェニルメチル基、４－イソプロピルジフェニルメチル基、２－ｎ－ブチルジフェニルメチル基、３－ｎ－ブチルジフェニルメチル基、４－ｎ－ブチルジフェニルメチル基、２－イソブチルジフェニルメチル基、３－イソブチルジフェニルメチル基、４－イソブチルジフェニルメチル基、２－ｓｅｃ－ブチルジフェニルメチル基、３－ｓｅｃ－ブチルジフェニルメチル基、４－ｓｅｃ－ブチルジフェニルメチル基、２－ｔ－ブチルジフェニルメチル基、３－ｔ－ブチルジフェニルメチル基、４－ｔ－ブチルジフェニルメチル基、２－メトキシジフェニルメチル基、３－メトキシジフェニルメチル基、４－メトキシジフェニルメチル基、２－エトキシジフェニルメチル基、３－エトキシジフェニルメチル基、４－エトキシジフェニルメチル基、２－ヒドロキシジフェニルメチル基、３－ヒドロキシジフェニルメチル基、４－ヒドロキシジフェニルメチル基、２－トリフルオロメチルジフェニルメチル基、３－トリフルオロメチルジフェニルメチル基、４－トリフルオロメチルジフェニルメチル基、２－フルオロジフェニルメチル基、３－フルオロジフェニルメチル基、４－フルオロジフェニルメチル基、２－クロロジフェニルメチル基、３－クロロジフェニルメチル基、４－クロロジフェニルメチル基、２，３－ジメチルジフェニルメチル基、２，４－ジメチルジフェニルメチル基、２，５－ジメチルジフェニルメチル基、２，３’－ジメチルジフェニルメチル基、２，４’－ジメチルジフェニルメチル基、ビス（２－メチルフェニル）メチル基、３，４－ジメチルジフェニルメチル基、３，５－ジメチルジフェニルメチル基、ビス（３－メチルフェニル）メチル基、３，４’－ジメチルジフェニルメチル基、ビス（４－メチルフェニル）メチル基、２，３－ジエチルジフェニルメチル基、２，４－ジエチルジフェニルメチル基、２，５－ジエチルジフェニルメチル基、２，３’－ジエチルジフェニルメチル基、２，４’－ジエチルジフェニルメチル基、ビス（２－エチルフェニル）メチル基、３，４－ジエチルジフェニルメチル基、３，５－ジエチルジフェニルメチル基、ビス（３－エチルフェニル）メチル基、３，４’－ジエチルジフェニルメチル基、ビス（４－エチルフェニル）メチル基、２，３－ジ－ｎ－プロピルジフェニルメチル基、２，４－ジ－ｎ－プロピルジフェニルメチル基、２，５－ジ－ｎ－プロピルジフェニルメチル基、２，３’－ジ－ｎ－プロピルジフェニルメチル基、２，４’－ジ－ｎ－プロピルジフェニルメチル基、ビス（２－ｎ－プロピルフェニル）メチル基、３，４－ジ－ｎ－プロピルジフェニルメチル基、３，５－ジ－ｎ－プロピルジフェニルメチル基、ビス（３－ｎ－プロピルフェニル）メチル基、３，４’－ジ－ｎ－プロピルジフェニルメチル基、ビス（４－ｎ－プロピルフェニル）メチル基、２，３－ジイソプロピルジフェニルメチル基、２，４－ジイソプロピルジフェニルメチル基、２，５－ジイソプロピルジフェニルメチル基、２，３’－ジイソプロピルジフェニルメチル基、２，４’－ジイソプロピルジフェニルメチル基、ビス（２－イソプロピルフェニル）メチル基、３，４－ジイソプロピルジフェニルメチル基、３，５－ジイソプロピルジフェニルメチル基、ビス（３－イソプロピルフェニル）メチル基、３，４’－ジイソプロピルジフェニルメチル基、ビス（４－イソプロピルフェニル）メチル基、２，３－ジ－ｔ－ブチルジフェニルメチル基、２，４－ジ－ｔ－ブチルジフェニルメチル基、２，５－ジ－ｔ－ブチルジフェニルメチル基、２，３’－ジ－ｔ－ブチルジフェニルメチル基、２，４’－ジ－ｔ－ブチルジフェニルメチル基、ビス（２－ｔ－ブチルフェニル）メチル基、３，４－ジ－ｔ－ブチルジフェニルメチル基、３，５－ジ－ｔ－ブチルジフェニルメチル基、ビス（３－ｔ－ブチルフェニル）メチル基、３，４’－ジ－ｔ－ブチルジフェニルメチル基、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）メチル基、２，３－ジメトキシジフェニルメチル基、２，４－ジメトキシジフェニルメチル基、２，５－ジメトキシジフェニルメチル基、２，３’－ジメトキシジフェニルメチル基、２，４’－ジメトキシジフェニルメチル基、ビス（２－メトキシフェニル）メチル基、３，４－ジメトキシジフェニルメチル基、３，５－ジメトキシジフェニルメチル基、ビス（３－メトキシフェニル）メチル基、３，４’－ジメトキシジフェニルメチル基、ビス（４－メトキシフェニル）メチル基、３－メトキシ－２－メチルジフェニルメチル基、４－メトキシ－２－メチルジフェニルメチル基、５－メトキシ－２－メチルジフェニルメチル基、３－メトキシ－２’－メチルジフェニルメチル基、４－メトキシ－２’－メチルジフェニルメチル基、２－メトキシ－２’－メチルジフェニルメチル基、４－メトキシ－３－メチルジフェニルメチル基、５－メトキシ－３－メチルジフェニルメチル基、３－メトキシ－３’－メチルジフェニルメチル基、４－メトキシ－３’－メチルジフェニルメチル基、４－メトキシ－４’－メチルジフェニルメチル基、２－メトキシ－３－メチルジフェニルメチル基、２－メトキシ－４－メチルジフェニルメチル基、２－メトキシ－５－メチルジフェニルメチル基、２－メトキシ－３’－メチルジフェニルメチル基、２－メトキシ－４’－メチルジフェニルメチル基、３－メトキシ－４－メチルジフェニルメチル基、３－メトキシ－４’－メチルジフェニルメチル基、ビス（２－フルオロフェニル）メチル基、ビス（２－クロロフェニル）メチル基、ビス（３－フルオロフェニル）メチル基、ビス（３－クロロフェニル）メチル基、ビス（４－フルオロフェニル）メチル基、ビス（４－クロロフェニル）メチル基、ビス（２，６－ジメチルフェニル）メチル基、ビス（３，５－ジメチルフェニル）メチル基、ビス（２，６－ジエチルフェニル）メチル基、ビス（３，５－ジエチルフェニル）メチル基、ビス（２，６－ジ－ｎ－プロピルフェニル）メチル基、ビス（３，５－ジ－ｎ－プロピルフェニル）メチル基、ビス（２，６－ジイソプロピルフェニル）メチル基、ビス（３，５－ジイソプロピルフェニル）メチル基、ビス（２，６－ジイソブチルフェニル）メチル基、ビス（３，５－ジイソブチルフェニル）メチル基、ビス（２，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）メチル基、ビス（３，５－ジ－ｔ－ブチルフェニル）メチル基、ビス（２，６－ジメトキシフェニル）メチル基、ビス（３，５－ジメトキシフェニル）メチル基、ビス（２－メトキシ－４－メチルフェニル）メチル基、ビス（２－メトキシ－５－メチルフェニル）メチル基、ビス（２，６－ジフルオロフェニル）メチル基、ビス（３，５－ジフルオロフェニル）メチル基、ビス（２，６－ジクロロフェニル）メチル基、及びビス（３，５－ジクロロフェニル）メチル基が挙げられる。
【0036】
一般式（２）で表されるアラルキル基の具体例としては、９－フルオレニル基、１－メチル－９－フルオレニル基、２－メチル－９－フルオレニル基、３－メチル－９－フルオレニル基、４－メチル－９－フルオレニル基、１－エチル－９－フルオレニル基、２－エチル－９－フルオレニル基、３－エチル－９－フルオレニル基、４－エチル－９－フルオレニル基、１－ｎ－プロピル－９－フルオレニル基、２－ｎ－プロピル－９－フルオレニル基、３－ｎ－プロピル－９－フルオレニル基、４－ｎ－プロピル－９－フルオレニル基、１－イソプロピル－９－フルオレニル基、２－イソプロピル－９－フルオレニル基、３－イソプロピル－９－フルオレニル基、４－イソプロピル－９－フルオレニル基、１－ｎ－ブチル－９－フルオレニル基、２－ｎ－ブチル－９－フルオレニル基、３－ｎ－ブチル－９－フルオレニル基、４－ｎ－ブチル－９－フルオレニル基、１－イソブチル－９－フルオレニル基、２－イソブチル－９－フルオレニル基、３－イソブチル－９－フルオレニル基、４－イソブチル－９－フルオレニル基、１－ｓｅｃ－ブチル－９－フルオレニル基、２－ｓｅｃ－ブチル－９－フルオレニル基、３－ｓｅｃ－ブチル－９－フルオレニル基、４－ｓｅｃ－ブチル－９－フルオレニル基、１－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、２－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、３－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、４－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、１－メトキシ－９－フルオレニル基、２－メトキシ－９－フルオレニル基、３－メトキシ－９－フルオレニル基、４－メトキシ－９－フルオレニル基、１－エトキシ－９－フルオレニル基、２－エトキシ－９－フルオレニル基、３－エトキシ－９－フルオレニル基、４－エトキシ－９－フルオレニル基、１－フェノキシ－９－フルオレニル基、２－フェノキシ－９－フルオレニル基、３－フェノキシ－９－フルオレニル基、４－フェノキシ－９－フルオレニル基、１－トリフルオロメチル－９－フルオレニル基、２－トリフルオロメチル－９－フルオレニル基、３－トリフルオロメチル－９－フルオレニル基、４－トリフルオロメチル－９－フルオレニル基、１，２－ジメチル－９－フルオレニル基、１，３－ジメチル－９－フルオレニル基、１，４－ジメチル－９－フルオレニル基、１，５－ジメチル－９－フルオレニル基、１，６－ジメチル－９－フルオレニル基、１，７－ジメチル－９－フルオレニル基、１，８－ジメチル－９－フルオレニル基、２，３－ジメチル－９－フルオレニル基、２，４－ジメチル－９－フルオレニル基、２，５－ジメチル－９－フルオレニル基、２，６－ジメチル－９－フルオレニル基、２，７－ジメチル－９－フルオレニル基、３，４－ジメチル－９－フルオレニル基、３，５－ジメチル－９－フルオレニル基、３，６－ジメチル－９－フルオレニル基、４，５－ジメチル－９－フルオレニル基、１，２－ジエチル－９－フルオレニル基、１，３－ジエチル－９－フルオレニル基、１，４－ジエチル－９－フルオレニル基、１，５－ジエチル－９－フルオレニル基、１，６－ジエチル－９－フルオレニル基、１，７－ジエチル－９－フルオレニル基、１，８－ジエチル－９－フルオレニル基、２，３－ジエチル－９－フルオレニル基、２，４－ジエチル－９－フルオレニル基、２，５－ジエチル－９－フルオレニル基、２，６－ジエチル－９－フルオレニル基、２，７－ジエチル－９－フルオレニル基、３，４－ジエチル－９－フルオレニル基、３，５－ジエチル－９－フルオレニル基、３，６－ジエチル－９－フルオレニル基、４，５－ジエチル－９－フルオレニル基、１，２－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、１，３－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、１，４－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、１，５－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、１，６－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、１，７－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、１，８－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、２，３－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、２，４－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、２，５－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、２，６－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、２，７－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、３，４－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、３，５－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、３，６－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、４，５－ジ（ｎ－プロピル）－９－フルオレニル基、１，２－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、１，３－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、１，４－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、１，５－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、１，６－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、１，７－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、１，８－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、２，３－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、２，４－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、２，５－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、２，６－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、２，７－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、３，４－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、３，５－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、３，６－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、４，５－ジイソプロピル－９－フルオレニル基、１，２－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、１，３－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、１，４－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、１，５－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、１，６－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、１，７－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、１，８－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、２，３－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、２，４－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、２，５－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、２，６－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、２，７－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、３，４－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、３，５－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、３，６－ジ－ｔ－ブチル－９－フルオレニル基、４，５－ジ（ｔ－ブチル）－９－フルオレニル基、１，２－ジメトキシ－９－フルオレニル基、１，３－ジメトキシ－９－フルオレニル基、１，４－ジメトキシ－９－フルオレニル基、１，５－ジメトキシ－９－フルオレニル基、１，６－ジメトキシ－９－フルオレニル基、１，７－ジメトキシ－９－フルオレニル基、１，８－ジメトキシ－９－フルオレニル基、２，３－ジメトキシ－９－フルオレニル基、２，４－ジメトキシ－９－フルオレニル基、２，５－ジメトキシ－９－フルオレニル基、２，６－ジメトキシ－９－フルオレニル基、２，７－ジメトキシ－９－フルオレニル基、３，４－ジメトキシ－９－フルオレニル基、３，５－ジメトキシ－９－フルオレニル基、３，６－ジメトキシ－９－フルオレニル基、及び４，５－ジメトキシ－９－フルオレニル基が挙げられる。
【0037】
これらの中で、ジフェニルメチル基、ビス（３，５－ジメチルフェニル）メチル基、ビス（３，５－ジエチルフェニル）メチル基、ビス（３，５－ジイソプロピルフェニル）メチル基、及びビス（３，５－ジ－ｔ－ブチルフェニル）メチル基が好ましく、ジフェニルメチル基がより好ましい。
【0038】
一般式（１）におけるＲ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～２０の炭化水素基、炭素原子数１～８のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、水素原子若しくは炭素原子数１～２０の炭化水素基で置換されたシリル基、又はハロゲン原子で置換された炭素原子数１～２０の炭化水素基を表す。
【0039】
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１が表すハロゲン原子の好ましい具体例としては、フッ素原子、塩素原子、及び臭素原子が挙げられる。これらの中ではフッ素原子が好ましい。
【0040】
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１が表す炭素原子数１～２０の炭化水素基は、好ましくは炭素原子数１～１３の炭化水素基である。好ましい炭化水素基としては、例えばアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基が挙げられる。好ましい具体例としては、メチル基、エチル基、１－プロピル基、１－ブチル基、１－ペンチル基、１－ヘキシル基、１－ヘプチル基、１－オクチル基、１－ノニル基、１－デシル基、ｔ－ブチル基、トリシクロヘキシルメチル基、１，１－ジメチル－２－フェニルエチル基、イソプロピル基、１，１－ジメチルプロピル基、１，１，２－トリメチルプロピル基、１，１－ジエチルプロピル基、１－フェニル－２－プロピル基、イソブチル基、１，１－ジメチルブチル基、２－ペンチル基、３－ペンチル基、２－ヘキシル基、３－ヘキシル基、２－エチルヘキシル基、２－ヘプチル基、３－ヘプチル基、４－ヘプチル基、２－プロピルヘプチル基、２－オクチル基、３－ノニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロドデシル基、１－アダマンチル基、２－アダマンチル基、エキソ－ノルボルニル基、エンド－ノルボニル基、２－ビシクロ［２．２．２］オクチル基、ノピニル基（２－（６，６－ビスメチル）ビシクロ[３．１．１]へプチル基）、デカヒドロナフチル基、メンチル基、ネオメンチル基、ネオペンチル基、５－デシル基、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオレニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、及びｐ－エチルフェニル基が挙げられる。これらの中で、更に好ましくはメチル基、及びベンジル基であり、特に好ましくはメチル基である。
【0041】
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１が表す炭素原子数１～８のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、１－プロポキシ基、イソプロポキシ基、１－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、及びペンチロキシ基が挙げられる。これらの中で、更に好ましくはメトキシ基、エトキシ基、１－プロポキシ基、及びイソプロポキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基、及びエトキシ基である。
【0042】
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１が表す炭素原子数６～２０のアリールオキシ基の具体例としては、フェノキシ基、２－メチルフェノキシ基、３－メチルフェノキシ基、４－メチルフェノキシ基、２－メトキシフェノキシ基、３－メトキシフェノキシ基、４－メトキシフェノキシ基、２，６－ジメチルフェノキシ基、２，６－ジイソプロピルフェノキシ基、２，６－ジ－ｔ－ブチルフェノキシ基、及び２，４，６－トリメチルフェノキシ基が挙げられる。これらの中で、更に好ましくはフェノキシ基、４－メチルフェノキシ基、４－メトキシフェノキシ基、及び２，６－ジイソプロピルフェノキシ基であり、特に好ましくはフェノキシ基、及び４－メトキシフェノキシ基である。
【0043】
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１が表す水素原子又は炭素原子数１～２０の炭化水素基で置換されたシリル基中の炭素原子数１～２０の炭化水素基の好ましい例は、前述のＲ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１が表す炭素原子数１～２０の炭化水素基の好ましい例と同様である。Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１が表す炭素原子数１～２０の炭化水素基で置換されたシリル基の好ましい例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ（ｎ－プロピル）シリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ－ブチルジメチルシリル基、及びトリフェニルシリル基が挙げられる。これらの中で、特に好ましくはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、及びトリイソプロピルシリル基である。
【0044】
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１が表すハロゲン原子で置換された炭素原子数１～２０の炭化水素基は、好ましくは前述の炭素原子数１～２０の炭化水素基をフッ素原子、塩素原子、又は臭素原子で置換した基である。具体的に好ましい例として、トリフルオロメチル基、及びペンタフルオロフェニル基が挙げられる。
【0045】
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素原子数１～２０の炭化水素基であることが好ましく、水素原子、又は炭素原子数１～２０のアルキル基であることがより好ましい。一実施態様において、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は全て水素原子である。
【0046】
一般式（１）におけるＲ１２は、炭素原子数１～２０の炭化水素基、水素原子若しくは炭素原子数１～２０の炭化水素基で置換されたシリル基、又はハロゲン原子で置換された炭素原子数１～２０の炭化水素基を表す。Ｒ１２は、炭素原子数１～２０の炭化水素基であることが好ましい。
【0047】
Ｒ１２が表す炭素原子数１～２０の炭化水素基は、炭素原子数１～２０のアルキル基又は炭素原子数１～２０のアリール基であることが好ましい。炭素原子数１～２０のアルキル基の好ましい例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、及びｔ－ブチル基が挙げられる。炭素原子数１～２０のアリール基の好ましい例としては、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、及びベンジル基が挙げられる。特に好ましくは、メチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、及びフェニル基であり、いっそう好ましくはイソブチル基である。
【0048】
Ｒ１２が表す、水素原子又は炭素原子数１～２０の炭化水素基で置換されたシリル基中の炭素原子数１～２０の炭化水素基の好ましい例は、前述のＲ１２が表す炭素原子数１～２０の炭化水素基の好ましい例と同様である。Ｒ１２が表す、炭素原子数１～２０の炭化水素基で置換されたシリル基の好ましい例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ（ｎ－プロピル）シリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ－ブチルジメチルシリル基、及びトリフェニルシリル基が挙げられる。これらの中で、特に好ましくはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、及びトリイソプロピルシリル基である。
【0049】
Ｒ１２が表すハロゲン原子で置換された炭素原子数１～２０の炭化水素基の好ましい例としては、１つ以上のハロゲン原子で置換された前述で例示された炭素原子数１～２０の炭化水素基が挙げられる。ハロゲン原子としてはフッ素原子が好ましい。特に好ましくは、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ペンタフルオロエチル基、及びペンタフルオロフェニル基である。
【0050】
〈アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法〉
一般式（１）で表される、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法は、一般式（３）で表されるアラルキルハライドを、０価の金属マグネシウム、一般式（４）で表される２価の亜鉛化合物、及び一般式（５）で表される１価のリチウム化合物と反応させて、一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物を生成させること（工程１）と、工程１で生成したアラルキル基を有する亜鉛化合物と、一般式（７）で表されるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物とを反応させること（工程２）とを含む。以下、一実施形態における製造方法を工程１及びに工程２に分けて説明する。
一般式（１）で表される、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物の製造方法は、一般式（３）で表されるアラルキルハライドを、０価の金属マグネシウム、一般式（４）で表される２価の亜鉛化合物、及び一般式（５）で表される１価のリチウム化合物と反応させて、一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物を生成させること（工程１）と、工程１で生成したアラルキル基を有する亜鉛化合物と、一般式（７）で表されるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物とを反応させること（工程２）とを含む。以下、一実施形態における製造方法を工程１及びに工程２に分けて説明する。
【0051】
［工程１］
工程１は、下の反応式（Ｉ）
で表されるように、一般式（３）で表されるアラルキルハライドを、０価の金属マグネシウム、一般式（４）で表される２価の亜鉛化合物、及び一般式（５）で表される１価のリチウム化合物と反応させて、一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物を生成させる工程である。なお、上記の反応ではＭｇＸ１
２も生成するが、反応式（Ｉ）には明記していない。アラルキル基を有する亜鉛化合物を生成させる方法としては、例えば０価の金属マグネシウム、一般式（４）で表される２価の亜鉛化合物、及び一般式（５）で表される１価のリチウム化合物を溶媒に分散又は溶解し、所定の温度を保ちながら一般式（３）で表されるアラルキルハライドを加えることで金属置換反応を起こす方法が挙げられる。
工程１は、下の反応式（Ｉ）
【化11】
【0052】
＜アラルキルハライド＞
工程１で用いられるアラルキルハライドとして、一般式（３）
（式中、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２は一般式（２）と同一であり、Ｘ１はハロゲン原子を表す。）
で表されるアラルキルハライドを用いることができる。一般式（３）におけるＲ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２の具体例及び好ましい例は、一般式（２）で例示した具体例及び好ましい例と同様である。Ｘ１が表すハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
工程１で用いられるアラルキルハライドとして、一般式（３）
【化12】
で表されるアラルキルハライドを用いることができる。一般式（３）におけるＲ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２の具体例及び好ましい例は、一般式（２）で例示した具体例及び好ましい例と同様である。Ｘ１が表すハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
【0053】
＜０価の金属マグネシウム＞
０価の金属マグネシウムとしては、様々な形状及び処理をしたものを用いることが可能であり、例えば粉末マグネシウム、削り状マグネシウム、マグネシウムリボン、及びＲｉｅｋｅマグネシウムが挙げられる。
０価の金属マグネシウムとしては、様々な形状及び処理をしたものを用いることが可能であり、例えば粉末マグネシウム、削り状マグネシウム、マグネシウムリボン、及びＲｉｅｋｅマグネシウムが挙げられる。
【0054】
＜２価の亜鉛化合物＞
工程１で用いられる２価の亜鉛化合物として、一般式（４）
（式中、Ｘ２は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数１～１０の炭化水素基で置換されたアミノ基、アルキル基で置換されていてもよいピペリジニル基、又は炭素原子数２～１０のアシロキシ基を表す。）
で表される２価の亜鉛化合物を用いることができる。一般式（４）におけるＸ２の好ましい例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ－ブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ－ブトキシ基等のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｔ－ブチルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基等の、炭素原子数１～６の飽和炭化水素基で置換されたアミノ基、２，２，６，６－テトラメチルピペリジニル基等の、アルキル基で置換されたピペリジニル基、アセチルオキシ基等の、炭素原子数２～４のアシロキシ基などが挙げられる。Ｘ２としてはハロゲン原子が好ましく、特に好ましくは塩素原子である。
工程１で用いられる２価の亜鉛化合物として、一般式（４）
【化13】
で表される２価の亜鉛化合物を用いることができる。一般式（４）におけるＸ２の好ましい例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ－ブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ－ブトキシ基等のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｔ－ブチルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基等の、炭素原子数１～６の飽和炭化水素基で置換されたアミノ基、２，２，６，６－テトラメチルピペリジニル基等の、アルキル基で置換されたピペリジニル基、アセチルオキシ基等の、炭素原子数２～４のアシロキシ基などが挙げられる。Ｘ２としてはハロゲン原子が好ましく、特に好ましくは塩素原子である。
【0055】
製造の容易さの面から、一般式（４）の２つのＸ２は、好ましくは同一であり、より好ましくは同一のハロゲン原子であり、更に好ましくは塩素原子である。
【0056】
＜１価のリチウム化合物＞
工程１で用いられる１価のリチウム化合物として、一般式（５）
（式中、Ｘ３はハロゲン原子、炭素原子数１～１０の炭化水素基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数１～１０の炭化水素基で置換されたアミノ基、又は炭素原子数２～１０のアシロキシ基を表す。）
で表される１価のリチウム化合物を用いることができる。一般式（５）におけるＸ３の好ましい例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ－ブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ－ブトキシ基等のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｔ－ブチルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基等の、炭素原子数１～６の飽和炭化水素基で置換されたアミノ基、アセチルオキシ基等の、炭素原子数２～４のアシロキシ基などが挙げられる。Ｘ３としてはハロゲン原子が好ましく、特に好ましくは塩素原子である。
工程１で用いられる１価のリチウム化合物として、一般式（５）
【化14】
で表される１価のリチウム化合物を用いることができる。一般式（５）におけるＸ３の好ましい例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ－ブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ－ブトキシ基等のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｔ－ブチルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基等の、炭素原子数１～６の飽和炭化水素基で置換されたアミノ基、アセチルオキシ基等の、炭素原子数２～４のアシロキシ基などが挙げられる。Ｘ３としてはハロゲン原子が好ましく、特に好ましくは塩素原子である。
【0057】
一般式（４）の２つのＸ２、及び一般式（５）のＸ３は、好ましくはハロゲン原子であり、より好ましくは同一のハロゲン原子であり、更に好ましくは塩素原子である。
【0058】
一般式（４）の２つのＸ２、及び一般式（５）のＸ３は、分離精製の観点から同一であることが好ましく、一般式（３）のＸ１と同一のハロゲン原子であることがより好ましい。
【0059】
＜アラルキル基を有する亜鉛化合物＞
工程１では、一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物を生成させる。アラルキル基を有する亜鉛化合物は、好ましくは一般式（６－１）で表される亜鉛化合物である。
（式中、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、一般式（３）、一般式（４）、及び一般式（５）と同一である。）
一般式（６－１）及び（６－２）におけるＲ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２の具体例及び好ましい例は、一般式（２）で例示した具体例及び好ましい例と同様である。一般式（６－１）及び（６－２）におけるＸ１の具体例及び好ましい例は、一般式（３）で例示した具体例及び好ましい例と同様である。一般式（６－１）及び（６－２）におけるＸ２の具体例及び好ましい例は、一般式（４）で例示した具体例及び好ましい例と同様である。一般式（６－１）及び（６－２）におけるＸ３の具体例及び好ましい例は、一般式（５）で例示した具体例及び好ましい例と同様である。
工程１では、一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物を生成させる。アラルキル基を有する亜鉛化合物は、好ましくは一般式（６－１）で表される亜鉛化合物である。
【化15】
一般式（６－１）及び（６－２）におけるＲ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１及びＲ２２の具体例及び好ましい例は、一般式（２）で例示した具体例及び好ましい例と同様である。一般式（６－１）及び（６－２）におけるＸ１の具体例及び好ましい例は、一般式（３）で例示した具体例及び好ましい例と同様である。一般式（６－１）及び（６－２）におけるＸ２の具体例及び好ましい例は、一般式（４）で例示した具体例及び好ましい例と同様である。一般式（６－１）及び（６－２）におけるＸ３の具体例及び好ましい例は、一般式（５）で例示した具体例及び好ましい例と同様である。
【0060】
＜反応条件＞
工程１において、使用する溶媒は、一般式（３）で表されるアラルキルハライドを所定の温度で溶解でき、かつ反応不活性な溶媒であることが好ましい。具体例としては、テトラヒドロフラン、シクロペンチルエチルエーテル、ジエチルエーテル、ｔ－ブチルメチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン等が挙げられる。これらのうち、テトラヒドロフランが溶解性等の観点から好ましい。
工程１において、使用する溶媒は、一般式（３）で表されるアラルキルハライドを所定の温度で溶解でき、かつ反応不活性な溶媒であることが好ましい。具体例としては、テトラヒドロフラン、シクロペンチルエチルエーテル、ジエチルエーテル、ｔ－ブチルメチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン等が挙げられる。これらのうち、テトラヒドロフランが溶解性等の観点から好ましい。
【0061】
反応温度は、副反応を抑制しかつ反応を円滑に進行させるために、－４０℃～４０℃であることが好ましく、－２０℃～２０℃であることがより好ましい。適切な反応時間は、一般式（３）で表されるアラルキルハライドの構造、及び溶媒等によって異なるため、それぞれの条件において適切な反応時間を決定することが望ましい。金属置換反応が完了するまでの時間は、通常５分～２４時間である。
【0062】
一般式（３）で表されるアラルキルハライドに対する０価の金属マグネシウムの当量は、好ましくは１～４であり、より好ましくは２～３である。一般式（３）で表されるアラルキルハライドに対する一般式（４）で表される２価の亜鉛化合物の当量は、好ましくは０．４～２であり、より好ましくは０．４～１である。一般式（３）で表されるアラルキルハライドに対する一般式（５）で表される１価のリチウム化合物の当量は、好ましくは０．２～１．５であり、より好ましくは０．４～１である。
【0063】
一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物の添加方法としては、例えば一斉に添加する方法、何度かに分けて添加する方法、及びシリンジポンプ等で一定量ずつ添加する方法が挙げられる。
【0064】
工程１で得られた一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物は、分離、精製して次の工程２に供してもよいが、工程１で得られた溶液又は分散液をそのまま工程２にて使用してもよい。この場合、工程１の溶液又は分散液は、そのまま用いてもよく、フィルター等で溶液又は分散液に含まれる金属をろ過してから用いてもよい。
【0065】
［工程２］
工程２は、下の反応式（ＩＩ）
で表されるように、一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物と、一般式（７）で表されるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物とを反応させて、一般式（１）で表される、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物を生成させる工程である。一般式（１）で表される、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物を生成させる方法としては、例えば一般式（７）で表されるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物に対して、工程１で得られた、アラルキル基を有する亜鉛化合物を含む溶液を、所定の温度を保ちながら加えることで置換反応を起こす方法が挙げられる。
工程２は、下の反応式（ＩＩ）
【化16】
【0066】
＜ホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物＞
工程２で用いられるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物として、一般式（７）
（式中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は、一般式（１）と同一である。Ｘ４はハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、水素原子若しくは炭化水素基で置換されたシリル基、アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、又は水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアシロキシ基からなる群から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい総炭素原子数１～１８０の炭化水素基を表す。Ｘ５はハロゲン原子、炭素原子数１～８のアルコキシ基、又は炭素原子数６～２０のアリールオキシ基を表す。）
で表されるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物を用いることができる。一般式（７）におけるＲ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２の具体例及び好ましい例は、一般式（１）で例示した具体例及び好ましい例と同様である。
工程２で用いられるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物として、一般式（７）
【化17】
で表されるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物を用いることができる。一般式（７）におけるＲ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２の具体例及び好ましい例は、一般式（１）で例示した具体例及び好ましい例と同様である。
【0067】
Ｘ４はハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、水素原子若しくは炭化水素基で置換されたシリル基、アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、又は水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアシロキシ基からなる群から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい総炭素原子数１～１８０の炭化水素基を表す。これらの中では、一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物との反応性の観点から、ハロゲン原子、及びアルコキシ基が好ましく、ハロゲン原子がより好ましい。
【0068】
Ｘ４が表すハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
【0069】
Ｘ４が表すアルコキシ基としては、炭素原子数１～２０のものが好ましく、炭素原子数１～８のものがより好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、及びイソプロポキシ基が挙げられる。
【0070】
Ｘ４が表すアリールオキシ基としては、炭素原子数６～２４のものが好ましく、炭素原子数６～２０のものがより好ましく、例えばフェノキシ基が挙げられる。
【0071】
Ｘ４が表す炭化水素基で置換されたシリル基としては、例えばトリメチルシリル基が挙げられる。
【0072】
Ｘ４が表すアルキル基で置換されていてもよいアミノ基としては、例えばアミノ基、メチルアミノ基、及びジメチルアミノ基が挙げられる。
【0073】
Ｘ４が表す水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアシロキシ基からなる群から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい総炭素原子数１～１８０の炭化水素基におけるハロゲン原子は、例えばフッ素原子、塩素原子、又は臭素原子であり、フッ素原子が好ましい。アルコキシ基は、炭素原子数１～２０のものが好ましく、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、及びイソプロポキシ基が挙げられる。アリールオキシ基は、炭素原子数６～２４のものが好ましく、その具体例としては、フェノキシ基が挙げられる。アシロキシ基としては、例えばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、及びベンゾイルオキシ基が挙げられる。総炭素原子数１～１８０の炭化水素基の総炭素原子数は、１～１００が好ましく、１～５０がより好ましい。
【0074】
Ｘ４が表す水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアシロキシ基からなる群から選ばれる１つ以上の基で置換されていてもよい総炭素原子数１～１８０の炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、２－ペンチル基、３－ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ－ヘキシル基、２－ヘキシル基、３－ヘキシル基、２－ヘプチル基、３－ヘプチル基、４－ヘプチル基、２－メチル－４－ヘプチル基、２，６－ジメチル－４－ヘプチル基、３－メチル－４－ヘプチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、１－アダマンチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、２’－メトキシベンジル基、３’－メトキシベンジル基、４’－メトキシベンジル基、４’－トリフルオロメチルベンジル基、フェニル基、２－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、４－メチルフェニル基、２，６－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基、２，４，６－トリメチルフェニル基、２－イソプロピルフェニル基、３－イソプロピルフェニル基、４－イソプロピルフェニル基、２，６－ジイソプロピルフェニル基、３，５－ジイソプロピルフェニル基、２，４，６－トリイソプロピルフェニル基、２－ｔ－ブチルフェニル基、２－シクロヘキシルフェニル基、２－メトキシフェニル基、３－メトキシフェニル基、４－メトキシフェニル基、２，６－ジメトキシフェニル基、３，５－ジメトキシフェニル基、２，４，６－トリメトキシフェニル基、４－フルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、２－フリル基、２－ビフェニル基、２’，６’－ジメトキシ－２－ビフェニル基、２’－メチル－２－ビフェニル基、及び２’，４’，６’－トリイソプロピル－２－ビフェニル基が挙げられる。
【0075】
Ｘ５はハロゲン原子、炭素原子数１～８のアルコキシ基、又は炭素原子数６～２０のアリールオキシ基を表す。これらの中では、一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物との反応性の観点から、ハロゲン原子、及びアルコキシ基が好ましく、ハロゲン原子がより好ましい。
【0076】
Ｘ５が表すハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
【0077】
Ｘ５が表す炭素原子数１～８のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、及びイソプロポキシ基が挙げられる。
【0078】
Ｘ５が表す炭素原子数６～２０のアリールオキシ基としては、例えばフェノキシ基が挙げられる。
【0079】
Ｘ４とＸ５は、一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物との反応性の観点から、好ましくは同一である。同様の観点から、Ｘ４とＸ５は、ハロゲン原子であることが好ましい。
【0080】
＜反応条件＞
工程２において、一般式（７）で表されるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物は、反応不活性な溶媒へ溶解させた状態で用いることが望ましい。溶媒の具体例としては、テトラヒドロフラン、シクロペンチルエチルエーテル、ジエチルエーテル、ｔ－ブチルメチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン等が挙げられる。これらのうち、テトラヒドロフランが溶解性等の観点から好ましい。
工程２において、一般式（７）で表されるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物は、反応不活性な溶媒へ溶解させた状態で用いることが望ましい。溶媒の具体例としては、テトラヒドロフラン、シクロペンチルエチルエーテル、ジエチルエーテル、ｔ－ブチルメチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン等が挙げられる。これらのうち、テトラヒドロフランが溶解性等の観点から好ましい。
【0081】
工程２における置換反応の温度は、副反応を抑制しかつ反応を円滑に進行させるために、－１００℃～４０℃であることが好ましく、－８０℃～２０℃であることがより好ましい。適切な反応時間は、一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物の構造、及び溶媒等によって異なるため、それぞれの条件において適切な反応時間を決定することが望ましい。置換反応が完了するまでの時間は、通常５分～２４時間である。
【0082】
一般式（７）で表されるホスフィノベンゼンスルホン酸エステル化合物に対する一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物の合計当量は、好ましくは１．８～３であり、より好ましくは２～２．５である。
【0083】
一般式（６－１）で表される亜鉛化合物、及び一般式（６－２）で表される亜鉛化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の、アラルキル基を有する亜鉛化合物の添加方法としては、例えば一斉に添加する方法、何度かに分けて添加する方法、及びシリンジポンプ等で一定量ずつ添加する方法が挙げられる。
【0084】
反応後は、溶媒を留去し、必要に応じて精製操作を行うことが好ましい。精製操作としては、例えば抽出、分液洗浄、晶析、蒸留、カラムクロマトグラフィー、及びこれらの組み合わせが挙げられる。この中で特に好ましい精製操作は、晶析である。
【0085】
一般式（１）で表される、アラルキル基を有するホスフィン－スルホン酸エステル化合物は、配位子前駆体として使用可能であり、当該前駆体から誘導された配位子とパラジウムとで錯形成された金属錯体触媒が、オレフィン重合、特に極性基を有するアリル化合物等の極性基含有モノマーの重合において高い性能を発現する点で有用である。
【実施例0086】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記の例に限定されるものではない。
【0087】
全ての実験操作は、真空下でヒートガンを用いて十分に乾燥させたガラス容器を用い、窒素ガス雰囲気下で実施した。
【0088】
収率は、化合物の重量を測定し、算出した。化合物の同定は、日本電子株式会社製ＪＮＭ－ＥＣＳ４００を使用して、溶媒としてクロロホルム－ｄ３を使用した１Ｈ－ＮＭＲ及び３１Ｐ－ＮＭＲによって決定した。
【0089】
［実施例１］
下記の反応式（ＩＩＩ）に従って、以下のとおり２－（ビス（ジフェニルメチル）ホスフィノ）ベンゼンスルホン酸イソブチルを合成した。
下記の反応式（ＩＩＩ）に従って、以下のとおり２－（ビス（ジフェニルメチル）ホスフィノ）ベンゼンスルホン酸イソブチルを合成した。
【化18】
【0090】
１００ｍＬ三つ口フラスコにマグネシウム（０．１８ｇ、７．５ｍｍｏｌ）、塩化リチウム（０．０９６ｇ、２．２５ｍｍｏｌ）、塩化亜鉛（０．２２ｇ、１．６５ｍｍｏｌ）、及びテトラヒドロフラン（６ｍＬ）を加えて攪拌した。この溶液を０℃に冷却し、クロロジフェニルメタン（０．５４ｍＬ、３ｍｍｏｌ）を加えて１時間攪拌することにより、ビス（ジフェニルメチル）亜鉛－塩化マグネシウム－塩化リチウム錯体のテトラヒドロフラン溶液（濃度０．２４Ｍ）を調製した。別の１００ｍＬシュレンク管に２－ジクロロホスフィノベンゼンスルホン酸イソブチル（０．１６ｇ、０．５ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（３ｍＬ）を加え、０℃に冷却した。ここにビス（ジフェニルメチル）亜鉛－塩化マグネシウム－塩化リチウム錯体の０．２４Ｍテトラヒドロフラン溶液（４．６ｍＬ、１．１ｍｍｏｌ）を滴下しながら加え、室温に昇温しながら３時間攪拌した。攪拌後エタノールを１ｍＬ加え、窒素ガス下で溶媒を留去することで白色泡状固体を得た。ここにジオキサン－ヘキサン（１：１）溶媒を加えて攪拌することで金属塩を析出させ、これを濾過によって除去した。ろ液を減圧留去することにより、２－（ビス（ジフェニルメチル）ホスフィノ）ベンゼンスルホン酸イソブチルを得た（収率７５％）。
３１Ｐ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ－０．０６ｐｐｍ
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ７．８０－７．７７（ｍ，１Ｈ），δ７．５６－７．５２（ｍ，１Ｈ），７．３８－７．３２（ｍ，１Ｈ），７．３０－６．９３（ｍ，１９Ｈ），６．８７（ｔ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，２Ｈ），４．４７（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ），３．３８（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），１．９８－１．８８（ｍ，１Ｈ），０．９０（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６Ｈ）．
３１Ｐ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ－０．０６ｐｐｍ
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ７．８０－７．７７（ｍ，１Ｈ），δ７．５６－７．５２（ｍ，１Ｈ），７．３８－７．３２（ｍ，１Ｈ），７．３０－６．９３（ｍ，１９Ｈ），６．８７（ｔ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，２Ｈ），４．４７（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ），３．３８（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），１．９８－１．８８（ｍ，１Ｈ），０．９０（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６Ｈ）．
【0091】
［比較例１］
下記の反応式（ＩＶ）に従って、以下のとおり２－（ビス（ジフェニルメチル）ホスフィノ）ベンゼンスルホン酸イソブチルの合成を試みた。
下記の反応式（ＩＶ）に従って、以下のとおり２－（ビス（ジフェニルメチル）ホスフィノ）ベンゼンスルホン酸イソブチルの合成を試みた。
【化19】
【0092】
クロロジフェニルメタンをジフェニルメタンに変更し、マグネシウム及び塩化リチウムをｎ－ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液（２．０ｍＬ、３．２ｍｍｏｌ）に変更した以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。しかし２－（ビス（ジフェニルメチル）ホスフィノ）ベンゼンスルホン酸イソブチルは全く生成しなかった。これは、マグネシウム非存在下で生成させた金属反応剤の反応性が低すぎるためである。
【0093】
［比較例２］
下記の反応式（Ｖ）に従って、以下のとおり２－（ビス（ジフェニルメチル）ホスフィノ）ベンゼンスルホン酸イソブチルを合成した。
クロロジフェニルメタンをジフェニルメタンに変更し、マグネシウム、塩化リチウム、及び塩化亜鉛をｎ－ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液（２．０ｍＬ，３．２ｍｍｏｌ）に変更した以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。２－（ビス（ジフェニルメチル）ホスフィノ）ベンゼンスルホン酸イソブチルの収率は１０％に低下した。これは、マグネシウム及び亜鉛非存在下で生成させた金属反応剤の反応性が高すぎ、望まぬ副反応が優先して進行したためである。
下記の反応式（Ｖ）に従って、以下のとおり２－（ビス（ジフェニルメチル）ホスフィノ）ベンゼンスルホン酸イソブチルを合成した。
【化20】
【0094】
［比較例３］
下記の反応式（ＶＩ）に従って、以下のとおり２－ビス（ビス（１，３－ジメチルフェニル）メチル）ホスフィノ）ベンゼンスルホン酸リチウムを合成した。
クロロジフェニルメタンをクロロビス（１，３－ジメチルフェニル）メタンに変更し、２－ジクロロホスフィノベンゼンスルホン酸イソブチルを２－ジクロロホスフィノベンゼンスルホン酸リチウムに変更した以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。２－ビス（ビス（１，３－ジメチルフェニル）メチル）ホスフィノ）ベンゼンスルホン酸リチウムの収率は、１６％と低収率であった。これは、２－ジクロロホスフィノベンゼンスルホン酸リチウムと金属反応剤との金属交換などによる副反応が進行したためである。
下記の反応式（ＶＩ）に従って、以下のとおり２－ビス（ビス（１，３－ジメチルフェニル）メチル）ホスフィノ）ベンゼンスルホン酸リチウムを合成した。
【化21】
【0095】
実施例１及び比較例１～３の結果から、０価の金属マグネシウム、亜鉛化合物及びリチウム化合物により金属反応剤を生成させること、及びスルホ基が保護されたホスフィノベンゼンスルホン酸を用いることにより、収率を向上させることができることが分かった。