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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024086421
(43)【公開日】2024-06-27
(54)【発明の名称】複合ポリマー材料及びその製造方法並びに光学材料
(51)【国際特許分類】
C08L 83/04 20060101AFI20240620BHJP
C08L 101/00 20060101ALI20240620BHJP
【ＦＩ】
C08L83/04
C08L101/00
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022201533
(22)【出願日】2022-12-16
(71)【出願人】
【識別番号】504176911
【氏名又は名称】国立大学法人大阪大学
(71)【出願人】
【識別番号】000002060
【氏名又は名称】信越化学工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000796
【氏名又は名称】弁理士法人三枝国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】▲高▼島 義徳
(72)【発明者】
【氏名】朴 峻秀
(72)【発明者】
【氏名】以倉 崚平
(72)【発明者】
【氏名】中川 秀夫
(72)【発明者】
【氏名】五十嵐 実
(72)【発明者】
【氏名】加藤 野歩
(72)【発明者】
【氏名】亀井 正直
(72)【発明者】
【氏名】小倉 健太郎
【テーマコード（参考）】
4J002
【Ｆターム（参考）】
4J002AA00X
4J002BG03X
4J002CF00X
4J002CG00X
4J002CK02X
4J002CL00X
4J002CP03W
4J002GB00
4J002GH00
(57)【要約】
【課題】力学特性に優れる新規な複合ポリマー材料及びその製造方法並びに複合ポリマー材料を含む光学材料を提供する。
【解決手段】本発明の複合ポリマー材料は、ポリシロキサン骨格を主鎖として有するシリコーン系ポリマーＳと、ポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有するポリマーＰとが架橋されてなる架橋ポリマーを含み、前記シリコーン系ポリマーＳと、前記ポリマーＰとの間には、ホスト基及びゲスト基に基づくホスト－ゲスト相互作用が形成されており、前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から１個の水素原子又は水酸基が除された１価の基である。
【選択図】なし
【解決手段】本発明の複合ポリマー材料は、ポリシロキサン骨格を主鎖として有するシリコーン系ポリマーＳと、ポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有するポリマーＰとが架橋されてなる架橋ポリマーを含み、前記シリコーン系ポリマーＳと、前記ポリマーＰとの間には、ホスト基及びゲスト基に基づくホスト－ゲスト相互作用が形成されており、前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から１個の水素原子又は水酸基が除された１価の基である。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ポリシロキサン骨格を主鎖として有するシリコーン系ポリマーＳと、ポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有するポリマーＰとが架橋されてなる架橋ポリマーを含み、
前記シリコーン系ポリマーＳと、前記ポリマーＰとの間には、ホスト基及びゲスト基に基づくホスト－ゲスト相互作用が形成されており、
前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から１個の水素原子又は水酸基が除された１価の基である、複合ポリマー材料。
前記シリコーン系ポリマーＳと、前記ポリマーＰとの間には、ホスト基及びゲスト基に基づくホスト－ゲスト相互作用が形成されており、
前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から１個の水素原子又は水酸基が除された１価の基である、複合ポリマー材料。
【請求項2】
前記ホスト－ゲスト相互作用は、シリコーン系ポリマーＳの側鎖と前記ポリマーＰの側鎖との間に形成されている、請求項１に記載の複合ポリマー材料。
【請求項3】
前記ホスト－ゲスト相互作用は、シリコーン系ポリマーＳの側鎖と前記ポリマーＰの末端との間に形成されている、請求項１に記載の複合ポリマー材料。
【請求項4】
前記ポリマーＰは、ビニル系ポリマーである、請求項２に記載の複合ポリマー材料。
【請求項5】
前記ポリマーＰは、重付加系ポリマー及び重縮合系ポリマーからなる群より選ばれる１種以上である、請求項３に記載の複合ポリマー材料。
【請求項6】
前記シリコーン系ポリマーＳが少なくとも１個の前記ホスト基を有し、前記ポリマーＰが少なくとも１個の前記ゲスト基を有する、請求項１に記載の複合ポリマー材料。
【請求項7】
前記シリコーン系ポリマーＳと、前記ポリマーＰとの間に水素結合が更に形成されている、請求項１に記載の複合ポリマー材料。
【請求項8】
請求項１～７のいずれか１項に記載の複合ポリマー材料を含有する、光学材料。
【請求項9】
請求項１～７のいずれか１項に記載の複合ポリマー材料の製造方法であって、
前記シリコーン系ポリマーＳの存在下でポリマーＰを合成することにより前記架橋ポリマーを形成させる工程を具備する、複合ポリマー材料の製造方法。
前記シリコーン系ポリマーＳの存在下でポリマーＰを合成することにより前記架橋ポリマーを形成させる工程を具備する、複合ポリマー材料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、複合ポリマー材料及びその製造方法並びに光学材料に関する。
【背景技術】
【0002】
シロキサン結合（Ｓｉ－Ｏ結合）を主骨格に有するシリコーン系ポリマー（ポリシロキサン）は、有機高分子にはない特有の性質を有することが知られており、様々な分野で利用されている。シロキサン結合は、一般の有機高分子に存在する炭素－炭素あるいは炭素－酸素結合よりも強い結合力をもち、化学的に安定な性質を有することから、シロキサン結合を繰り返し有して形成されるポリシロキサンは、例えば、優れた耐熱性及び耐候性を備える。また、ポリシロキサンは、無機性のシロキサン結合が内側、有機性の側鎖置換基が外側に配置されたらせん構造を形成することができるので、柔軟かつ撥水性を有し、生体毒性も低い。従って、ポリシロキサンは、医用器具、ゴム、塗料、保護フィルム等の各種用途において、利用価値が高い材料である。
【0003】
近年では、ポリシロキサンをベースとするような材料に対して、さらに機能性を付与することが行われている。例えば、非特許文献１には、ポリシロキサン骨格中に水素結合可能な官能基を導入し、かかる官能基の水素結合を通じて自己修復性を発揮させる技術が提案されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0004】
【非特許文献1】Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２０１８，３０，１７０６８４６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
最近ではポリシロキサンを様々な用途に適用すべく、更なる機能をポリシロキサンに付加させることが強く望まれている。特にポリシロキサンに代表されるシリコーン材料は、汎用樹脂とは異なる特性を示すので、種々の分野に応用されることが期待されている。従って、新規シリコーン材料を創生することが産業界からも強く求められており、例えば、シリコーン系ポリマーを含み、力学特性に優れた新規な複合ポリマー材料の利用価値は極めて高いといえる。
【0006】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、力学特性に優れる新規な複合ポリマー材料及びその製造方法並びに複合ポリマー材料を含む光学材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のポリシロキサン骨格を主鎖として有するシリコーン系ポリマーと、特定のポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有するポリマーＰとの架橋ポリマーにより上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0008】
すなわち、本発明は、例えば、以下の項に記載の主題を包含する。
項１
ポリシロキサン骨格を主鎖として有するシリコーン系ポリマーＳと、ポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有するポリマーＰとが架橋されてなる架橋ポリマーを含み、
前記シリコーン系ポリマーＳと、前記ポリマーＰとの間には、ホスト基及びゲスト基に基づくホスト－ゲスト相互作用が形成されており、
前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から１個の水素原子又は水酸基が除された１価の基である、複合ポリマー材料。
項２
前記ホスト－ゲスト相互作用は、シリコーン系ポリマーＳの側鎖と前記ポリマーＰの側鎖との間に形成されている、項１に記載の複合ポリマー材料。
項３
前記ホスト－ゲスト相互作用は、シリコーン系ポリマーＳの側鎖と前記ポリマーＰの末端との間に形成されている、項１に記載の複合ポリマー材料。
項４
前記ポリマーＰは、ビニル系ポリマーである、項２に記載の複合ポリマー材料。
項５
前記ポリマーＰは、重付加系ポリマー及び重縮合系ポリマーからなる群より選ばれる１種以上である、項３に記載の複合ポリマー材料。
項６
前記シリコーン系ポリマーＳが少なくとも１個の前記ホスト基を有し、前記ポリマーＰが少なくとも１個の前記ゲスト基を有する、項１～５のいずれか１項に記載の複合ポリマー材料。
項７
前記シリコーン系ポリマーＳと、前記ポリマーＰとの間に水素結合が更に形成されている、項１～６のいずれか１項に記載の複合ポリマー材料。
項８
項１～７のいずれか１項に記載の複合ポリマー材料を含有する、光学材料。
項９
項１～７のいずれか１項に記載の複合ポリマー材料の製造方法であって、
前記シリコーン系ポリマーＳの存在下でポリマーＰを合成することにより前記架橋ポリマーを形成させる工程を具備する、複合ポリマー材料の製造方法。
項１
ポリシロキサン骨格を主鎖として有するシリコーン系ポリマーＳと、ポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有するポリマーＰとが架橋されてなる架橋ポリマーを含み、
前記シリコーン系ポリマーＳと、前記ポリマーＰとの間には、ホスト基及びゲスト基に基づくホスト－ゲスト相互作用が形成されており、
前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から１個の水素原子又は水酸基が除された１価の基である、複合ポリマー材料。
項２
前記ホスト－ゲスト相互作用は、シリコーン系ポリマーＳの側鎖と前記ポリマーＰの側鎖との間に形成されている、項１に記載の複合ポリマー材料。
項３
前記ホスト－ゲスト相互作用は、シリコーン系ポリマーＳの側鎖と前記ポリマーＰの末端との間に形成されている、項１に記載の複合ポリマー材料。
項４
前記ポリマーＰは、ビニル系ポリマーである、項２に記載の複合ポリマー材料。
項５
前記ポリマーＰは、重付加系ポリマー及び重縮合系ポリマーからなる群より選ばれる１種以上である、項３に記載の複合ポリマー材料。
項６
前記シリコーン系ポリマーＳが少なくとも１個の前記ホスト基を有し、前記ポリマーＰが少なくとも１個の前記ゲスト基を有する、項１～５のいずれか１項に記載の複合ポリマー材料。
項７
前記シリコーン系ポリマーＳと、前記ポリマーＰとの間に水素結合が更に形成されている、項１～６のいずれか１項に記載の複合ポリマー材料。
項８
項１～７のいずれか１項に記載の複合ポリマー材料を含有する、光学材料。
項９
項１～７のいずれか１項に記載の複合ポリマー材料の製造方法であって、
前記シリコーン系ポリマーＳの存在下でポリマーＰを合成することにより前記架橋ポリマーを形成させる工程を具備する、複合ポリマー材料の製造方法。
【発明の効果】
【0009】
本発明の複合ポリマー材料は、力学特性に優れるものである。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【図1】シリコーン系ポリマーＳの側鎖と前記ポリマーＰの側鎖との間にホスト－ゲスト相互作用が形成されてなる架橋ポリマーの模式的図である。
【図2】シリコーン系ポリマーＳの側鎖と前記ポリマーＰの両末端との間にホスト－ゲスト相互作用が形成されてなる架橋ポリマーを模式図である。
【図3】実施例１－１で得たシリコーン系ポリマーＳｈの反応スキーム及びシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーの反応スキームである。
【図4】各実施例で得られた架橋ポリマーの引張試験の結果であって、（ａ）は応力－ひずみ曲線、（ｂ）はヤング率とタフネスの相関を示すグラフである。
【図5】各実施例で得られた架橋ポリマーの引張試験の結果であって、（ａ）は応力－ひずみ曲線、（ｂ）はヤング率とタフネスの相関を示すグラフである。
【図6】各実施例で得られた架橋ポリマーの自己修復性能の評価結果であって、（ａ）は、「２４時間室温で静置」させた試験片の引張試験の応力－ひずみ曲線、（ｂ）は、「１２時間７０℃で静置」させた試験片の引張試験の応力－ひずみ曲線、（ｃ）は修復率（％）の結果である。
【図7】各実施例で得られた架橋ポリマーの引張試験の結果であって、（ａ）は応力－ひずみ曲線、（ｂ）はヤング率とタフネスの相関を示すグラフである。
【図8】各実施例で得られた架橋ポリマーの自己修復性能の評価結果であって、（ａ）は、試験片の引張試験の応力－ひずみ曲線、（ｂ）は、修復率（％）の結果である。
【図9】各実施例で得られた架橋ポリマーの引張試験の結果であって、（ａ）は応力－ひずみ曲線、（ｂ）はヤング率とタフネスの相関を示すグラフである。
【図10】各実施例で得られた架橋ポリマーの自己修復性能の評価結果であって、（ａ）は、「２４時間室温で静置」させた試験片の引張試験の応力－ひずみ曲線、（ｂ）は、「１２時間７０℃で静置」させた試験片の引張試験の応力－ひずみ曲線、（ｃ）は修復率（％）の結果である。
【図11】実施例６－１で得た架橋ポリマーの反応スキームである。
【図12】各実施例で得られた架橋ポリマーの引張試験の結果であって、（ａ）は応力－ひずみ曲線、（ｂ）はヤング率とタフネスの相関を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、本明細書中において、「含有」及び「含む」なる表現については、「含有」、「含む」、「実質的にからなる」及び「のみからなる」という概念を含む。
【0012】
１．複合ポリマー材料
本発明の複合ポリマー材料は、ポリシロキサン骨格を主鎖として有するシリコーン系ポリマーＳと、ポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有するポリマーＰとが架橋されてなる架橋ポリマーを含み、前記シリコーン系ポリマーＳと、前記ポリマーＰとの間には、ホスト基及びゲスト基に基づくホスト－ゲスト相互作用が形成されている。前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から１個の水素原子又は水酸基が除された１価の基である。
本発明の複合ポリマー材料は、ポリシロキサン骨格を主鎖として有するシリコーン系ポリマーＳと、ポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有するポリマーＰとが架橋されてなる架橋ポリマーを含み、前記シリコーン系ポリマーＳと、前記ポリマーＰとの間には、ホスト基及びゲスト基に基づくホスト－ゲスト相互作用が形成されている。前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から１個の水素原子又は水酸基が除された１価の基である。
【0013】
ここで、「ホスト基及びゲスト基に基づくホスト－ゲスト相互作用」は、例えば、ホスト基及びゲスト基が包接錯体を形成していることを意味することができる。斯かる包接錯体は、１個のホスト基の環内に１個のゲスト基が包接されてなる錯体である。以下、ホスト基及びゲスト基について詳述する。
【0014】
ホスト基は、前述のように、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から１個の水素原子又は水酸基が除された基である。ホスト基は、シクロデキストリン誘導体から１個の水素原子又は水酸基が除された基であることが好ましい。ホスト基は１価の基に限定されるものではなく、例えば、ホスト基は２価の基であってもよい。
【0015】
前記シクロデキストリン誘導体とは、例えば、シクロデキストリンが有する水酸基のうちの少なくとも１個の水酸基において、その水素原子が疎水基で置換された構造を有することが好ましい。つまり、シクロデキストリン誘導体とは、シクロデキストリン分子が疎水性を有する他の有機基で置換された構造を有する分子をいう。ただし、シクロデキストリン誘導体は、少なくとも一つの水素原子又は少なくとも一つの水酸基を有し、好ましくは少なくとも一つの水酸基を有する。
【0016】
前記疎水基は、炭化水素基、アシル基及び－ＣＯＮＨＲ（Ｒはメチル基又はエチル基）からなる群より選ばれる少なくとも１種の基で置換された構造を有することが好ましい。以下、本明細書において、前述の「炭化水素基、アシル基及び－ＣＯＮＨＲ（Ｒはメチル基又はエチル基）からなる群より選ばれる少なくとも１種の基」を便宜上、「炭化水素基等」と表記することがある。
【0017】
ここで、念のための注記に過ぎないが、本明細書でのシクロデキストリンなる表記は、α－シクロデキストリン、β－シクロデキストリン及びγ－シクロデキストリンからなる群より選ばれる少なくとも１種を意味する。従って、シクロデキストリン誘導体は、α－シクロデキストリン誘導体、β－シクロデキストリン誘導体及びγ－シクロデキストリン誘導体からなる群より選ばれる少なくとも１種である。
【0018】
ホスト基は、シクロデキストリン誘導体から１個の水素原子又は水酸基が除された１価以上の基であるが、シクロデキストリン誘導体において除される水素原子又は水酸基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体のどの部位であってもよい。
【0019】
ここで、シクロデキストリン１分子が有する水酸基の全個数をＮとした場合、α－シクロデキストリンはＮ＝１８、β－シクロデキストリンはＮ＝２１、γ－シクロデキストリンはＮ＝２４である。
【0020】
仮に、ホスト基がシクロデキストリン誘導体から１個の「水酸基」が除された１価の基である場合は、シクロデキストリン誘導体は、シクロデキストリン１分子あたり最大Ｎ－１個の水酸基の水素原子が炭化水素基等で置換されて形成される。他方、ホスト基がシクロデキストリン誘導体から１個の「水素原子」が除された１価の基である場合は、シクロデキストリン誘導体は、シクロデキストリン１分子あたり最大Ｎ個の水酸基の水素原子が炭化水素基等で置換され得る。
【0021】
前記ホスト基は、シクロデキストリン１分子中に存在する全水酸基数のうちの７０％以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換された構造を有することが好ましい。前記ホスト基は、シクロデキストリン１分子中に存在する全水酸基数のうちの８０％以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換されていることがより好ましく、全水酸基数のうちの９０％以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換されていることが特に好ましい。
【0022】
前記ホスト基は、α－シクロデキストリン１分子中に存在する全水酸基のうちの１３個以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換された構造を有することが好ましい。前記ホスト基は、α－シクロデキストリン１分子中に存在する全水酸基のうちの１５個以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換されていることがより好ましく、全水酸基のうちの１７個の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換されていることが特に好ましい。
【0023】
前記ホスト基は、β－シクロデキストリン１分子中に存在する全水酸基のうちの１５個以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換された構造を有することが好ましい。前記ホスト基は、β－シクロデキストリン１分子中に存在する全水酸基のうちの１７個以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換されていることがより好ましく、全水酸基のうちの１９個以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換されていることが特に好ましい。
【0024】
前記ホスト基は、γ－シクロデキストリン１分子中に存在する全水酸基のうちの１７個以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換された構造を有することが好ましい。前記ホスト基は、γ－シクロデキストリン１分子中に存在する全水酸基のうちの１９個以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換されていることがより好ましく、全水酸基のうちの２１個以上の水酸基の水素原子が前記炭化水素基等で置換されていることが特に好ましい。
【0025】
シクロデキストリン誘導体において、前記炭化水素基の種類は特に限定されない。前記炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基を挙げることができる。
【0026】
前記炭化水素基の炭素数の数は特に限定されず、例えば、炭化水素基の炭素数は１～４個であることが好ましい。
【0027】
炭素数が１～４個である炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ブチル基を挙げることができる。炭化水素基がプロピル基及びブチル基である場合は、直鎖状及び分岐鎖状のいずれであってもよい。
【0028】
シクロデキストリン誘導体において、アシル基は、アセチル基、プロピオニル、ホルミル基等を例示することができる。ホスト－ゲスト相互作用を形成しやすく、又は、ホスト基環内を他の高分子鎖が貫通しやすいという点で、また、靭性及び強度に優れる靭性及び強度に優れる複合ポリマー材料を得やすいという点で、アシル基は、アセチル基であることが好ましい。
【0029】
シクロデキストリン誘導体において、－ＣＯＮＨＲ（Ｒはメチル基又はエチル基）は、メチルカルバメート基又はエチルカルバメート基である。ホスト－ゲスト相互作用を形成しやすく、又は、ホスト基環内を他の高分子鎖が貫通しやすいという点で、また、靭性及び強度に優れる靭性及び強度に優れる複合ポリマー材料を得やすいという点で、－ＣＯＮＨＲは、エチルカルバメート基であることが好ましい。
【0030】
シクロデキストリン誘導体において、炭化水素基等は、炭素数１～４のアルキル基又はアシル基が好ましく、メチル基及びアシル基が好ましく、メチル基、アセチル基、プロピオニル基がさらに好ましく、メチル基及びアセチル基が特に好ましい。
【0031】
ゲスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体に包接可能である基を意味する。即ち、ゲスト基は、前記ホスト基と包接錯体を形成することができる基である限り、その種類は限定されない。ゲスト基は１価の基に限定されるものではなく、例えば、ゲスト基は２価の基であってもよい。
【0032】
ゲスト基としては、炭素数３～３０の直鎖又は分岐状の炭化水素基、シクロアルキル基、ヘテロアリール基及び有機金属錯体等が挙げられ、これらは一以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述の置換基と同様であり、例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、カルボキシル基、エステル基、アミド基、保護されていてもよい水酸基等を挙げることができる。
【0033】
より具体的なゲスト基としては、炭素数４～１８の鎖状又は環状のアルキル基、多環芳香族炭化水素に由来する基が挙げられる。炭素数４～１８の鎖状のアルキル基は直鎖及び分岐のいずれでもよい。環状のアルキル基は、かご型の構造であってもよい。多環芳香族炭化水素としては、例えば、少なくとも２個以上の芳香族環で形成されるπ共役系化合物が挙げられ、具体的には、ナフタレン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン、ベンゾピレン、クリセン、ピレン、トリフェニレン等を挙げることができる。
【0034】
ゲスト基は、その他、例えば、アルコール誘導体；アリール化合物；カルボン酸誘導体；アミノ誘導体；環状アルキル基又はフェニル基を有するアゾベンゼン誘導体；桂皮酸誘導体；芳香族化合物及びそのアルコール誘導体；アミン誘導体；フェロセン誘導体；アゾベンゼン；ナフタレン誘導体；アントラセン誘導体；ピレン誘導体：ペリレン誘導体；フラーレン等の炭素原子で構成されるクラスター類；ダンシル化合物の群から選ばれる少なくとも１種が例示されるゲスト分子から一個の原子（例えば、水素原子）が除されて形成される１価の基を挙げることもできる。
【0035】
ゲスト基のさらなる具体例としては、ｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ドデシル基、イソボルニル基、アダマンチル基、ピレン由来の基及びこれらに前記置換基が結合した基を挙げることができる。
【0036】
以下、シリコーン系ポリマーＳ及びポリマーＰについて詳述する。
【0037】
（シリコーン系ポリマーＳ）
シリコーン系ポリマーＳは、ポリシロキサン骨格を主鎖として有する高分子化合物である。シリコーン系ポリマーＳは、分子中に前記ホスト基及び前記ゲスト基のいずれか一方を有することができ、好ましくは、いずれか一方のみを有することである。
シリコーン系ポリマーＳは、ポリシロキサン骨格を主鎖として有する高分子化合物である。シリコーン系ポリマーＳは、分子中に前記ホスト基及び前記ゲスト基のいずれか一方を有することができ、好ましくは、いずれか一方のみを有することである。
【0038】
例えば、シリコーン系ポリマーＳは、側鎖に少なくとも１個のホスト基を有することができ、あるいは、側鎖に少なくとも１個のゲスト基を有することができる。以下、前記ホスト基を有するシリコーン系ポリマーＳを「シリコーン系ポリマーＳｈ」と表記し、前記ゲスト基を有するシリコーン系ポリマーＳを「シリコーン系ポリマーＳｇ」と表記する。
【0039】
＜シリコーン系ポリマーＳｈ＞
シリコーン系ポリマーＳｈは、ポリシロキサン骨格を主鎖とし、前記ホスト基を少なくとも１個有する。シリコーン系ポリマーＳｈにおいて、ホスト基は、例えば、ポリシロキサン骨格の側鎖に共有結合により結合し得る。シリコーン系ポリマーＳｈは、その構造単位中に、ホスト基を有するシロキサン単位を含み得る。斯かるホスト基を有するシロキサン単位は、主鎖にシロキサン結合を有し、側鎖にホスト基が直接又は間接的に共有結合した構造を有する構造単位である。
シリコーン系ポリマーＳｈは、ポリシロキサン骨格を主鎖とし、前記ホスト基を少なくとも１個有する。シリコーン系ポリマーＳｈにおいて、ホスト基は、例えば、ポリシロキサン骨格の側鎖に共有結合により結合し得る。シリコーン系ポリマーＳｈは、その構造単位中に、ホスト基を有するシロキサン単位を含み得る。斯かるホスト基を有するシロキサン単位は、主鎖にシロキサン結合を有し、側鎖にホスト基が直接又は間接的に共有結合した構造を有する構造単位である。
【0040】
ホスト基を有するシロキサン単位は、シロキサン結合とホストと基を有する限り、その構造は特に限定されない。例えば、ホスト基を有するシロキサン単位として、下記一般式（１．１）で表される構造単位を挙げることができる。
【0041】
【化1】
【0042】
式（１．１）において、ＲＨは前記ホスト基を示す。Ｒ１は水酸基、チオール基、１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、１個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、１個の置換基を有していてもよいアミノ基、１個の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される１価の基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基を示す。Ｒ５は、置換基で置換されていてもよい炭素数１から１０の直鎖又は分岐のアルキル基、もしくは置換基で置換されていてもよい炭素数６から２０のアリール基を示し、Ｒ６はヘテロ原子が介在していてもよいアルキレン基を示す。
【0043】
あるいは、ホスト基を有するシロキサン単位は、下記一般式（１．２）で表される構造単位であってもよい。
【0044】
【化2】
【0045】
式（１．２）において、ＲＨ、Ｒ１、Ｒ５及びＲ６は前記式（１．１）におけるＲＨ、Ｒ１、Ｒ５及びＲ６と同義である。
【0046】
式（１．１）及び式（１．２）において、Ｒ５は、炭素数が１から４のアルキル基であることが好ましく、炭素数が１又は２のアルキル基が特に好ましい。具体的にはアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基等が挙げられ、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基であることが好ましく、メチル基が特に好ましい。
【0047】
Ｒ５が置換基を有する場合、斯かる置換基としては、水酸基、アルコキシ基、エステル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、アリール基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）等が挙げられる。
【0048】
式（１．１）及び式（１．２）において、Ｒ１中の置換基は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、炭素数２～２０のアルキニル基、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、スルホ基、カルボニル基、アリール基、シアノ基等を挙げることができる。
【0049】
式（１．１）及び式（１．２）において、Ｒ１が１個の置換基を有していてもよいアミノ基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基であれば、アミノ基の窒素原子がＲ６と結合し得る。
【0050】
式（１．１）及び式（１．２）において、Ｒ１が１個の置換基を有していてもよいアミド基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基であれば、アミド基の炭素原子がＲ６と結合し得る。
【0051】
式（１．１）及び式（１．２）において、Ｒ１がアルデヒド基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基であれば、アルデヒド基の炭素原子がＲ６と結合し得る。
【0052】
式（１．１）及び式（１．２）において、Ｒ１がカルボキシル基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基である場合、カルボキシル基の炭素原子がＲ６と結合し得る。
【0053】
式（１．１）及び式（１．２）において、Ｒ６はヘテロ原子が介在していてもよいアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は特に限定されず、例えば、炭素数１～１０とすることができる。Ｒ６において、アルキレンの炭素数は１～８が好ましく、２～６がより好ましい。
【0054】
Ｒ６は、ヘテロ原子が介在したアルキレン基であってもよい。この場合、Ｒ６としては、チオエーテル結合を有するアルキレン基が挙げられ、例えば、－（ＣＨ２）ｍ１－Ｓ－（ＣＨ２）ｍ２－結合が例示される。ここで、ｍ１及びｍ２は同一又は異なって１～１０の数であり、好ましくは１～８、より好ましくは１～５である。
【0055】
Ｒ６が、硫黄原子が介在したアルキレン基である場合、シリコーン系高分子化合物は、ポリシロキサン骨格内のＳｉと前記ホスト基との間にチオエーテル結合を有するものとなる。
【0056】
シリコーン系ポリマーＳｈは、その構造単位中に、ホスト基を有するシロキサン単位以外に他のシロキサン単位を有することができる。他のシロキサン単位として、例えば、下記式（３．１）で表される構成単位を含有することができる。
【0057】
【化3】
【0058】
式（３．１）中、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なって、水素、置換基で置換されていてもよい炭素数１から１０の直鎖又は分岐のアルキル基、もしくは置換基で置換されていてもよい炭素数６から２０のアリール基を示す。
【0059】
式（３．１）において、炭素数１から１０の直鎖又は分岐のアルキル基は、炭素数が１から４が好ましく、１又は２が特に好ましい。具体的にはアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基等が挙げられる。
【0060】
式（３．１）において、炭素数１から１０の直鎖又は分岐のアルキル基が置換基で置換されている場合、置換基の数は１又は２以上とすることができる。この場合の置換基としては、例えば、水酸基、アルコキシ基、エステル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、アリール基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）等が挙げられる。
【0061】
式（３．１）において、炭素数６から２０のアリール基は、例えば、フェニル基、ナフチル基、テトラヒドロナフチル基等が挙げられる。アリール基が置換基で置換されている場合、置換基の数は１又は２以上とすることができる。この場合の置換基としては、例えば、水酸基、アルコキシ基、エステル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、アリール基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）等が挙げられる。
【0062】
式（３．１）において、Ｒ３及びＲ４は同一とすることができ、あるいは、異なっていてもよい。式（３．１）において、Ｒ３及びＲ４はいずれも、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基であることが好ましく、メチル基が特に好ましい。Ｒ３及びＲ４はいずれもメチル基である場合、ポリシロキサン骨格はポリジメチルシロキサンを含む。
【0063】
シリコーン系ポリマーＳｈは、その構造単位中に、前記式（３．１）で表される構成単位と共に、あるいは、前記式（３．１）で表される構成単位に替えて、下記式（３．２）で表される構成単位を含有することができる。
【0064】
【化4】
【0065】
式（３．２）中、Ｒ７は水素、置換基で置換されていてもよい炭素数１から１０の直鎖又は分岐のアルキル基、もしくは置換基で置換されていてもよい炭素数６から２０のアリール基を示す。式（３．２）中、Ｒ８は、はヘテロ原子が介在していてもよいアルキレン基を示す。Ａは水素、チオール基、水酸基又はアミノ基を示す。
【0066】
式（３．２）において、Ｒ７は、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基であることが好ましく、メチル基が特に好ましい。
【0067】
式（３．２）において、Ｒ８はヘテロ原子が介在していてもよいアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は特に限定されず、例えば、炭素数１～１０とすることができる。Ｒ８において、アルキレンの炭素数は１～８が好ましく、２～６がより好ましい。
【0068】
Ｒ８は、ヘテロ原子が介在したアルキレン基であってもよい。この場合、Ｒ８としては、チオエーテル結合を有するアルキレン基が挙げられ、例えば、－（ＣＨ２）ｍ１－Ｓ－（ＣＨ２）ｍ２－結合が例示される。ここで、ｍ１及びｍ２は同一又は異なっては１～１０の数であり、好ましくは１～８、より好ましくは１～５である。
【0069】
シリコーン系ポリマーＳｈは、前記式（３．１）で表される構成単位と共に前記式（３．２）で表される構成単位を含む場合、複合ポリマー材料の力学特性、特にヤング率及びタフネスの双方が向上しやすく、さらには、透明性も向上しやすい。この場合において、式（３．２）で表される構成単位のＲ８が、ヘテロ原子が介在したアルキレン基である場合、複合ポリマー材料はヤング率及びタフネスの双方がさらに向上し、透明性も特に向上しやすい。
【0070】
シリコーン系ポリマーＳｈが前記式（３．２）で表される構成単位を含む場合において、Ａがチオール基である場合、シリコーン系ポリマーＳｈ中の前記チオール基の一部または全部が炭化水素基で保護されていてもよい（すなわちチオール基の水素が他の基で置換されていてもよい）。この場合、複合ポリマー材料の力学特性がさらに向上する。炭化水素基としては、炭素数１～１０のアルキル基、アルケニル基等を挙げることができ、好ましくは炭素数３～８のアルキル基である。
【0071】
シリコーン系ポリマーＳｈの一態様としては、前記ホスト基を有するシロキサン単位と、前記他のシロキサン単位とを有する。この具体例として、前記式（１．１）で表される構造単位及び／又は前記式（１．２）で表される構造単位と、必要に応じて前記式（３．１）で表される構造単位及び前記式（３．２）で表される構造単位の一方又は両方を有するシリコーン系ポリマーＳｈを挙げることができる。なお、シリコーン系ポリマーＳｈは、ゲスト基を有さないポリマーであり、例えば、後記する式（２．１）で表される構造単位及び式（２．２）で表される構造単位（すなわち、後記するゲスト基を有するシロキサン単位）を有さない。
【0072】
シリコーン系ポリマーＳｈの全構造単位中、前記ホスト基を有するシロキサン単位の含有割合は、例えば、０．１モル％以上、３０モル％以下である。複合ポリマー材料の力学特性がより向上しやすいという点で、シリコーン系ポリマーＳｈの全構造単位中、前記ホスト基を有するシロキサン単位の含有割合は、好ましくは０．２モル％以上、より好ましくは０．５モル％以上、さらに好ましくは０．８モル％以上、特に好ましくは１モル％以上である。また、複合ポリマー材料の力学特性がより向上しやすいという点で、シリコーン系ポリマーＳｈの全構造単位中、前記ホスト基を有するシロキサン単位の含有割合は、好ましくは２０モル％以下、より好ましくは１５モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以下、特に好ましくは５モル％以下である。
【0073】
なお、シリコーン系ポリマーＳｈ中の前記ホスト基を有するシロキサン単位の含有割合は、シリコーン系ポリマーＳｈの製造に使用したモノマー中の前記ホスト基を有するシロキサンモノマーの含有割合に一致するものと見なすことができる。
【0074】
シリコーン系ポリマーＳｈの全構造単位中、前記他のシロキサン単位の含有割合は、例えば、７０モル％以上、９９．９モル％以下である。力学特性がより向上した複合ポリマー材料を形成しやすいという点で、シリコーン系ポリマーＳｈの全構造単位中、前記他のシロキサン単位の含有割合は、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは８５モル％以上、さらに好ましくは９０モル％以上、特に好ましくは９５モル％以上である。また、力学特性がより向上した複合ポリマー材料を形成しやすいという点で、シリコーン系ポリマーＳｈの全構造単位中、前記他のシロキサン単位の含有割合は、好ましくは９９．８モル％以下、より好ましくは９９．５モル％以下、さらに好ましくは９９．２モル％以下、特に好ましくは９９モル％以下である。
【0075】
シリコーン系ポリマーＳｈが他のシロキサン単位として前記式（３．１）で表される構造単位を含む場合、その含有割合はシリコーン系ポリマーＳｈの全構造単位中、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは８５モル％以上、さらに好ましくは９０モル％以上、特に好ましくは９５モル％以上である。また、シリコーン系ポリマーＳｈが他のシロキサン単位として前記式（３．１）で表される構造単位を含む場合、その含有割合はシリコーン系ポリマーＳｈの全構造単位中、好ましくは９９．８モル％以下、より好ましくは９９．５モル％以下、さらに好ましくは９９．２モル％以下、特に好ましくは９９モル％以下である。
【0076】
シリコーン系ポリマーＳｈが他のシロキサン単位として前記式（３．２）で表される構造単位を含む場合、その含有割合はシリコーン系ポリマーＳｈの全構造単位中、好ましくは０．２モル％以上、より好ましくは０．５モル％以上、さらに好ましくは０．８モル％以上、特に好ましくは１モル％以上である。また、シリコーン系ポリマーＳｈが他のシロキサン単位として前記式（３．１）で表される構造単位を含む場合、その含有割合はシリコーン系ポリマーＳｈの全構造単位中、好ましくは２０モル％以下、より好ましくは１５モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以下、特に好ましくは５モル％以下である。
【0077】
シリコーン系ポリマーＳｈが前記式（３．２）で表される構成単位を含む場合、力学特性（特に、ヤング率及びタフネスの双方）が向上し、さらには、透明性も向上しやすい。特に、式（３．２）で表される構成単位のＲ８が、ヘテロ原子が介在したアルキレン基である場合、複合ポリマー材料は力学特性（特に、ヤング率及びタフネスの双方）がさらに向上し、透明性も特に向上しやすい。
【0078】
シリコーン系ポリマーＳｈは、前記式（１．１）、式（１．２）、式（３．１）及び（３，２）で表される構成単位以外に構造単位（以下、構造単位Ｓと表記する）を有することができる。構造単位Ｓの含有割合は、シリコーン系高分子化合物（Ｈ）の全構造単位中、５モル％以下、好ましくは１モル％以下、より好ましくは、０．１モル％以下であり、０モル％であってもよい。
【0079】
＜シリコーン系ポリマーＳｇ＞
シリコーン系ポリマーＳｇは、ポリシロキサン骨格を主鎖とし、少なくとも１個の前記ゲスト基を有する。シリコーン系ポリマーＳｇにおいて、ゲスト基は、例えば、ポリシロキサン骨格の側鎖に共有結合により結合し得る。シリコーン系ポリマーＳｇは、その構造単位中に、ゲスト基を有するシロキサン単位を含み得る。斯かるゲスト基を有するシロキサン単位は、主鎖にシロキサン結合を有し、側鎖にゲスト基が直接又は間接的に共有結合した構造を有する構造単位である。
シリコーン系ポリマーＳｇは、ポリシロキサン骨格を主鎖とし、少なくとも１個の前記ゲスト基を有する。シリコーン系ポリマーＳｇにおいて、ゲスト基は、例えば、ポリシロキサン骨格の側鎖に共有結合により結合し得る。シリコーン系ポリマーＳｇは、その構造単位中に、ゲスト基を有するシロキサン単位を含み得る。斯かるゲスト基を有するシロキサン単位は、主鎖にシロキサン結合を有し、側鎖にゲスト基が直接又は間接的に共有結合した構造を有する構造単位である。
【0080】
シリコーン系ポリマーＳｇは、前述のシリコーン系ポリマーＳｈにおいて、ホスト基を有するシロキサン単位の代わりにゲスト基を有するシロキサン単位を有すること以外は、シリコーン系ポリマーＳｈと同様の構成とすることができる。シリコーン系ポリマーＳｇの好ましい形態も、前述のシリコーン系ポリマーＳｈにおいて、ホスト基を有するシロキサン単位の代わりにゲスト基を有するシロキサン単位を有すること以外は同様である。
【0081】
以下、ゲスト基を有するシロキサン単位について説明する。ゲスト基を有するシロキサン単位は、シロキサン結合とゲスト基とを有する限り、その構造は特に限定されない。例えば、ゲスト基を有するシロキサン単位として、下記一般式（２．１）で表される構造単位、下記一般式（２．２）で表される構造単位及び下記一般式（２．３）で表される構造単位が挙げられる。
【0082】
【化5】
【0083】
式（２．１）において、ＲＧは前記ゲスト基を示す。Ｒ１、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ前記式（１．１）におけるＲ１、Ｒ５及びＲ６と同義である。
【0084】
【化6】
【0085】
式（２．２）において、ＲＧ、Ｒ１、Ｒ５及びＲ６は前記式（２．１）におけるＲＧ、Ｒ１、Ｒ５及びＲ６と同義である。
【0086】
【化7】
【0087】
式（２．３）において、ＲＧ、及びＲ５は前記式（２．１）におけるＲＧ及びＲ５と同義である。
【0088】
式（２．１）、式（２．２）及び式（２．３）において、Ｒ５は、炭素数が１から４のアルキル基であることが好ましく、炭素数が１又は２のアルキル基が特に好ましい。具体的にはアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基等が挙げられ、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基であることが好ましく、メチル基が特に好ましい。
【0089】
Ｒ５が置換基を有する場合、斯かる置換基としては、水酸基、アルコキシ基、エステル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基、アリール基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）等が挙げられる。
【0090】
式（２．１）及び式（２．２）において、Ｒ１が１個の置換基を有していてもよいアミノ基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基であれば、アミノ基の窒素原子がＲ６と結合し得る。
【0091】
式（２．１）及び式（２．２）において、Ｒ１が１個の置換基を有していてもよいアミド基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基であれば、アミド基の炭素原子がＲ６と結合し得る。
【0092】
式（２．１）及び式（２．２）において、Ｒ１がアルデヒド基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基であれば、アルデヒド基の炭素原子がＲ６と結合し得る。
【0093】
式（２．１）及び式（２．２）において、Ｒ１がカルボキシル基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基である場合、カルボキシル基の炭素原子がＲ６と結合し得る。
【0094】
式（２．１）及び式（２．２）において、Ｒ６のアルキレンの炭素数は１～８が好ましく、２～６がより好ましい。Ｒ６は、ヘテロ原子が介在したアルキレン基であってもよい。この場合、Ｒ６としては、チオエーテル結合を有するアルキレン基が挙げられ、例えば、－（ＣＨ２）ｍ１－Ｓ－（ＣＨ２）ｍ２－結合が例示される。ここで、ｍ１及びｍ２は同一又は異なっては１～１０の数であり、好ましくは１～８、より好ましくは１～５である。
【0095】
式（２．１）及び式（２．２）において、Ｒ６が、硫黄原子が介在したアルキレン基である場合、シリコーン系高分子化合物は、ポリシロキサン骨格内のＳｉと前記ホスト基との間にチオエーテル結合を有するものとなる。
【0096】
＜シリコーン系ポリマーＳ＞
上述のとおり、シリコーン系ポリマーＳは、一態様においてシリコーン系ポリマーＳｈであり、また、シリコーン系ポリマーＳは、他の一態様において、シリコーン系ポリマーＳｇである。
上述のとおり、シリコーン系ポリマーＳは、一態様においてシリコーン系ポリマーＳｈであり、また、シリコーン系ポリマーＳは、他の一態様において、シリコーン系ポリマーＳｇである。
【0097】
シリコーン系ポリマーＳは、直鎖状であってもよいし、分岐状であってもよい。ポリマーＰとの架橋ポリマーを形成しやすい点で、シリコーン系ポリマーＳは、直鎖状であることが好ましい。
【0098】
シリコーン系ポリマーＳは、ランダムポリマー、ブロックポリマー等のいずれの構造を有していてもよく、製造が容易である点で、ランダムポリマーであることが好ましい。
【0099】
シリコーン系ポリマーＳの質量平均分子量も特に限定されず、１，０００～１，０００，０００、好ましくは、５，０００～８００，０００、より好ましくは、１０，０００～６００，０００である。ここでいう質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によって測定した任意の標準物質（ポリスチレン）換算した重量平均分子量のことである。
【0100】
（ポリマーＰ）
ポリマーＰは、ポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有する高分子化合物である。ポリマーＰは、分子中に前記ホスト基及び前記ゲスト基のいずれか一方を有することができ、好ましくは、いずれか一方のみを有することである。
ポリマーＰは、ポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有する高分子化合物である。ポリマーＰは、分子中に前記ホスト基及び前記ゲスト基のいずれか一方を有することができ、好ましくは、いずれか一方のみを有することである。
【0101】
例えば、ポリマーＰは、側鎖に少なくとも１個のホスト基を有することができ、あるいは、側鎖に少なくとも１個のゲスト基を有することができる。また、後記するように、ポリマーＰは、片末端又は両末端にホスト基を有することができ、あるいは、片末端又は両末端に１個のゲスト基を有することができる。以下、前記ホスト基を有するポリマーＰを「ポリマーＰｈ」と表記し、前記ゲスト基を有するポリマーＰを「ポリマーＰｇ」と表記する。
【0102】
＜ポリマーＰｇ＞
ポリマーＰｇは、ポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有し、かつ、ゲスト基を有する限り、その種類は特に限定されず、例えば、公知のゲスト基含有ポリマーをポリマーＰｇとして適用することができる。
ポリマーＰｇは、ポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有し、かつ、ゲスト基を有する限り、その種類は特に限定されず、例えば、公知のゲスト基含有ポリマーをポリマーＰｇとして適用することができる。
【0103】
ポリマーＰｇは、例えば、ゲスト基を有するビニル系ポリマー、ゲスト基を有する重付加系ポリマー及びゲスト基を有する重縮合系ポリマーを挙げることができる。以下、それぞれのポリマーについて詳述する。
【0104】
≪ポリマーＰｇ；ビニル系ポリマー≫
ポリマーＰｇがゲスト基を有するビニル系ポリマーである場合、ビニル系単量体のラジカル重合によって形成されるポリマーを挙げることができ、例えば、公知のゲスト基含有ビニルポリマーが挙げられる。ゲスト基含有ビニルポリマーにおいて、ゲスト基は、例えば、末端又は側鎖に共有結合により結合し得るものであり、好ましくは、ゲスト基は側鎖に共有結合により結合し得る。
ポリマーＰｇがゲスト基を有するビニル系ポリマーである場合、ビニル系単量体のラジカル重合によって形成されるポリマーを挙げることができ、例えば、公知のゲスト基含有ビニルポリマーが挙げられる。ゲスト基含有ビニルポリマーにおいて、ゲスト基は、例えば、末端又は側鎖に共有結合により結合し得るものであり、好ましくは、ゲスト基は側鎖に共有結合により結合し得る。
【0105】
ゲスト基含有ビニルポリマーは、その構造単位中に、ゲスト基含有ビニルモノマー単位を有することができる。ゲスト基含有ビニルモノマー単位は、ゲスト基含有ビニルモノマーにより形成される構造単位である。ゲスト基含有ビニルモノマーは、前記ゲスト基を有するビニル化合物である限りは特に限定されず、例えば、公知のゲスト基含有ビニルモノマーを広く例示することができる。ゲスト基含有ビニルモノマーは、アクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＯ）－）、メタクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＣＨ３（ＣＯ）－）、その他、スチリル基、ビニル基、アリル基等のいずれかを有する化合物である。
【0106】
ゲスト基含有ビニルモノマーの具体例としては、下記の一般式（ｇ１）で表される化合物を挙げることができる。
【0107】
【化8】
【0108】
式（ｇ１）中、Ｒａは水素原子またはメチル基を示し、ＲＧは前記ゲスト基を示し、Ｒ２は、ヒドロキシル基、チオール基、１個以上の置換基を有していてもよいアルコキシ基、１個以上の置換基を有していてもよいチオアルコキシ基、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、１個の置換基を有していてもよいアミノ基、１個の置換基を有していてもよいアミド基、アルデヒド基及びカルボキシル基からなる群より選択される１価の基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基を表す。ここでいう置換基は、例えば、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、炭素数２～２０のアルキニル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、カルボニル基、スルホニル基、スルホン基、シアノ基等を挙げることができる。
【0109】
式（ｇ１）で表される化合物の中でも、（メタ）アクリル酸エステル又はその誘導体（すなわち、Ｒ２が－ＣＯＯ－）、（メタ）アクリルアミド又はその誘導体（すなわち、Ｒ２が－ＣＯＮＨ－又は－ＣＯＮＲ－であり、Ｒは前記置換基と同義である）であることが好ましい。この場合、重合反応が進みやすいので、ポリマーＰｇの製造が容易になる。
【0110】
なお、本明細書において、「（メタ）アクリル」とは「アクリル」または「メタクリル」を、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」または「メタクリレート」を、「（メタ）アリル」とは「アリル」または「メタリル」を意味する。
【0111】
式（ｇ１）において、Ｒ２が１個の置換基を有していてもよいアミノ基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基であれば、アミノ基の窒素原子がＣ＝Ｃ二重結合の炭素原子と結合し得る。Ｒ２が１個の置換基を有していてもよいアミド基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基であれば、アミド基の炭素原子がＣ＝Ｃ二重結合の炭素原子と結合し得る。Ｒ２がアルデヒド基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基であれば、アルデヒド基の炭素原子がＣ＝Ｃ二重結合の炭素原子と結合し得る。Ｒ２がカルボキシル基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基である場合、カルボキシル基の炭素原子がＣ＝Ｃ二重結合の炭素原子と結合し得る。
【0112】
ゲスト基含有ビニルモノマーのさらなる具体例としては、（メタ）アクリル酸ｎ－ヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ－オクチル、（メタ）アクリル酸ｎ－ドデシル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアダマンチル、１－（メタ）アクリルアミドアダマンタン、２－エチル－２－アダマンチル（メタ）アクリレート、Ｎ－ドデシル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、１－アクリルアミドアダマンタン、Ｎ－（１－アダマンチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ベンジル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－１－ナフチルメチル（メタ）アクリルアミド、エトキシ化ｏ－フェニルフェノールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、イソステアリルアクリレート、ノニルフェノールＥＯ付加物アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ピレン部位を有する（メタ）アクリレート、ピレン部位を有する（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
【0113】
ゲスト基含有ビニルモノマーは、公知の方法で製造することができる。また、ゲスト基含有ビニルモノマーは、市販品を使用することもできる。
【0114】
ポリマーＰｇがゲスト基含有ビニルポリマーである場合、斯かるゲスト基含有ビニルポリマーは、ゲスト基含有ビニルモノマー単位以外に他のビニルモノマー単位を少なくとも１種有することができる。他の単量体単位を「第３の単量体単位」という。
【0115】
前記第３の単量体単位は、第３の単量体により形成される構造単位である。第３の単量体単位は、ゲスト基含有ビニルモノマーと共重合可能な重合性単量体を広く挙げることができる。
【0116】
第３の重合性単量体としては、公知である各種のビニル系重合性単量体を挙げることができる。第３の重合性単量体の具体例としては、下記一般式（ａ１）で表される化合物を挙げることができる。
【0117】
【化9】
【0118】
式（ａ１）中、Ｒａは水素原子またはメチル基、Ｒ３はハロゲン原子、ヒドロキシル基、チオール基、１個の置換基を有していてもよいアミノ基又はその塩、１個の置換基を有していてもよいカルボキシル基又はその塩、１個以上の置換基を有していてもよいアミド基又はその塩、１個以上の置換基を有していてもよいフェニル基を示す。
【0119】
式（ａ１）中、Ｒ３が１個の置換基を有するカルボキシル基である場合、カルボキシル基の水素原子が炭素数１～２０の炭化水素基、ヒドロキシアルキル基（例えば、ヒドロキシメチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基）、メトキシポリエチレングリコール（エチレングリコールのユニット数は１～２０、好ましくは１～１０、特に好ましくは、２～５）、エトキシポリエチレングリコール（エチレングリコールのユニット数は１～２０、好ましくは１～１０、特に好ましくは、２～５）等で置換されたカルボキシル基（すなわち、エステル）が挙げられる。炭素数１～２０の炭化水素基は、炭素数１～１５であることが好ましく、１～１０であることが好ましく、１～３であることが特に好ましい。炭化水素基は、直鎖及び分岐のいずれであってもよい。
【0120】
式（ａ１）中、Ｒ３が１個以上の置換基を有するアミド基、すなわち、第２級アミド又は第３級アミドである場合、第１級アミドの１個の水素原子又は２個の水素原子が互いに独立に炭素数１～２０の炭化水素基又はヒドロキシアルキル基（例えば、ヒドロキシメチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基）で置換されたアミド基が挙げられる。炭素数１～２０の炭化水素基は、炭素数１～１５であることが好ましく、２～１０であることが好ましい。炭化水素基は、直鎖及び分岐のいずれであってもよい。
【0121】
式（ａ１）で表される化合物の具体例としては、（メタ）アクリル酸、アリルアミン、無水マレイン酸、スチレン等の他、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ－プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ－オクチル、２－メトキシ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２－フェニルエチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシ－ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ－トリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ－ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリルエステル；（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド化合物を挙げることができる。これらは１種単独で使用でき、又は２種以上を併用できる。
【0122】
式（ａ１）で表される化合物として、特に好ましくは、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ－プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル及び（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシルからなる群より選ばれる少なくとも１種である。
【0123】
ポリマーＰｇがゲスト基含有ビニルポリマーである場合、斯かるゲスト基含有ビニルポリマー中のゲスト基の含有割合は特に限定されない。例えば、ゲスト基含有ビニルポリマーの全構造単位中、ゲスト基含有ビニルモノマー単位の含有割合は、例えば、０．１モル％以上、３０モル％以下である。複合ポリマー材料の力学特性がより向上しやすいという点で、ゲスト基含有ビニルポリマーの全構造単位中、ゲスト基含有ビニルモノマー単位の含有割合は、好ましくは０．２モル％以上、より好ましくは０．５モル％以上、さらに好ましくは０．８モル％以上、特に好ましくは１モル％以上である。また、複合ポリマー材料の力学特性がより向上しやすいという点で、ゲスト基含有ビニルポリマーの全構造単位中、ゲスト基含有ビニルモノマー単位の含有割合は、好ましくは２０モル％以下、より好ましくは１５モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以下、特に好ましくは５モル％以下である。
【0124】
なお、ゲスト基含有ビニルポリマー中のゲスト基含有ビニルモノマー単位の含有割合は、ゲスト基含有ビニルポリマーの製造に使用したモノマー中の前記ゲスト基含有ビニルモノマーの含有割合に一致するものと見なすことができる。
【0125】
ゲスト基含有ビニルポリマーの製造方法は特に限定されず、例えば、公知のラジカル重合法によって、ゲスト基含有ビニルポリマーを製造することができる。
【0126】
≪ポリマーＰｇ；重付加系ポリマー≫
ポリマーＰｇがゲスト基を有する重付加系ポリマーである場合、例えば、公知のゲスト基含有重付加系ポリマーを広く挙げることができ、具体的には、ウレタン結合を有するポリマー、すなわち、ポリウレタンを挙げることができる。
ポリマーＰｇがゲスト基を有する重付加系ポリマーである場合、例えば、公知のゲスト基含有重付加系ポリマーを広く挙げることができ、具体的には、ウレタン結合を有するポリマー、すなわち、ポリウレタンを挙げることができる。
【0127】
ゲスト基含有重付加系ポリマーは、例えば、両末端にゲスト基を有する鎖状ポリマーであることが好ましい。この場合、ゲスト基含有重付加系ポリマーは、シリコーン系ポリマーＳとのホスト－ゲスト相互作用を形成しやすいので、架橋ポリマーが安定に形成されやすい。
【0128】
斯かるゲスト基含有重付加系ポリマーとしては、例えば、両末端にゲスト基を有し、かつ、２個又は２個以上のイソシアネート基を有する化合物由来の単位と、２個又は２個以上の水酸基を有する化合物由来の単位とが結合してなる構成単位を有するポリマーを挙げることができる。
【0129】
２個のイソシアネート基を有する化合物としては、下記式（３）
Ｏ＝Ｃ＝Ｎ－ＲＡ－Ｎ＝Ｃ＝Ｏ （３）
（式中、ＲＡは、２価の有機基を示す）
で表される化合物を挙げることができる。
Ｏ＝Ｃ＝Ｎ－ＲＡ－Ｎ＝Ｃ＝Ｏ （３）
（式中、ＲＡは、２価の有機基を示す）
で表される化合物を挙げることができる。
【0130】
式（３）において、ＲＡ（２価の有機基）の具体例としては、（ＣＨ２）ｎ（ｎは１～２０の整数）、メチルジフェニレン基、メチルジシクロヘキシレン基、３－メチル－３，５，５－トリメチルシクロヘキシレン基、ジメチルフェニレン基、トリレン基、フェニレン基、ベンジリデン基、シクロヘキシレン基、イソホロン基等を挙げることができる。２価の有機基が（ＣＨ２）ｎである場合、ｎは２～１０であることが好ましく、３～８であることがさらに好ましい。
【0131】
２個の水酸基を有する化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペチルグリコール、ジエチレングリコール、１，３－プロパンジオール（トリエチレングリコール、ＰＯＤ）、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリエーテルグリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、水素添加ビスフェノールＡ、ジブロモビスフェノールＡ、１，４－シクロヘキサンジメタノール、ジヒドロキシエチルテレフタレート、ハイドロキノンジヒドロキシエチルエーテル等を挙げることができる。ポリエーテルグリコールとしては、ポリテトラメチレンエーテルグリコール（ＰＴＨＦ）等を挙げることができる。
【0132】
ゲスト基含有重付加系ポリマーの製造方法は特に限定されず、例えば、公知の重付加系ポリマーと同様の方法で製造することができる。例えば、ゲスト分子と、２個又は２個以上のイソシアネート基を有する化合物と、２個又は２個以上の水酸基を有する化合物とを含む原料の重付加反応により、ゲスト基含有重付加系ポリマーを製造することができる。重付加反応の条件も特に限定されず、公知の重付加反応と同様の条件を採用することができる。
【0133】
前記ゲスト分子としては、前記ゲスト基を有する限り、その種類は特に限定されず、例えば、１又は２個のアミノ基を有するゲスト分子、１又は２個の水酸基を有するゲスト分子、１又は２個のカルボキシ基を有するゲスト分子、１又は２個のエポキシ基を有するゲスト分子、１又は２個のイソシアネート基を有するゲスト分子、１又は２個のチオール基を有するゲスト分子、１又は２個のカルボン酸塩化物を有するゲスト分子を挙げることができる。
【0134】
１又は２個のアミノ基を有するゲスト分子としては、例えば、１－アダマンタンアミン、ベンジルアミン、ｔｅｒｔ－ブチルアミン、ｎ－ブチルアミン、１－アミノピレン、アミノフェロセン、４－アミノアゾベンゼン、４－アミノスチルベン、シクロヘキシルアミン、ヘキシルアミン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、ｐ－キシリレンジアミン、ジアミノフェロセン、４，４’－ジアミノアゾベンゼン、４，４’－ジアミノスチルベン、１，４－ジアミノシクロヘキサン、１，６－ジアミノシクロヘキサン、α，ω－ジアミノポリエチレングリコール、α，ω－ジアミノポリプロピレングリコール、２，２－ビス（４－アミノフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－アミノフェニル）－１－フェニルエタン、２，２－ビス（４－アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス（４－アミノフェニル）ブタン、ビス（４－アミノフェニル）ジフェニルメタン、２，２－ビス（３－メチル－４－アミノフェニル）プロパン、ビス（４－アミノフェニル）－２，２－ジクロロエチレン、１，１－ビス（４－アミノフェニル）エタン、２，２－ビス（４－アミノ－３－イソプロピルフェニル）プロパン、１，３－ビス（２－（４－アミノフェニル）－２－プロピル）ベンゼン、ビス（４－アミノフェニル）スルホン、１，４－ビス（２－（４－アミノフェニル）－２－プロピル）ベンゼン、１，１－ビス（４－アミノフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（４－アミノフェニル）シクロヘキサン等を挙げることができる。
【0135】
１又は２個の水酸基を有する化合物としては、例えば、１－ヒドロキシアダマンタン、ベンジルアルコール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ｎ－ブチルアルコール、１－ヒドロキシピレン、１－ヒドロキシメチルフェロセン、４－ヒドロキシアゾベンゼン、４－ヒドロキシスチルベン、シクロヘキサノール、ヘキサノール、４，４’－ジヒドロキシジフェニルメタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、１，４－ベンゼンジメタノール、１，１’－ジヒドロキシメチルフェロセン、４，４’－ジヒドロキシアゾベンゼン、４，４’－ジヒドロキシスチルベン、１，４－シクロヘキサンジオール、１，６－ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１－フェニルエタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２－ビス（３－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）－２，２－ジクロロエチレン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－イソプロピルフェニル）プロパン、１，３－ビス（２－（４－ヒドロキシフェニル）－２－プロピル）ベンゼン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルホン、１，４－ビス（２－（４－ヒドロキシフェニル）－２－プロピル）ベンゼン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビスフェノールＡ等を挙げることができる。
【0136】
１又は２個のカルボキシ基を有する化合物としては、例えば、１－カルボキシアダマンタン、安息香酸、ピバル酸、ブタン酸、１－カルボキシピレン、１－カルボキシフェロセン、４－カルボキシアゾベンゼン、４－カルボキシスチルベン、シクロヘキサン酸、ヘキサン酸、４，４’－ジカルボキシジフェニルメタン、１，４－ベンゼンジカルボン酸、１，４－フェニレン二酢酸、１，１’－ジカルボキシフェロセン、４，４’－ジカルボキシアゾベンゼン、４，４’－ジカルボキシスチルベン、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸、１，６－ヘキサンジカルボン酸、α，ω－ジカルボキシポリエチレングリコール、α，ω－ジカルボキシポリプロピレングリコール、２，２－ビス（４－カルボキシフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－カルボキシフェニル）－１－フェニルエタン、２，２－ビス（４－カルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス（４－カルボキシフェニル）ブタン、ビス（４－カルボキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２－ビス（３－メチル－４－カルボキシフェニル）プロパン、ビス（４－カルボキシフェニル）－２，２－ジクロロエチレン、１，１－ビス（４－カルボキシフェニル）エタン、２，２－ビス（４－カルボキシ－３－イソプロピルフェニル）プロパン、１，３－ビス（２－（４－カルボキシフェニル）－２－プロピル）ベンゼン、ビス（４－カルボキシフェニル）スルホン、１，４－ビス（２－（４－カルボキシフェニル）－２－プロピル）ベンゼン、１，１－ビス（４－カルボキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（４－カルボキシフェニル）シクロヘキサン等を挙げることができる。
【0137】
１又は２個のカルボン酸塩化物を有する化合物としては、例えば、１－アダマンタンカルボニルクロリド、テレフタロイルクロリド、トリメチルアセチルクロリド、ブチリルクロリド、１－ピレンカルボニルクロリド、１－フェロセンカルボニルクロリド、４－アゾベンゼンカルボニルクロリド、４－スチルベンカルボニルクロリド、シクロヘキサンカルボニルクロリド、ヘキシルクロリド、４，４’－ジフェニルメタンジカルボニルクロリド、１，４－ベンゼンジカルボンニルクロリド、１，４－フェニレンジカルボニルクロリド、１，１’－フェロセンジカルボニルクロリド、４，４’－アゾベンゼンジカルボニルクロリド、４，４’－スチルベンカルボニルクロリド、１，４－シクロヘキサンジカルボニルクロリド、１，６－ヘキサンジカルボニルクロリド、α，ω－ポリエチレングリコールジカルボニルクロリド、α，ω－ポリプロピレングリコールジカルボニルクロリド、２，２－ビス（４－フェニルカルボニルクロリド）プロパン、１，１－ビス（４－フェニルカルボニルクロリド）－１－フェニルエタン、２，２－ビス（４－フェニルカルボニルクロリド）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス（４－フェニルカルボニルクロリド）ブタン、ビス（４－フェニルカルボニルクロリド）ジフェニルメタン、２，２－ビス（３－メチル－４－フェニルカルボニルクロリド）プロパン、ビス（４－フェニルカルボニルクロリド）－２、２－ジクロロエチレン、１，１－ビス（４－フェニルカルボニルクロリド）エタン、２，２－ビス（３－イソプロピルフェニル－４－カルボニルクロリド）プロパン、１，３－ビス（２－（４－フェニルカルボニルクロリド）－２－プロピル）ベンゼン、ビス（４－フェニルカルボニルクロリド）スルホン、１，４－ビス（２－（４－フェニルカルボニルクロリド）－２－プロピル）ベンゼン、１，１－ビス（４－フェニルカルボニルクロリド）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（４－フェニルカルボニルクロリド）シクロヘキサン等を挙げることができる。
【0138】
１又は２個のエポキシ基を有する化合物としては、例えば、アダマンタンオキシド、スチレンオキシド、１，２－エポキシブタン、１－エポキシピレン、エポキシフェロセン、４－エポキシアゾベンゼン、４－エポキシスチルベン、シクロヘキセンオキシド、１，２－エポキシヘキサン、２，２’－ビス（４－グリシジルオキシフェニル）プロパン、ｐ－ジグリシジルオキシベンゼン、ジグリシジルオキイシフェロセン、４，４’－ジグリシジルオキシアゾベンゼン、４，４’－ジグリシジルオキシフェロセン、１，４－ジグリシジルオキシシクロヘキサン、１，６－ジグリシジルオキシシクロヘキサン、α，ω－ジグリシジルオキシポリエチレングリコール、α，ω－ジグリシジルオキシポリプロピレングリコール、１，１－ビス（４－グリシジルオキシフェニル）－１－フェニルエタン、２，２－ビス（４－グリシジルオキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス（４－グリシジルオキシフェニル）ブタン、ビス（４－グリシジルオキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２－ビス（３－メチル－４－グリシジルオキシフェニル）プロパン、ビス（４－グリシジルオキシフェニル）－２，２－ジクロロエチレン、１，１－ビス（４－グリシジルオキシフェニル）エタン、２，２－ビス（４－グリシジルオキシ－３－イソプロピルフェニル）プロパン、１，３－ビス（２－（４－グリシジルオキシフェニル）－２－プロピル）ベンゼン、ビス（４－グリシジルオキシフェニル）スルホン、１，４－ビス（２－（４－グリシジルオキシフェニル）－２－プロピル）ベンゼン、１，１－ビス（４－グリシジルオキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（４－グリシジルオキシフェニル）シクロヘキサン等を挙げることができる。
【0139】
１又は２個のイソシアネート基を有する化合物としては、例えば、１－アダマンタンイソシアネート、ベンジルイソシアネート、フェニルイソシアネート、ｔｅｒｔ－ブチルイソシアネート、ブチルイソシアネート、１－ピレンイソシアネート、フェロセンイソシアネート、アゾベンゼン－４－イソシアネート、スチルベン－４－イソシアネート、シクロヘキサンイソシアネート、ヘキサンイソシアネート、４，４’－ジイソシアネートフェニルメタン、ｐ－ベンゼンジイソシアネート、フェロセン－１，１’－ジイソシアネート、アゾベンゼン－４，４’－ジイソシアネート、スチルベン－４，４’－ジイソシアネート、シクロヘキサン－１，４－ジイソシアネート、シクロヘキサン－１，６－ジイソシアネート、ポリエチレングリコールジイソシアネート、ポリプロピレングリコールジイソシアネート、２，２－ビス（４－フェニルイソシアネート）プロパン、１，１－ビス（４－フェニルイソシアネート）－１－フェニルエタン、２，２－ビス（４-フェニルイソシアネート）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス（４－フェニルイソシアネート）ブタン、ビス（４－フェニルイソシアネート）ジフェニルメタン、２，２－ビス（３－メチル－４－フェニルイソシアネート）プロパン、ビス（４－フェニルイソシアネート）－２，２－ジクロロエチレン、１，１－ビス（４－フェニルイソシアネート）エタン、２，２－ビス（３－イソプロピル－４－フェニルイソシアネート）プロパン、１，３－ビス（２－（４－フェニルイソシアネート－）－２－プロピル）ベンゼン、ビス（４－フェニルイソシアネート－）スルホン、１，４－ビス（２－（４－フェニルイソシアネート－）－２－プロピル）ベンゼン、１，１－ビス（４－フェニルイソシアネート－）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（４－フェニルイソシアネート－）シクロヘキサン等を挙げることができる。
【0140】
１又は２個のチオール基を有する化合物としては、例えば、１－アダマンタンチオール、ベンジルチオール、ｔｅｒｔ－メルカプタン、ブタンチオール、１－チオールピレン、フェロセンチオール、４－チオアゾベンゼン、４－チオスチルベン、シクロヘキシルチオール、ヘキサンチオール、４，４’－ジチオフェニルメタン、ｐ－ベンゼンジチオール、１，１’－ジチオフェロセン、４，４’－ジチオアゾベンゼン、４，４’－ジチオスチルベン、１，４－ジチオシクロヘキサン、１，６－ジチオシクロヘキサン、α，ω－ジチオポリエチレングリコール、α，ω－ジチオポリプロピレングリコール、１，１－ビス（４－チオフェニル）－１－フェニルエタン、２，２－ビス（４－チオフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス（４－チオフェニル）ブタン、ビス（４－チオフェニル）ジフェニルメタン、２，２－ビス（３－メチル－４－チオフェニル）プロパン、ビス（４－チオフェニル）－２，２－ジクロロエチレン、１，１－ビス（４－チオフェニル）エタン、２，２－ビス（３－イソプロピル－４－チオフェニル）プロパン、１，３－ビス（２－（４－チオフェニル）－２－プロピル）ベンゼン、ビス（４－チオフェニル）スルホン、１，４－ビス（２－（４－チオフェニル）－２－プロピル）ベンゼン、１，１－ビス（４－チオフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（４－チオフェニル）シクロヘキサン等を挙げることができる。
【0141】
ゲスト分子は、１個又は２個のアミノ基を有する化合物、及び、１個又は２個の水酸基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、具体的には、１－ヒドロキシアダマンタン（アダマンタノール）、１－アダマンタンアミン、４，４’－ジヒドロキシジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、α，ω－ジアミノポリエチレングリコール及びα，ω－ジアミノポリプロピレングリコールからなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
【0142】
≪ポリマーＰｇ；重縮合系ポリマー≫
ポリマーＰｇがゲスト基を有する重縮合系ポリマーある場合、例えば、公知のゲスト基含有重縮合系ポリマーを広く挙げることができ、具体的には、ゲスト基を有するポリアミド、ゲスト基を有するポリエステル、ゲスト基を有するポリカーボネート等を挙げることができる。
ポリマーＰｇがゲスト基を有する重縮合系ポリマーある場合、例えば、公知のゲスト基含有重縮合系ポリマーを広く挙げることができ、具体的には、ゲスト基を有するポリアミド、ゲスト基を有するポリエステル、ゲスト基を有するポリカーボネート等を挙げることができる。
【0143】
＜ポリマーＰｈ＞
ポリマーＰｈは、ポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有し、かつ、ホスト基を有する限り、その種類は特に限定されず、例えば、公知のホスト基含有ポリマーをポリマーＰｈとして適用することができる。
ポリマーＰｈは、ポリシロキサン骨格以外の骨格を主鎖として有し、かつ、ホスト基を有する限り、その種類は特に限定されず、例えば、公知のホスト基含有ポリマーをポリマーＰｈとして適用することができる。
【0144】
ポリマーＰｈは、例えば、ホスト基を有するビニル系ポリマー、ホスト基を有する重付加系ポリマー及びホスト基を有する重縮合系ポリマーを挙げることができる。以下、それぞれのポリマーについて詳述する。
【0145】
≪ポリマーＰｈ；ビニル系ポリマー≫
ポリマーＰｈがホスト基を有するビニル系ポリマーである場合、ビニル系単量体のラジカル重合によって形成されるポリマーを挙げることができ、例えば、公知のホスト基含有ビニルポリマーが挙げられる。ホスト基含有ビニルポリマーにおいて、ホスト基は、例えば、側鎖に共有結合により結合し得るものであり、好ましくは、ホスト基は側鎖に共有結合により結合し得る。
ポリマーＰｈがホスト基を有するビニル系ポリマーである場合、ビニル系単量体のラジカル重合によって形成されるポリマーを挙げることができ、例えば、公知のホスト基含有ビニルポリマーが挙げられる。ホスト基含有ビニルポリマーにおいて、ホスト基は、例えば、側鎖に共有結合により結合し得るものであり、好ましくは、ホスト基は側鎖に共有結合により結合し得る。
【0146】
ホスト基含有ビニルポリマーは、その構造単位中に、ホスト基含有ビニルモノマー単位を有することができる。ホスト基含有ビニルモノマー単位は、ホスト基含有ビニルモノマーにより形成される構造単位である。ホスト基含有ビニルモノマーは、前記ホスト基を有するビニル化合物である限りは特に限定されず、例えば、公知のホスト基含有ビニルモノマーを広く例示することができる。ホスト基含有ビニルモノマーは、アクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＯ）－）、メタクリロイル基（ＣＨ２＝ＣＣＨ３（ＣＯ）－）、その他、スチリル基、ビニル基、アリル基等のいずれかを有する化合物である。
【0147】
ホスト基含有ビニルモノマーの具体例としては、下記の一般式（ｈ１）で表される化合物を挙げることができる。
【0148】
【化10】
【0149】
式（ｈ１）中、Ｒａは水素原子またはメチル基を表し、ＲＨは前記ホスト基を表し、Ｒ１は前記式（ｇ１）のＲ２と同義である。
【0150】
あるいは、ホスト基含有ビニルモノマーは、下記の一般式（ｈ２）で表される化合物を挙げることができる。
【0151】
【化11】
【0152】
式（ｈ２）中、Ｒａ、ＲＨ及びＲ１はそれぞれ式（ｈ１）のＲａ、ＲＨ及びＲ１と同義である。
【0153】
さらには、ホスト基含有ビニルモノマーは、下記の一般式（ｈ３）で表される化合物を挙げることができる。
【0154】
【化12】
【0155】
式（ｈ３）中、Ｒａ、ＲＨ及びＲ１はそれぞれ式（ｈ１）のＲａ、ＲＨ及びＲ１と同義である。ｎは１～２０、好ましくは１～１０、より好ましくは１～５の整数である。Ｒｂは、水素又は炭素数１～２０のアルキル基（好ましくは炭素数１～１０のアルキル基、より好ましくは炭素数１～６のアルキル基）を示す。
【0156】
なお、式（ｈ１）、（ｈ２）及び（ｈ３）で表されるホスト基含有ビニルモノマーにおけるホスト基ＲＨは、シクロデキストリン又はその誘導体から１個の水酸基が除された１価の基である場合の例である。
【0157】
式（ｈ１）～（ｈ３）において、置換基は特に限定されず、例えば、置換基としては、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、炭素数２～２０のアルキニル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、カルボニル基、スルホニル基、スルホン基、シアノ基等を挙げることができる。
【0158】
式（ｈ１）～（ｈ３）において、Ｒ１が１個の置換基を有していてもよいアミノ基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基であれば、アミノ基の窒素原子がＣ＝Ｃ二重結合の炭素原子と結合し得る。式（ｈ１）～（ｈ３）において、Ｒ１が１個の置換基を有していてもよいアミド基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基であれば、アミド基の炭素原子がＣ＝Ｃ二重結合の炭素原子と結合し得る。式（ｈ１）～（ｈ３）において、Ｒ１がアルデヒド基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基であれば、アルデヒド基の炭素原子がＣ＝Ｃ二重結合の炭素原子と結合し得る。式（ｈ１）～（ｈ３）において、Ｒ１がカルボキシル基から１個の水素原子を除去することにより形成される２価の基である場合、カルボキシル基の炭素原子がＣ＝Ｃ二重結合の炭素原子と結合し得る。
【0159】
式（ｈ１）～（ｈ３）で表される化合物は、例えば、（メタ）アクリル酸エステル誘導体（すなわち、Ｒ１が－ＣＯＯ－）、（メタ）アクリルアミド誘導体（すなわち、Ｒ１が－ＣＯＮＨ－又は－ＣＯＮＲ－であり、Ｒは前記置換基と同義である）であることが好ましい。前記－ＣＯＮＲ－のＲとしては、例えば、炭素数１～２０のアルキル基が好ましく、炭素数１～１０のアルキル基がより好ましく、炭素数１～６のアルキル基が特に好ましい。
【0160】
ポリマーＰｈがホスト基含有ビニルポリマーである場合、斯かるホスト基含有ビニルポリマーは、ホスト基含有ビニルモノマー単位以外に他のビニルモノマー単位を有することができる。他の単量体単位としては、前記第３の単量体単位を挙げることができる。
【0161】
ポリマーＰｈがホスト基含有ビニルポリマーである場合、斯かるホスト基含有ビニルポリマー中のホスト基の含有割合は特に限定されない。例えば、ホスト基含有ビニルポリマーの全構造単位中、ホスト基含有ビニルモノマー単位の含有割合は、例えば、０．１モル％以上、３０モル％以下である。複合ポリマー材料の力学特性がより向上しやすいという点で、ホスト基含有ビニルポリマーの全構造単位中、ホスト基含有ビニルモノマー単位の含有割合は、好ましくは０．２モル％以上、より好ましくは０．５モル％以上、さらに好ましくは０．８モル％以上、特に好ましくは１モル％以上である。また、複合ポリマー材料の力学特性がより向上しやすいという点で、ホスト基含有ビニルポリマーの全構造単位中、ホスト基含有ビニルモノマー単位の含有割合は、好ましくは２０モル％以下、より好ましくは１５モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以下、特に好ましくは５モル％以下である。
【0162】
なお、ホスト基含有ビニルポリマー中のホスト基含有ビニルモノマー単位の含有割合は、ホスト基含有ビニルポリマーの製造に使用したモノマー中のホスト基含有ビニルモノマーの含有割合に一致するものと見なすことができる。
【0163】
ホスト基含有ビニルポリマーの製造方法は特に限定されず、例えば、公知のラジカル重合法によって、ホスト基含有ビニルポリマーを製造することができる。
【0164】
≪ポリマーＰｈ；重付加系ポリマー≫
ポリマーＰｈがホスト基を有する重付加系ポリマーである場合、例えば、公知のホスト基含有重付加系ポリマーを広く挙げることができ、具体的には、ウレタン結合を有するポリマー、すなわちポリウレタンを挙げることができる。
ポリマーＰｈがホスト基を有する重付加系ポリマーである場合、例えば、公知のホスト基含有重付加系ポリマーを広く挙げることができ、具体的には、ウレタン結合を有するポリマー、すなわちポリウレタンを挙げることができる。
【0165】
ホスト基含有重付加系ポリマーは、例えば、両末端にホスト基を有する鎖状ポリマーであることが好ましい。この場合、ホスト基含有重付加系ポリマーは、シリコーン系ポリマーＳとのホスト－ゲスト相互作用を形成しやすいので、架橋ポリマーが安定に形成されやすい。
【0166】
斯かるホスト基含有重付加系ポリマーとしては、例えば、両末端にホスト基を有し、かつ、２個のイソシアネート基を有する化合物由来の単位と、２個の水酸基を有する化合物由来の単位とが結合してなる構成単位を有するポリマーを挙げることができる。
【0167】
ホスト基含有重付加系ポリマーの製造方法は特に限定されず、例えば、公知の重付加系ポリマーと同様の方法で製造することができる。例えば、ホスト分子と、２個のイソシアネート基を有する化合物と、２個の水酸基を有する化合物とを含む原料の重付加反応により、ホスト基含有重付加系ポリマーを製造することができる。重付加反応の条件も特に限定されず、公知の重付加反応と同様の条件を採用することができる。２個のイソシアネート基を有する化合物と、２個の水酸基を有する化合物は、ゲスト基含有重付加系ポリマーの製造で使用するものと同じである。
【0168】
前記ホスト分子としては、前記ホスト基を有する限り、その種類は特に限定されず、例えば、１又は２個のアミノ基を有するホスト分子、１又は２個の水酸基を有するホスト分子、１又は２個のカルボキシ基を有するホスト分子、１又は２個のエポキシ基を有するホスト分子、１又は２個のイソシアネート基を有するホスト分子、１又は２個のチオール基を有するホスト分子、１又は２個のカルボン酸塩化物を有するホスト分子を挙げることができる。
【0169】
≪ポリマーＰｈ；重縮合系ポリマー≫
ポリマーＰｈがゲスト基を有する重縮合系ポリマーある場合、例えば、公知のゲスト基含有重縮合系ポリマーを広く挙げることができ、具体的には、ホスト基を有するポリアミド、ホスト基を有するポリエステル、ホスト基を有するポリカーボネート等を挙げることができる。
ポリマーＰｈがゲスト基を有する重縮合系ポリマーある場合、例えば、公知のゲスト基含有重縮合系ポリマーを広く挙げることができ、具体的には、ホスト基を有するポリアミド、ホスト基を有するポリエステル、ホスト基を有するポリカーボネート等を挙げることができる。
【0170】
＜ポリマーＰ＞
上述のとおり、ポリマーＰは、一態様においてシリコーン系ポリマーＰｈであり、また、ポリマーＰは、他の一態様において、ポリマーＰｇである。シリコーン系ポリマーＳがシリコーン系ポリマーＳｈである場合、ポリマーＰは、ポリマーＰｇであり、シリコーン系ポリマーＳがシリコーン系ポリマーＳｇである場合、ポリマーＰは、ポリマーＰｈである。
上述のとおり、ポリマーＰは、一態様においてシリコーン系ポリマーＰｈであり、また、ポリマーＰは、他の一態様において、ポリマーＰｇである。シリコーン系ポリマーＳがシリコーン系ポリマーＳｈである場合、ポリマーＰは、ポリマーＰｇであり、シリコーン系ポリマーＳがシリコーン系ポリマーＳｇである場合、ポリマーＰは、ポリマーＰｈである。
【0171】
ポリマーＰは、直鎖状であってもよいし、分岐状であってもよく、シリコーン系ポリマーＳとの架橋ポリマーを形成しやすい点で、ポリマーＰは、直鎖状であることが好ましい。
【0172】
ポリマーＰは、ランダムポリマー、ブロックポリマー等のいずれの構造を有していてもよく、製造が容易である点で、ランダムポリマーであることが好ましい。
【0173】
ポリマーＰの質量平均分子量も特に限定されず、１，０００～１，０００，０００、好ましくは、５，０００～８００，０００、より好ましくは、１０，０００～６００，０００である。ここでいう質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によって測定した任意の標準物質（ポリスチレン）換算した重量平均分子量のことである。
【0174】
（複合ポリマー材料）
本発明の複合ポリマー材料は、シリコーン系ポリマーＳと、ポリマーＰとが架橋されてなる架橋ポリマーを含むものであって、当該架橋ポリマーにおいて、シリコーン系ポリマーＳと、ポリマーＰとの間には、ホスト基及びゲスト基に基づくホスト－ゲスト相互作用が形成されている。斯かるホスト－ゲスト相互作用は、前述のように、ホスト基及びゲスト基が包接錯体を形成することによって形成されるものであり、いわば、包接錯体を架橋点として、架橋ポリマーが形成され得る。
本発明の複合ポリマー材料は、シリコーン系ポリマーＳと、ポリマーＰとが架橋されてなる架橋ポリマーを含むものであって、当該架橋ポリマーにおいて、シリコーン系ポリマーＳと、ポリマーＰとの間には、ホスト基及びゲスト基に基づくホスト－ゲスト相互作用が形成されている。斯かるホスト－ゲスト相互作用は、前述のように、ホスト基及びゲスト基が包接錯体を形成することによって形成されるものであり、いわば、包接錯体を架橋点として、架橋ポリマーが形成され得る。
【0175】
本発明の複合ポリマー材料の一態様において、架橋ポリマー中のホスト－ゲスト相互作用は、シリコーン系ポリマーＳの側鎖とポリマーＰの側鎖との間に形成され得る。この態様では、例えば、シリコーン系ポリマーＳをシリコーン系ポリマーＳｈとし、ポリマーＰをポリマーＰｇ、とりわけ前記ゲスト基含有ビニルポリマーとすることができる。
【0176】
図１は、シリコーン系ポリマーＳの側鎖と前記ポリマーＰの側鎖との間にホスト－ゲスト相互作用が形成されてなる架橋ポリマーを模式的に示している。具体的には、シリコーン系ポリマーＳｈ（図１中、Ｓｈと表記）と、ゲスト基含有ビニルポリマー（図１中、Ｐｇと表記）とのホスト－ゲスト相互作用によって形成された架橋ポリマーＸ１（図１中、Ｘ１と表記）を模式的に示している。
【0177】
図１に示す架橋ポリマーＸ１では、シリコーン系ポリマーＳｈ側鎖のホスト基Ｈに、ゲスト基含有ビニルポリマー（Ｐｇ）側鎖のゲスト基Ｇが包接されて包接錯体が形成されている。斯かる包接錯体が架橋点となって、架橋ポリマーＸ１が形成されている。
【0178】
シリコーン系ポリマーＳの側鎖と前記ポリマーＰの側鎖との間にホスト－ゲスト相互作用が形成されて架橋ポリマーが形成される場合、ポリマーＰはビニル系ポリマーであることが好ましい。例えば、図１に示すように、シリコーン系ポリマーＳがシリコーン系ポリマーＳｈ、ポリマーＰがゲスト基含有ビニルポリマー（Ｐｇ）である架橋ポリマーが挙げられる。
【0179】
本発明の複合ポリマー材料の他の一態様において、架橋ポリマー中のホスト－ゲスト相互作用は、シリコーン系ポリマーＳの側鎖とポリマーＰの末端との間に形成され得る。この態様では、例えば、シリコーン系ポリマーＳをシリコーン系ポリマーＳｈとし、ポリマーＰをポリマーＰｇ、とりわけ、ポリウレタン等の前記重付加系ポリマーとすることができる。
【0180】
図２は、シリコーン系ポリマーＳの側鎖と前記ポリマーＰの両末端との間にホスト－ゲスト相互作用が形成されてなる架橋ポリマーを模式的に示している。具体的には、シリコーン系ポリマーＳｈ（図２中、Ｓｈと表記）と、重付加系ポリマー（図２中、Ｐｇ´と表記）とのホスト－ゲスト相互作用によって形成された架橋ポリマーＸ２（図２中、Ｘ２と表記）を模式的に示している。
【0181】
図２に示す架橋ポリマーＸ２では、シリコーン系ポリマーＳｈ側鎖のホスト基Ｈに、重付加系ポリマー（Ｐｇ´）末端のゲスト基Ｇが包接されて包接錯体が形成されている。具体的には、重付加系ポリマー（Ｐｇ´）一端のゲスト基がシリコーン系ポリマーＳｈ側鎖のホスト基Ｈに包接されて包接錯体が形成されており、他端のゲスト基が他のシリコーン系ポリマーＳｈ側鎖のホスト基Ｈに包接されて包接錯体が形成されている。それぞれの包接錯体が架橋点となって、架橋ポリマーＸ２が形成される。
【0182】
シリコーン系ポリマーＳの側鎖と前記ポリマーＰの末端との間にホスト－ゲスト相互作用が形成されて架橋ポリマーが形成される場合、ポリマーＰは重付加系ポリマー及び重縮合系ポリマーからなる群より選ばれる１種以上であることが好ましく、重付加系ポリマーであることがより好ましく、両末端にゲスト基を有するポリウレタンであることがさらに好ましい。
【0183】
本発明の複合ポリマー材料は、シリコーン系ポリマーＳと、ポリマーＰとが架橋されてなる架橋ポリマーのみからなるものであってもよいし、実質的に架橋ポリマーのみからなるものであってもよい。また、複合ポリマー材料は、本発明の効果が阻害されない限り、架橋ポリマー以外の他のポリマー成分を含むこともできる。他のポリマー成分としては、架橋に関与しなかったシリコーン系ポリマーＳ、ポリマーＰを挙げることができ、その他、シリコーン系ポリマーＳ及びポリマーＰ以外のポリマーを挙げることができる。複合ポリマー材料は、ポリマー成分以外の各種添加剤を含むこともできる。
【0184】
本発明の複合ポリマー材料に含まれる架橋ポリマーにおいて、シリコーン系ポリマーＳと、ポリマーＰとの含有割合は特に限定されない。例えば、複合ポリマー材料の力学特性が向上しやすい点で、シリコーン系ポリマーＳ及びポリマーＰの全質量に対するシリコーン系ポリマーＳの含有割合は１０～９０質量％であることが好ましく、２０～８０質量％であることがより好ましく、４０～６０質量％であることがさらに好ましい。
【0185】
また、本発明の複合ポリマー材料に含まれる架橋ポリマーにおいて、ゲスト基の含有割合は、ホスト基を有するポリマーに対して、例えば、０．１モル％以上、３０モル％以下とすることが好ましい。この場合、複合ポリマー材料の力学特性がより向上しやすく、また、後記する自己修復性も向上しやすい。ここでいうホスト基を有するポリマーとは、シリコーン系ポリマーＳｈ又はポリマーＰｈ等である。ゲスト基の含有割合は、ホスト基を有するポリマーに対して、好ましくは０．５モル％以上、より好ましくは１モル％以上、さらに好ましくは１．５モル％以上、特に好ましくは２モル％以上、最も好ましくは３モル％以上であり、また、好ましくは２０モル％以下、より好ましくは１５モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以下、特に好ましくは５モル％以下である。とりわけ、ゲスト基の含有割合の下限に関しては、架橋ポリマーにおけるポリマーＰｇが重付加系ポリマーである場合、ゲスト基の含有割合は、ホスト基を有するポリマーに対して、好ましくは０．０５モル％以上、より好ましくは０．１モル％以上、さらに好ましくは０．２モル％以上、特に好ましくは０．３モル％以上、最も好ましくは０．５モル％以上である。
【0186】
架橋ポリマーを形成するためのホスト基及びゲスト基の好ましい組み合わせとしては、ホスト基がα－シクロデキストリン誘導体由来である場合、ゲスト基はオクチル基及びドデシル基の群から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ホスト基がβ－シクロデキストリン誘導体由来である場合、ゲスト基はアダマンチル基及びイソボルニル基の群から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ホスト基がγ－シクロデキストリン誘導体由来である場合、ゲスト基はオクチル基、ドデシル基、シクロドデシル基及びアダマンチル基からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。
【0187】
架橋ポリマーに含まれるシリコーン系ポリマーＳは１種又は２種以上とすることができ、また、架橋ポリマーに含まれるポリマーＰは１種又は２種以上とすることができる。
【0188】
本発明の複合ポリマー材料においては、前記シリコーン系ポリマーＳが少なくとも１個の前記ホスト基を有し、前記ポリマーＰが少なくとも１個の前記ゲスト基を有することが好ましい。すなわち、架橋ポリマーは、シリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇで形成されていることが好ましい。この場合、複合ポリマー材料は、力学特性が向上しやすく、また、フィルム等の成形体にした場合に透明性も高まりやすい。
【0189】
【0190】
シリコーン系ポリマーＳと、ポリマーＰとのホスト－ゲスト相互作用は可逆性を有するものである。従って、本発明の複合ポリマー材料は、自己修復性を有することもできる。例えば、フィルム状等に成型された複合ポリマー材料の成型品を切断した後、切断部分どうしを再接着することで成型品が自己修復し得る。切断によって解消されたホスト－ゲスト相互作用が、再度、その可逆性により、新たにホスト－ゲスト相互作用が生じ得る（すなわち、包接錯体を再形成し得る）からである。
【0191】
架橋ポリマーにおいて、シリコーン系ポリマーＳと、ポリマーＰとは、包接錯体に基づくホスト－ゲスト相互作用に加えて、さらに水素結合に基づく相互作用を有していることも好ましい。すなわち、前記シリコーン系ポリマーＳと、前記ポリマーＰとの間に水素結合が更に形成されていることが好ましい。この場合、本発明の複合ポリマー材料は、力学特性が特に向上しやすい。シリコーン系ポリマーＳ及びポリマーＰ中の両方に水素結合性の官能基が含まれる場合、シリコーン系ポリマーＳと、ポリマーＰとの間に水素結合に基づく相互作用が生じ得る。水素結合性の官能基は、例えば、水酸基、カルボキシ基、アミノ基等である。
【0192】
水素結合を有する架橋ポリマーの一態様として、前記式（３．２）で表される構成単位を含有するシリコーン系ポリマーＳと、水素結合性の官能基を有するポリマーＰとの組み合わせを挙げることができる。とりわけ、前記式（３．２）で表される構成単位を含有するシリコーン系ポリマーＳｈと、水素結合性の官能基を有するポリマーＰｇとの組み合わせを挙げることができる。
【0193】
水素結合を有する架橋ポリマーを形成するためのシリコーン系ポリマーＳｈは、前記式（３．２）で表される構成単位において、Ａが水酸基であることが好ましい。また、水素結合を有する架橋ポリマーを形成するためのポリマーＰｇとしては、水素結合性の官能基を有する第３の単量体単位を含むことが好ましい。斯かる第３の単量体単位を形成するための第３の重合性単量体としては、水酸基含有（メタ）アクリルエステル、カルボキシル基含有（メタ）アクリルエステル、アミノ基含有（メタ）アクリルエステルを挙げることができ、中でも、水酸基含有（メタ）アクリルエステルが好ましい。水酸基含有（メタ）アクリルエステルとしては、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２－メトキシ（メタ）アクリレート、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【0194】
水素結合を有する架橋ポリマーを形成するためのポリマーＰｇは、ゲスト基含有ビニルモノマー単位と、水酸基含有（メタ）アクリルエステル単位と、（メタ）アクリル酸アルキル単位を有する共重合体であることが好ましい。（メタ）アクリル酸アルキル単位において、アルキル基の炭素数は好ましくは１～８、より好ましくは１～５、さらに好ましくは１～３、特に好ましくは１～２である。
【0195】
水素結合を有する架橋ポリマーを形成するためのポリマーＰｇにおいて、前記水酸基含有（メタ）アクリルエステルの含有割合は、ゲスト基含有ビニルモノマー単位を除くポリマーＰｇ中の構造単位の全量に対し、好ましくは１～５０質量％、より好ましくは５～４０質量％、さらに好ましくは１０～３０質量％である。
【0196】
本発明の複合ポリマー材料の形状は特に限定されず、例えば、フィルム、シート、板、ブロック等の成形体であってもよいし、あるいは、粒子状、繊維状、顆粒状、ペレット状等であってもよく、さらには、溶液、ペースト、分散液等の液状であってもよい。
【0197】
複合ポリマー材料の成形体を製造する場合、その製造方法は特に限定されず、例えば、公知の成形方法を広く採用することができ、具体的には、キャスト法、プレス成形法、押出成形法、射出成形法等を挙げることができる。
【0198】
本発明の複合ポリマー材料は、力学特性にも優れるものであり、特にヤング率及びタフネスの一方又は双方が向上する。従って、本発明の複合ポリマー材料は、柔軟性を有しつつ、強靭な材料である。しかも、本発明の複合ポリマー材料は、高い透明性を有することもでき、また、前述のように優れた自己修復性も有する。
【0199】
従って、本発明の複合ポリマー材料は、各種用途に使用することが可能であり、中でも、透明性が高いことから光学材料としても好適に使用することができる。
【0200】
２．複合ポリマー材料の製造方法
本発明の複合ポリマーの製造方法は特に限定されない。例えば、シリコーン系ポリマーＳの存在下でポリマーＰを合成することにより架橋ポリマーを形成させる工程を具備することができる。斯かる工程を具備する製造方法により、本発明の複合ポリマーを製造することができる。斯かる工程を具備する製造方法では、ホスト－ゲスト相互作用が形成されやすく（すなわち、包接錯体が形成されやすく）、架橋ポリマーを効率よく合成し得る。
本発明の複合ポリマーの製造方法は特に限定されない。例えば、シリコーン系ポリマーＳの存在下でポリマーＰを合成することにより架橋ポリマーを形成させる工程を具備することができる。斯かる工程を具備する製造方法により、本発明の複合ポリマーを製造することができる。斯かる工程を具備する製造方法では、ホスト－ゲスト相互作用が形成されやすく（すなわち、包接錯体が形成されやすく）、架橋ポリマーを効率よく合成し得る。
【0201】
具体的には、シリコーン系ポリマーＳｈの存在下で、ポリマーＰｇを合成する工程を備える製造方法によって、本発明の複合ポリマーの製造することができる。
【0202】
（シリコーン系ポリマーＳｈの製造方法）
シリコーン系ポリマーＳｈの製造方法は特に限定されない。例えば、ポリシロキサンにホスト基含有化合物を反応させることで、ポリシロキサン骨格の側鎖にホスト基を導入することができ、シリコーン系ポリマーＳｈを得ることができる。当該反応の種類は特に限定されず、例えば、付加反応を挙げることができる。
シリコーン系ポリマーＳｈの製造方法は特に限定されない。例えば、ポリシロキサンにホスト基含有化合物を反応させることで、ポリシロキサン骨格の側鎖にホスト基を導入することができ、シリコーン系ポリマーＳｈを得ることができる。当該反応の種類は特に限定されず、例えば、付加反応を挙げることができる。
【0203】
シリコーン系ポリマーＳｈは、例えば、下記の工程Ａを備える製造方法により得ることができる。
工程Ａ：ポリシロキサン化合物と、少なくとも１種のアルケニル基含有化合物とを反応する工程。
工程Ａ：ポリシロキサン化合物と、少なくとも１種のアルケニル基含有化合物とを反応する工程。
【0204】
工程Ａでは、ポリシロキサン化合物として、側鎖に－ＳＨ基及び／又は－Ｓｉ－Ｈ基を有するポリシロキサン化合物を使用することができる。当該ポリシロキサン化合物は前記アルケニル基含有化合物と付加反応することができる。これにより、例えば、アルケニル基含有化合物がホスト基を有する場合は、ポリシロキサン骨格の側鎖にホスト基が共有結合的に導入され得る。
【0205】
工程Ａで使用するポリシロキサン化合物の種類は、－ＳＨ基及び／又は－Ｓｉ－Ｈ基を有する限り特にその種類は制限されない。例えば、工程Ａで使用するポリシロキサン化合物は、前記式（３．１）で表される構造単位及び前記式（３．２）で表される構造単位を有する化合物を挙げることができる。以下、前記式（３．１）で表される構造単位及び前記式（３．２）で表される構造単位を有するポリシロキサン化合物を「ポリシロキサン化合物ａ」と表記する。
【0206】
ポリシロキサン化合物ａが－ＳＨ基を有さない場合、例えば、前記式（３．１）におけるＲ３及びＲ４の少なくとも一方は水素となる。前記式（３．１）におけるＲ３及びＲ４の両方が水素でない場合、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なって、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基であることが好ましく、メチル基が特に好ましい。
【0207】
ポリシロキサン化合物ａにおいて、前記式（３．２）中、Ｒ７は、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基であることが好ましく、メチル基が特に好ましい。また、Ｒ８が、ヘテロ原子が介在したアルキレン基である場合、Ｒ８としては、アルキレン基、又は、チオエーテル結合を有するアルキレン基が挙げられ、例えば、－（ＣＨ２）ｍ１－や－（ＣＨ２）ｍ１－Ｓ－（ＣＨ２）ｍ２－が例示される。これらにおいて、ｍ１及びｍ２は１～１０の数であり、好ましくは１～８、より好ましくは１～５である。ｍ１及びｍ２は同一であっても異なっていてもよい。
【0208】
ポリシロキサン化合物ａが－ＳＨ基を有さない場合、前記式（３．２）中、Ａはチオール基以外の基であり、ポリシロキサン化合物ａが－ＳＨ基を有するものであって、前記式（３．１）におけるＲ３及びＲ４の両方が水素でない場合、Ａはチオール基である。
【0209】
ポリシロキサン化合物ａの全構造単位中、前記式（３．１）で表される構造単位の含有割合は、例えば、７０モル％以上とすることができ、好ましくは７５モル％以上、より好ましくは８０モル％以上、さらに好ましくは８５モル％以上、特に好ましくは９０モル％以上である。また、ポリシロキサン化合物ａの全構造単位中、前記式（３．１）で表される構造単位の含有割合は、例えば、９９．９モル％以下とすることができ、好ましくは９９モル％以下、より好ましくは９８モル％以下、さらに好ましくは９６モル％以下、特に好ましくは９５モル％以下である。
【0210】
ポリシロキサン化合物ａの全構造単位中、前記式（３．２）で表される構造単位の含有割合は、例えば、０．１モル％以上とすることができ、好ましくは１モル％以上、より好ましくは２モル％以上、さらに好ましくは４モル％以上、特に好ましくは５モル％以上である。また、ポリシロキサン化合物ａの全構造単位中、前記式（３．２）で表される構造単位の含有割合は、例えば、３０モル％以下とすることができ、好ましくは２５モル％以下、より好ましくは２０モル％以下、さらに好ましくは１５モル％以下、特に好ましくは１０モル％以下である。
【0211】
工程Ａで使用するアルケニル基含有化合物は、ホスト基を有するアルケニル基含有化合物を挙げることができるアルケニル基は、例えば、ビニル基、アリル基等を挙げることができる。ホスト基を有するアルケニル基含有化合物の種類は特に限定されず、例えば、公知の化合物を広く使用することができる。ホスト基を有するアルケニル基含有化合物の具体例としては、前記式（ｈ１）で表される化合物、前記式（ｈ２）で表される化合物を挙げることができる。ホスト基を有するアルケニル基含有化合物は、公知の方法で製造することができ、あるいは、市販品を使用することもできる。
【0212】
工程Ａの反応では、ホスト基を有するアルケニル基含有化合物以外のアルケニル基含有化合物を併用することもできる。斯かるアルケニル基含有化合物を「アルケニル基含有化合物ｃ」と表記する。
【0213】
アルケニル基含有化合物ｃとしては、置換基を有していてもよい炭素数２～１０のアルケニル化合物を挙げることができる。置換基は、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシ基等を挙げることができる。アルケニル化合物において、炭素－炭素二重結合の位置は特に限定されず、例えば、アルケニル化合物の末端（例えば、１，２－アルケニル化合物）とすることができ、この場合、逆側の末端に前記置換基を有することができる。アルケニル基含有化合物ｃの具体例として、１－ペンテン、２－ペンテン、アリルアルコール等を挙げることができ、１－ペンテンの場合は複合ポリマー材料の力学特性が向上しやすい。
【0214】
工程Ａの反応では、前記ポリシロキサン化合物と、少なくとも１種のアルケニル基含有化合物（ホスト基を有するアルケニル基含有化合物）とを反応する。この反応では必要に応じて、前記アルケニル基含有化合物ｃも使用する。この場合、得られる複合ポリマー材料は、優れた力学特性（特に優れたヤング率及びタフネス）を有しやすく、また、透明性も高くなりやすい。
【0215】
工程Ａの反応では、アルケニル基含有化合物（アルケニル基含有化合物ｃは含まない）の使用量は特に限定されず、例えば、前記ポリシロキサン化合物に対し、０．１～３０モル％とすることができる。また、工程Ａの反応では、アルケニル基含有化合物ｃの使用量は、例えば、前記ポリシロキサン化合物に対し、５０～１５０モル％とすることができる。
【0216】
工程Ａの反応は、例えば、光重合開始剤の存在下で行うことができる。これにより、前記ポリシロキサン化合物と、アルケニル基含有化合物との反応が促進されやすくなる。具体的に、ポリシロキサン化合物における－ＳＨ基及び／又は－Ｓｉ－Ｈ基と、アルケニル基含有化合物のアルケニル基との反応（付加反応）が起こりやすくなる。工程Ａにおいて、前記ポリシロキサン化合物がＳｉ－Ｈ基を有する場合は、触媒を用いたヒドロシリル化反応を用いることで、前記ポリシロキサン化合物と、アルケニル基含有化合物とを反応させることも可能である。
【0217】
工程Ａの反応で光重合開始剤を使用する場合、その使用量は特に限定されず、例えば、前記ポリシロキサン化合物に対し、１～２０モル％とすることができる。工程Ａの反応は、各種溶媒中で行うことができる。溶媒の種類は特に限定されず、例えば、アルケニル化合物とシリル基との付加反応あるいは、アルケニル化合物とチオール基との付加反応で従来から使用されている溶媒を広く適用することができる。溶媒として、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、イソホロン等のケトン系溶媒；ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ベンジルアルコール、フェノキシエタノール、フェニルプロピレングリコール等のアルコール系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒；１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、アニソール等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸プロピル、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のエステル系溶媒；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルミアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒等が挙げられる。
【0218】
工程Ａの反応は、例えば、ポリシロキサン化合物、アルケニル基含有化合物、アルケニル基含有化合物ｃ、光重合開始剤及び溶媒を含む原料に活性エネルギー線を照射して反応を進行させる方法、前記原料を所定の温度に調節して反応を進行させる方法で行うことができる。中でも反応が進行しやすいという点で、活性エネルギー線を照射する方法を採用することが好ましい。活性エネルギー線としては、紫外線、電子線、可視光線、Ｘ線、イオン線等が挙げられ、中でも、汎用性の点から紫外線または電子線が好ましく、紫外線が特に好ましい。
【0219】
工程Ａの反応を行った後、さらに追加で出発原料（例えば、ポリシロキサン化合物、アルケニル基含有化合物、アルケニル基含有化合物ｃ）等を加えることもできる。この場合、アルケニル基含有化合物ｃを追加することが好ましく、これにより、ポリシロキサン化合物中の未反応のＳｉ－Ｈ基やＳＨ基を消費させることが可能となる。
【0220】
工程Ａの反応が終了した後は、適宜の精製手段で所望のシリコーン系ポリマーＳｈを得ることができる。なお、シリコーン系ポリマーＳｇについては、工程Ａにおいて、ホスト基を有するアルケニル基含有化合物に替えてゲスト基を有するアルケニル基含有化合物を使用することで、シリコーン系ポリマーＳｇを製造することができる。
【0221】
上記のように製造されるシリコーン系ポリマーＳｈを用いて、架橋ポリマーを合成することができる。すなわち、前述のように、シリコーン系ポリマーＳｈの存在下で、ポリマーＰｇを合成することで、架橋ポリマーを得ることができる。
【0222】
具体的には、シリコーン系ポリマーＳｈの存在下、ポリマーＰｇを形成するための単量体原料の重合反応を行うことで、ポリマーＰｇを合成することができる。
【0223】
ポリマーＰｇを形成するための単量体原料として、ポリマーＰｇがゲスト基含有ビニルポリマーである場合は、前述の各種モノマー混合物（式（ｇ１）で表される化合物及び式（ａ１）で表される化合物の混合物）が使用され得る。当該モノマー混合物を、シリコーン系ポリマーＳｈの存在下でラジカル重合反応を行うことで、ゲスト基含有ビニルポリマーを合成することができる。斯かるラジカル重合反応は、例えば、公知のラジカル重合反応を広く使用することができる。
【0224】
また、ポリマーＰｇを形成するための単量体原料として、ポリマーＰｇがゲスト基含有重付加系ポリマーである場合は、前述のゲスト分子と、２個のイソシアネート基を有する化合物と、２個の水酸基を有する化合物とを含む原料混合物が使用され得る。当該原料混合物を、シリコーン系ポリマーＳｈの存在下で重付加反応を行うことで、ゲスト基含有重付加系ポリマーを合成することができる。斯かる重付加反応は、例えば、公知の重付加反応を広く使用することができる。
【0225】
シリコーン系ポリマーＳｈの存在下、ポリマーＰｇを合成することで、シリコーン系ポリマーＳｈ側鎖のホスト基に、ゲスト基が包接されつつ、ポリマーＰｇの重合反応が進行し、シリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーが形成される。
【0226】
シリコーン系ポリマーＳｈの存在下でのポリマーＰｇの合成は、各種有機溶媒中で行うことができる。有機溶媒としては、溶媒として、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、イソホロン等のケトン系溶媒；ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、ベンジルアルコール、フェノキシエタノール、フェニルプロピレングリコール等のアルコール系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒；１，２－ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、アニソール等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸プロピル、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のエステル系溶媒；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルミアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒等が挙げられる。
【0227】
以上のように、シリコーン系ポリマーＳｈの存在下、ポリマーＰｇを合成することで、シリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとのホスト－ゲスト相互作用に基づく架橋ポリマーが形成される。当該架橋ポリマーを単離し、必要に応じて他の材料や添加剤を組み合わせることで本発明の複合ポリマー材料とすることができる。
【0228】
また、架橋ポリマーが溶液として得られた場合は、斯かる溶液を本発明の複合ポリマー材料とすることができ、必要に応じて、各種他の成分を加えることもできる。当該溶を用いることで、例えば、複合ポリマー材料のフィルム等を得ることもできる。
【0229】
本開示に包含される発明を特定するにあたり、本開示の各実施形態で説明した各構成（性質、構造、機能等）は、どのように組み合わせられてもよい。すなわち、本開示には、本明細書に記載される組み合わせ可能な各構成のあらゆる組み合わせからなる主題が全て包含される。
【実施例0230】
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例の態様に限定されるものではない。
【0231】
（製造例１）
２００ｍＬガラス製丸底フラスコにβ－シクロデキストリン５ｇ（３．９ｍｍｏｌ）、Ｎ－ヒドロキシメチルアクリルアミド７００ｍｇ（６．９ｍｍｏｌ）及びｐ－トルエンスルホン酸一水和物９５ｍｇ（０．６ｍｍｏｌ）を秤量し、これらを２５ｍＬのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドに加えて反応液を調製した。溶液をオイルバスで９０℃に加熱し、１時間にわたって加熱撹拌することで反応液を得た。次いで、該反応液を放冷し、激しく撹拌しているアセトン４５ｍＬに注ぎこんだ。生じた沈殿をろ別した後、１０ｍＬのアセトンで三回洗浄し常温で１時間減圧乾燥することで反応物を得た。反応物を蒸留水１００ｍＬに溶解し、多孔質ポリスチレン樹脂（三菱化学ダイヤイオンＨＰ－２０）を充填したカラム（見かけ密度６００ｇ／Ｌ）に通じ、３０分間吸着させた。その後、溶液成分を除去し、カラムに新たに１０体積％メタノール（もしくはアセトニトリル）水溶液５０ｍＬを３回通じ、ポリスチレン樹脂を洗浄することで未反応β－シクロデキストリンを除去した。続いてカラムに２５体積％メタノール水溶液５００ｍＬを二回通ずることで、目的物であるアクリルアミドメチルβ－シクロデキストリン（βＣＤＡＡｍＭｅと表記）を溶出させた。溶媒を減圧除去することで、βＣＤＡＡｍＭｅを白色粉末として得た。このβＣＤＡＡｍＭｅ２０ｇをピリジン３００ｍＬに溶解し、無水酢酸１７０．１３３ｇを加え、５５℃で１２時間以上撹拌した。その後、メタノール５０ｍＬを加えクエンチし、内容量が２００ｍＬになるまでエバポレーターで濃縮した。得られた濃縮液を、水２，０００ｍＬに滴下し、沈殿を回収した。沈殿をアセトン２００ｍＬに溶解し、水２，０００ｍＬに滴下し、生成した沈殿物を回収し、これを減圧乾燥することにより目的物であるホスト基含有ビニルモノマーを単離した。得られたホスト基含有ビニルモノマーは、下記の式（ｈ１－２）で表される化合物であった（以下、「ＴＡｃβＣＤＡＡｍＭｅ」と表記する）。
２００ｍＬガラス製丸底フラスコにβ－シクロデキストリン５ｇ（３．９ｍｍｏｌ）、Ｎ－ヒドロキシメチルアクリルアミド７００ｍｇ（６．９ｍｍｏｌ）及びｐ－トルエンスルホン酸一水和物９５ｍｇ（０．６ｍｍｏｌ）を秤量し、これらを２５ｍＬのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドに加えて反応液を調製した。溶液をオイルバスで９０℃に加熱し、１時間にわたって加熱撹拌することで反応液を得た。次いで、該反応液を放冷し、激しく撹拌しているアセトン４５ｍＬに注ぎこんだ。生じた沈殿をろ別した後、１０ｍＬのアセトンで三回洗浄し常温で１時間減圧乾燥することで反応物を得た。反応物を蒸留水１００ｍＬに溶解し、多孔質ポリスチレン樹脂（三菱化学ダイヤイオンＨＰ－２０）を充填したカラム（見かけ密度６００ｇ／Ｌ）に通じ、３０分間吸着させた。その後、溶液成分を除去し、カラムに新たに１０体積％メタノール（もしくはアセトニトリル）水溶液５０ｍＬを３回通じ、ポリスチレン樹脂を洗浄することで未反応β－シクロデキストリンを除去した。続いてカラムに２５体積％メタノール水溶液５００ｍＬを二回通ずることで、目的物であるアクリルアミドメチルβ－シクロデキストリン（βＣＤＡＡｍＭｅと表記）を溶出させた。溶媒を減圧除去することで、βＣＤＡＡｍＭｅを白色粉末として得た。このβＣＤＡＡｍＭｅ２０ｇをピリジン３００ｍＬに溶解し、無水酢酸１７０．１３３ｇを加え、５５℃で１２時間以上撹拌した。その後、メタノール５０ｍＬを加えクエンチし、内容量が２００ｍＬになるまでエバポレーターで濃縮した。得られた濃縮液を、水２，０００ｍＬに滴下し、沈殿を回収した。沈殿をアセトン２００ｍＬに溶解し、水２，０００ｍＬに滴下し、生成した沈殿物を回収し、これを減圧乾燥することにより目的物であるホスト基含有ビニルモノマーを単離した。得られたホスト基含有ビニルモノマーは、下記の式（ｈ１－２）で表される化合物であった（以下、「ＴＡｃβＣＤＡＡｍＭｅ」と表記する）。
【0232】
【化13】
【0233】
（実施例１－１）
図３（ａ）に示す反応スキームに従い、シリコーン系ポリマーＳｈ（ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ（ｘ））を製造した。まず、チオール基を側鎖に有するポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ－ＳＨ）を４，５００ｍｇ（５．６ｍｍｏｌ、チオール基等量１０ｅｑ．であり、数平均分子量は～１，０００）と、製造例１で得られたＴＡｃβＣＤＡＡｍＭｅを１，２００ｍｇ（０．５８ｍｍｏｌ、１ｅｑ．）と、アリルアルコール（ＡＡｌ）を２９０ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ、９ｅｑ．）と、紫外光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１１７３を９２ｍｇ（０．５６ｍｍｏｌ、１ｅｑ．）とを、酢酸エチル（２０ｍＬ）に溶かして２０質量％の溶液を調製した。この溶液に、窒素バブリングを５分間行った後、波長３６５ｎｍの水銀ランプで１時間紫外光照射してＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ（ｘ）を生成させ、これをシリコーン系ポリマーＳｈ溶液として得た。ここでｘは、シリコーン系ポリマーＳｈ中におけるホスト基を有するシロキサン単位の割合（モル％）を示し、ｘ＝１であった。
図３（ａ）に示す反応スキームに従い、シリコーン系ポリマーＳｈ（ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ（ｘ））を製造した。まず、チオール基を側鎖に有するポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ－ＳＨ）を４，５００ｍｇ（５．６ｍｍｏｌ、チオール基等量１０ｅｑ．であり、数平均分子量は～１，０００）と、製造例１で得られたＴＡｃβＣＤＡＡｍＭｅを１，２００ｍｇ（０．５８ｍｍｏｌ、１ｅｑ．）と、アリルアルコール（ＡＡｌ）を２９０ｍｇ（５．０ｍｍｏｌ、９ｅｑ．）と、紫外光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１１７３を９２ｍｇ（０．５６ｍｍｏｌ、１ｅｑ．）とを、酢酸エチル（２０ｍＬ）に溶かして２０質量％の溶液を調製した。この溶液に、窒素バブリングを５分間行った後、波長３６５ｎｍの水銀ランプで１時間紫外光照射してＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ（ｘ）を生成させ、これをシリコーン系ポリマーＳｈ溶液として得た。ここでｘは、シリコーン系ポリマーＳｈ中におけるホスト基を有するシロキサン単位の割合（モル％）を示し、ｘ＝１であった。
【0234】
次いで、図３（ｂ）に示す反応スキームに従い、シリコーン系ポリマーＳｈの存在下でポリマーＰｇを合成することで、シリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーを合成した。具体的には、後掲の表１に示す配合量で、シリコーン系ポリマーＳｈ（ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ（ｘ））の溶液に、エチルアクリレート（ＥＡ）、Ｎ－（１－アダマンチル）アクリルアミド（ＡｄＡＡｍ）及び可視光重合開始剤としてフェニルビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（ＢＡＰＯ）を加えて原料を調製した。当該原料に、波長４２０ｎｍの可視光ＬＥＤを１時間可視光照射することで重合反応を行い、次いで、室温のドラフト内で一晩風乾し、８０℃のバキュームオーブンで一晩真空乾燥することで、ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／ＰＥＡ－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＥＡ）を得た（ただし、図３（ｂ）ではＰＥＡをＰＲと表記している（Ｒ＝ＥＡ）。従って、図中のＣ＝Ｃ－ＲはＥＡを表す）。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマー（図１の架橋ポリマーＸ１の構造を有する）とした。ここで、ｘ及びｙはそれぞれシリコーン系ポリマーＳｈに対するホスト基を有するシロキサン単位の割合（モル％）及びゲスト基含有ビニルモノマー単位の含有割合（モル％）であり、ｗＰＥＡはシリコーン系ポリマーＳｈ及びＥＡの全量に対するＥＡの含有割合（質量％）であり、仕込み量からｘ＝１、ｙ＝２、ｗＰＥＡ＝５０と計算された。
【0235】
（実施例１－２）
表１に示す配合量に変更して原料を調製したこと以外は実施例１－１と同様の方法で、ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／ＰＥＡ－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＥＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーとし、ｘ＝１、ｙ＝５、ｗＰＥＡ＝５０と計算された。
表１に示す配合量に変更して原料を調製したこと以外は実施例１－１と同様の方法で、ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／ＰＥＡ－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＥＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーとし、ｘ＝１、ｙ＝５、ｗＰＥＡ＝５０と計算された。
【0236】
（比較例１－１）
表１に示す配合量に変更して原料を調製したこと以外は実施例１－１と同様の方法で、ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／ＰＥＡ（ｘ，ｙ；ｗＰＥＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとゲスト基を有さないポリマーとの混合物とし、ｘ＝１、ｙ＝０、ｗＰＥＡ＝５０と計算された。
表１に示す配合量に変更して原料を調製したこと以外は実施例１－１と同様の方法で、ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／ＰＥＡ（ｘ，ｙ；ｗＰＥＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとゲスト基を有さないポリマーとの混合物とし、ｘ＝１、ｙ＝０、ｗＰＥＡ＝５０と計算された。
【0237】
【表1】
【0238】
（比較例１－２）
ＴＡｃβＣＤＡＡｍＭｅを使用せずに、また、アリルアルコールの使用量を２９０ｍｇに変更したこと以外は実施例１－１と同様の方法で重合反応を行った。これにより、ホスト基を有さないポリシロキサンと、ゲスト基含有ビニルポリマーとの混合物を得た。
ＴＡｃβＣＤＡＡｍＭｅを使用せずに、また、アリルアルコールの使用量を２９０ｍｇに変更したこと以外は実施例１－１と同様の方法で重合反応を行った。これにより、ホスト基を有さないポリシロキサンと、ゲスト基含有ビニルポリマーとの混合物を得た。
【0239】
（比較例１－３）
ＡｄＡＡｍを使用しなかったこと以外は比較例１－２と同様の方法で重合反応を行った。これにより、ホスト基を有さないポリシロキサンと、ゲスト基非含有ビニルポリマーとの混合物を得た。
ＡｄＡＡｍを使用しなかったこと以外は比較例１－２と同様の方法で重合反応を行った。これにより、ホスト基を有さないポリシロキサンと、ゲスト基非含有ビニルポリマーとの混合物を得た。
【0240】
（評価結果１）
各実施例で得られた架橋ポリマーを複合ポリマー材料として、評価を行った。
各実施例で得られた架橋ポリマーを複合ポリマー材料として、評価を行った。
【0241】
比較例１－３で得られた混合物は白濁しており、比較例１－２で得られた混合物は無色透明であったが、０．１ｍｍオーダーの油滴物が見られた。比較例１－１及び実施例１－１～実施例１－２で得られた複合ポリマー材料は無色透明であった。比較例１－１では可動性架橋形成により、実施例１－１～実施例１－２は可逆性架橋形成により、２種のポリマーの相溶性が向上したと考えられる。
【0242】
図４（ａ）、（ｂ）には、実施例１－２で得られた架橋ポリマーの引張試験の結果を示している。比較として、比較例１－１、比較例１－２及び比較例１－３の同試験の結果を図４に示している。なお、図４（ａ）は応力－ひずみ曲線、（ｂ）はヤング率とタフネスの相関を示している。図４から、実施例１－２で得られた架橋ポリマーが最も高い破断応力、破断ひずみ、タフネスを示したことがわかった。
【0243】
図５（ａ）、（ｂ）には、実施例１－２で得られた架橋ポリマーの引張試験の結果を示している。なお、図５（ａ）は応力－ひずみ曲線、（ｂ）はヤング率とタフネスの相関を示している。この結果から、実施例１－２で得られた架橋ポリマーは破断応力およびヤング率が高く、また、ゲスト基の含有割合が増加すると破断ひずみ及びタフネスが増加することがわかった。ゲスト基の増加により、延伸時における可逆性架橋の組み換えが起こりやすくなったために、効率的に応力分散し、延伸性及びタフネスが向上したといえる。
【0244】
図６は、引張試験で使用したサンプルと同様のサンプルの中央をカッターで両断させた後に再接触させ、「２４時間室温で静置」もしくは「１２時間７０℃で静置」させた試験片の引張試験を行い、下記式（１０）
修復率（％）＝［修復後の試験片のタフネス］
÷［初期（切断前）の試験片のタフネス］×１００％ （１０）
により修復率（Ｈｅａｌｉｎｇ ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ）を算出した結果である。
修復率（％）＝［修復後の試験片のタフネス］
÷［初期（切断前）の試験片のタフネス］×１００％ （１０）
により修復率（Ｈｅａｌｉｎｇ ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ）を算出した結果である。
【0245】
具体的に図６（ａ）は、上記「２４時間室温で静置」させた試験片の引張試験の応力－ひずみ曲線、図６（ｂ）は、上記「１２時間７０℃で静置」させた試験片の引張試験の応力－ひずみ曲線、図６（ｃ）は修復率（％）の結果であって各実施例における左側の棒グラフが「２４時間室温で静置」させた試験片、右側の棒グラフが「１２時間７０℃で静置」させた試験片の修復率である。室温は２５℃とした。
【0246】
図６の結果から、２４時間室温での修復した試験片において、ゲスト基の含有割合が増加するにつれて破断ひずみが向上した。また、ゲスト基の含有割合の増加につれて修復率も向上した。１２時間７０℃で修復した場合においても、ゲスト基の含有割合の増加に伴って破断応力、破断ひずみ、修復率が向上した。とりわけ、実施例１－２の修復後の試験片においては、ひずみ１，０００％以上伸びる高延伸性を示した。ゲスト基量が増えると、材料切断により解離したホスト－ゲスト錯体の再形成が効率的に行われるので、自己修復性が向上したと考えられる。
【0247】
（実施例２－１）
ＥＡの代わりにｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ）９００ｍｇ（７．０ｍｍｏｌ）に変更し、ＢＡＰＯの使用量を１５ｍｇ（０．０３５ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１－２と同様の方法でＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／ＰＢＡ－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＢＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーとしｘ＝１、ｙ＝５、ｗＰＢＡ＝５０と計算された。
ＥＡの代わりにｎ－ブチルアクリレート（ＢＡ）９００ｍｇ（７．０ｍｍｏｌ）に変更し、ＢＡＰＯの使用量を１５ｍｇ（０．０３５ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１－２と同様の方法でＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／ＰＢＡ－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＢＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーとしｘ＝１、ｙ＝５、ｗＰＢＡ＝５０と計算された。
【0248】
（実施例３－１）
ＥＡの代わりに２－エチルヘキシルアクリレート（ＥＨＡ）９００ｍｇ（４．９ｍｍｏｌ）に変更し、ＢＡＰＯの使用量を１０ｍｇ（０．０２４ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１－２と同様の方法でＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／ＰＥＨＡ－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＥＨＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーとしｘ＝１、ｙ＝５、ｗＰＥＨＡ＝５０と計算された。
ＥＡの代わりに２－エチルヘキシルアクリレート（ＥＨＡ）９００ｍｇ（４．９ｍｍｏｌ）に変更し、ＢＡＰＯの使用量を１０ｍｇ（０．０２４ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１－２と同様の方法でＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／ＰＥＨＡ－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＥＨＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーとしｘ＝１、ｙ＝５、ｗＰＥＨＡ＝５０と計算された。
【0249】
（評価結果２）
各実施例で得られた架橋ポリマーを複合ポリマー材料として、評価を行った。
各実施例で得られた架橋ポリマーを複合ポリマー材料として、評価を行った。
【0250】
実施例２－１及び実施例３－１で得られた複合ポリマー材料は、無色透明であった。
【0251】
図７（ａ）、（ｂ）には、各実施例で得られた架橋ポリマーの引張試験の結果を示している。なお、図７（ａ）は応力－ひずみ曲線、（ｂ）はヤング率とタフネスの相関を示している。実施例２－１及び実施例３－１の架橋ポリマーも破断応力およびヤング率が高いことがわかり、力学特性に優れる複合ポリマー材料であることがわかった。
【0252】
図８は、引張試験で使用したサンプルと同様のサンプルの中央をカッターで両断させた後に再接触させ、「１２時間７０℃で静置」させた試験片の引張試験を行い、前記式（１０）により修復率（Ｈｅａｌｉｎｇ ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ）を算出した結果である。図８から、実施例１－２、実施例２－１、実施例３－１の順に破断応力が向上することがわかり、また、修復率は実施例２－１が５７％を示して最大であった。
【0253】
（実施例４－１）
ＥＡの代わりに２－ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）９００ｍｇ（７．８ｍｍｏｌ）に変更し、ＢＡＰＯの使用量を１６ｍｇ（０．０３９ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１－２と同様の方法でＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／ＰＨＥＡ－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＨＥＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーとしｘ＝１、ｙ＝５、ｗＰＨＥＡ＝５０と計算された。
ＥＡの代わりに２－ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）９００ｍｇ（７．８ｍｍｏｌ）に変更し、ＢＡＰＯの使用量を１６ｍｇ（０．０３９ｍｍｏｌ）に変更したこと以外は、実施例１－２と同様の方法でＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／ＰＨＥＡ－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＨＥＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーとしｘ＝１、ｙ＝５、ｗＰＨＥＡ＝５０と計算された。
【0254】
（実施例５－１）
表２に示す配合量に変更して原料を調製したこと以外は実施例１－１と同様の方法で、ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／Ｐ（ＥＡ－ＨＥＡ）－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＥＡ；ｗＰＨＥＡ）を得た。ここで、ｘ及びｙはそれぞれシリコーン系ポリマーＳｈに対するホスト基を有するシロキサン単位の割合（モル％）及びゲスト基含有ビニルモノマー単位の含有割合（モル％）であり、ｗＰＥＡはシリコーン系ポリマーＳｈ及びＥＡの全量に対するＥＡの含有割合（質量％）であり、ｗＰＨＥＡはシリコーン系ポリマーＳｈ及びＨＥＡの全量に対するＨＥＡの含有割合（質量％）仕込み量からｘ＝１、ｙ＝１、ｗＰＥＡ＝３７．５、ｗＰＨＥＡ＝１２．５と計算された。
表２に示す配合量に変更して原料を調製したこと以外は実施例１－１と同様の方法で、ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／Ｐ（ＥＡ－ＨＥＡ）－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＥＡ；ｗＰＨＥＡ）を得た。ここで、ｘ及びｙはそれぞれシリコーン系ポリマーＳｈに対するホスト基を有するシロキサン単位の割合（モル％）及びゲスト基含有ビニルモノマー単位の含有割合（モル％）であり、ｗＰＥＡはシリコーン系ポリマーＳｈ及びＥＡの全量に対するＥＡの含有割合（質量％）であり、ｗＰＨＥＡはシリコーン系ポリマーＳｈ及びＨＥＡの全量に対するＨＥＡの含有割合（質量％）仕込み量からｘ＝１、ｙ＝１、ｗＰＥＡ＝３７．５、ｗＰＨＥＡ＝１２．５と計算された。
【0255】
（実施例５－２）
表２に示す配合量に変更して原料を調製したこと以外は実施例１－２と同様の方法で、ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／Ｐ（ＥＡ－ＨＥＡ）－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＥＡ；ｗＰＨＥＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーとし、ｘ＝１、ｙ＝２、ｗＰＥＡ＝２５、ｗＰＨＥＡ＝２５と計算された。
表２に示す配合量に変更して原料を調製したこと以外は実施例１－２と同様の方法で、ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／Ｐ（ＥＡ－ＨＥＡ）－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＥＡ；ｗＰＨＥＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーとし、ｘ＝１、ｙ＝２、ｗＰＥＡ＝２５、ｗＰＨＥＡ＝２５と計算された。
【0256】
（実施例５－３）
表２に示す配合量に変更して原料を調製したこと以外は実施例１－２と同様の方法で、ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／Ｐ（ＥＡ－ＨＥＡ）－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＥＡ；ｗＰＨＥＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーとし、ｘ＝１、ｙ＝５、ｗＰＥＡ＝１２．５、ｗＰＨＥＡ＝３７．５と計算された。
表２に示す配合量に変更して原料を調製したこと以外は実施例１－２と同様の方法で、ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ／Ｐ（ＥＡ－ＨＥＡ）－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＥＡ；ｗＰＨＥＡ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーとし、ｘ＝１、ｙ＝５、ｗＰＥＡ＝１２．５、ｗＰＨＥＡ＝３７．５と計算された。
【0257】
【表2】
【0258】
（評価結果３）
各実施例で得られた架橋ポリマーを複合ポリマー材料として、評価を行った。
各実施例で得られた架橋ポリマーを複合ポリマー材料として、評価を行った。
【0259】
実施例５－１、実施例５－３で得られた複合ポリマー材料は無色透明、実施例４－１、実施例５－２は少し白濁したものの高い透明性を有しており、油滴物は見られなかった。
【0260】
図９（ａ）、（ｂ）には、各実施例で得られた架橋ポリマーの引張試験の結果を示している。なお、図９（ａ）は応力－ひずみ曲線、（ｂ）はヤング率とタフネスの相関を示している。図９から、実施例５－３で得られた架橋ポリマーが最も高い破断応力、破断ひずみ、タフネスを示したことがわかった。特に、実施例１－２に比べると、他の実施例はすべて力学特性が向上しており、このことから水素結合による相互作用が力学特性を向上させているものと推察される。
【0261】
図１０は、引張試験で使用したサンプルと同様のサンプルの中央をカッターで両断させた後に再接触させ、「２４時間室温で静置」もしくは「１２時間７０℃で静置」させた試験片の引張試験を行い、前記式（１０）により修復率（Ｈｅａｌｉｎｇ ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ）を算出した結果である。
【0262】
具体的に図１０（ａ）は、上記「２４時間室温で静置」させた試験片の引張試験の応力－ひずみ曲線、図１０（ｂ）は、上記「１２時間７０℃で静置」させた試験片の引張試験の応力－ひずみ曲線、図１０（ｃ）は修復率（％）の結果であって各実施例における左側の棒グラフが「２４時間室温で静置」させた試験片、右側の棒グラフが「１２時間７０℃で静置」させた試験片の修復率である。室温は２５℃とした。図１０の結果から、いずれも自己修復性を有していることがわかった。
【0263】
（実施例６－１）
図１１に示す反応スキームに従い、シリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーを合成した。まず、後掲の表３に示す配合表に従い、チオール基を側鎖に有するポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ－ＳＨ）と、製造例１で得られたＴＡｃβＣＤＡＡｍＭｅと、１－アダマンタンアミン（ＡｄＡｍ）と、１－ペンテン（Ｐｅｎ）と、紫外光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１１７３（１１７３）と、ポリテトラメチレンエーテルグリコール（ＰＴＨＦ）、１，３－プロパンジオール（ＰＤＯ）を、ジクロロメタン（ＤＣＭ）（１０ｍＬ）に溶かして溶液を調製した。この溶液に、窒素バブリングを５分間行った後、波長３６５ｎｍの水銀ランプで１時間紫外光照射してＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ（ｘ）を生成させ、これをシリコーン系ポリマーＳｈ溶液として得た。ここでｘは、シリコーン系ポリマーＳｈ中におけるホスト基を有するシロキサン単位の割合（モル％）を示し、ｘ＝１であった。シリコーン系ポリマーＳｈ（ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ（ｘ））の溶液に、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）と重縮合触媒ジブチルすずジアセテート（ＤＢＴＤＡ）を表３に示す配合量で加え、２５℃で２４時間攪拌することで重付加反応を行い、ポリウレタン（ＰＵ）を生成させた。次いで、室温のドラフト内で一晩風乾し、４０℃のバキュームオーブンで一晩真空乾燥することで、ＰＤＭＳ－βＣＤ／ＰＵ－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＵ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマー（図２の架橋ポリマーＸ２の構造を有する）とした。ここで、ｘ及びｙはそれぞれシリコーン系ポリマーＳｈに対するホスト基を有するシロキサン単位の割合（モル％）及びゲスト基の含有割合（モル％）であり、ｗＰＵはシリコーン系ポリマーＳｈ及びＰＵ（ＰＴＨＦ、ＰＤＯ、ＨＤＩの全量）に対するＰＵの含有割合（質量％）であり、仕込み量からｘ＝１、ｙ＝０．５、ｗＰＵ＝２０と計算された。
図１１に示す反応スキームに従い、シリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマーを合成した。まず、後掲の表３に示す配合表に従い、チオール基を側鎖に有するポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ－ＳＨ）と、製造例１で得られたＴＡｃβＣＤＡＡｍＭｅと、１－アダマンタンアミン（ＡｄＡｍ）と、１－ペンテン（Ｐｅｎ）と、紫外光重合開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１１７３（１１７３）と、ポリテトラメチレンエーテルグリコール（ＰＴＨＦ）、１，３－プロパンジオール（ＰＤＯ）を、ジクロロメタン（ＤＣＭ）（１０ｍＬ）に溶かして溶液を調製した。この溶液に、窒素バブリングを５分間行った後、波長３６５ｎｍの水銀ランプで１時間紫外光照射してＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ（ｘ）を生成させ、これをシリコーン系ポリマーＳｈ溶液として得た。ここでｘは、シリコーン系ポリマーＳｈ中におけるホスト基を有するシロキサン単位の割合（モル％）を示し、ｘ＝１であった。シリコーン系ポリマーＳｈ（ＰＤＭＳ－ＴＡｃβＣＤ－ＡＡｌ（ｘ））の溶液に、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）と重縮合触媒ジブチルすずジアセテート（ＤＢＴＤＡ）を表３に示す配合量で加え、２５℃で２４時間攪拌することで重付加反応を行い、ポリウレタン（ＰＵ）を生成させた。次いで、室温のドラフト内で一晩風乾し、４０℃のバキュームオーブンで一晩真空乾燥することで、ＰＤＭＳ－βＣＤ／ＰＵ－Ａｄ（ｘ，ｙ；ｗＰＵ）を得た。これをシリコーン系ポリマーＳｈとポリマーＰｇとの架橋ポリマー（図２の架橋ポリマーＸ２の構造を有する）とした。ここで、ｘ及びｙはそれぞれシリコーン系ポリマーＳｈに対するホスト基を有するシロキサン単位の割合（モル％）及びゲスト基の含有割合（モル％）であり、ｗＰＵはシリコーン系ポリマーＳｈ及びＰＵ（ＰＴＨＦ、ＰＤＯ、ＨＤＩの全量）に対するＰＵの含有割合（質量％）であり、仕込み量からｘ＝１、ｙ＝０．５、ｗＰＵ＝２０と計算された。
【0264】
（比較例６－１）
表３に示す配合表に従い、ホスト基を有さないポリシロキサンと、ゲスト基を有さないポリマーとの混合物を得た。
表３に示す配合表に従い、ホスト基を有さないポリシロキサンと、ゲスト基を有さないポリマーとの混合物を得た。
【0265】
【表3】
【0266】
（評価結果４）
各実施例で得られた架橋ポリマーを複合ポリマー材料として、評価を行った。
各実施例で得られた架橋ポリマーを複合ポリマー材料として、評価を行った。
【0267】
実施例６－１で得られた複合ポリマー材料は少し白濁したものの高い透明性を有しており、油滴物は見られなかった。他方、比較例６－１は白濁し、乾燥過程で激しくひび割れていた。
【0268】
図１２（ａ）、（ｂ）には、実施例６－１で得られた架橋ポリマーの引張試験の結果を示している。なお、図１２（ａ）は応力－ひずみ曲線、（ｂ）はヤング率とタフネスの相関を示している。図１２から、実施例６－１で得られた架橋ポリマーは、優れた破断応力、破断ひずみ、タフネスを示したことがわかった。ＰＤＭＳ主鎖とＰＵ主鎖間の可逆的なホスト－ゲスト相互作用により力学物性が向上したと考えられる。
【0269】
また、図示は省略しているが、実施例６－１で得られた複合ポリマー材料は自己修復性を有していることも確認された。
【0270】
（力学特性の評価方法）
複合ポリマー材料の力学特性は、引張試験（ストローク－試験力曲線）（島津製作所社製「ＡＵＴＯＧＲＡＰＨ」（型番：ＡＧＸ－ｐｌｕｓ）により、複合ポリマー材料（架橋ポリマー）の破断点を観測することで評価した。この破断点を終点として、終点までの最大応力を高分子材料の破断応力とした。この引張り試験は、厚さ２００～４００μｍに成形したフィルム状の複合ポリマー材料の下端を固定し、上端を引張り速度１ｍｍ／秒で稼動させるアップ方式で実施した。この測定から、複合ポリマー材料のヤング率及びタフネスを算出した。フィルム状の複合ポリマー材料は、各実施例で得られた溶液をキャストすることで作製した。
複合ポリマー材料の力学特性は、引張試験（ストローク－試験力曲線）（島津製作所社製「ＡＵＴＯＧＲＡＰＨ」（型番：ＡＧＸ－ｐｌｕｓ）により、複合ポリマー材料（架橋ポリマー）の破断点を観測することで評価した。この破断点を終点として、終点までの最大応力を高分子材料の破断応力とした。この引張り試験は、厚さ２００～４００μｍに成形したフィルム状の複合ポリマー材料の下端を固定し、上端を引張り速度１ｍｍ／秒で稼動させるアップ方式で実施した。この測定から、複合ポリマー材料のヤング率及びタフネスを算出した。フィルム状の複合ポリマー材料は、各実施例で得られた溶液をキャストすることで作製した。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】