特許7126979IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

セシウム及び/又はストロンチウムを有する廃液の処理方法に関し、特に放射性セシウム及び放射性ストロンチウムを含む放射性廃液の処理方法、特に原子力発電プラント内で発生する海水などの夾雑イオンを含む廃液中に含まれる放射性セシウムと放射性ストロンチウムの両方の元素を除去することができる廃液の処理方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の目的は、従来のセシウム(Cs)及び/又はストロンチウム(Sr)吸着剤よりも高い吸着性能、特に高いストロンチウム吸着性能を有する新規なシリコチタネート系吸着剤を用いるセシウム及び/又はストロンチウムを含む廃液の処理方法を提供することにある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、新規なシリコチタネート系吸着剤を用いるセシウム及び/又はストロンチウムを含有する廃液の処理方法が提供される。具体的態様は、以下のとおりである。[1]シチナカイト構造を有するシリコチタネートと、粉末X線回折によるX線回折角2θ=8.7±0.5°、2θ=10.0±0.5°、2θ=27.8±0.5°又は2θ=29.4±0.5°の少なくとも1つに回折ピークを有し、かつX線回折角2θ=・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の処理方法において用いるシリコチタネート系吸着剤は、Naイオン、Caイオン、Mgイオンなどの海水成分共存下でもSr吸着量及びCsの吸着量が大きく、特に選択的にSrを吸着することができるため、セシウム及び/又はストロンチウムを含有する廃液、特に海水成分を含む廃液から、セシウム及び/又はストロンチウムを選択的に吸着して除去することができる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 製造例1で製造したシリコチタネート系吸着剤の粉末X線回折図である。
【図2】 製造例2で製造したシリコチタネート系吸着剤の粉末X線回折図である。
【図3】 製造例3で製造したシリコチタネート系吸着剤の粉末X線回折図である。
【図4】 製造例4で製造したシリコチタネート系吸着剤の粉末X線回折図である。
【図5】 製造例5で製造したシリコチタネート系吸着剤の粉末X線回折図である。
【図6】 製造比較例1で製造したシリコチタネート成形体の粉末X線回折図である。
【図7】 実施例1によるセシウム吸着挙動を示すグラフである。
【図8】 実施例1によるストロンチウム吸着挙動を示すグラフである。
【図9】 実施例2によるセシウム吸着挙動を示すグラフである。
【図10】 実施例2によるストロンチウム吸着挙動を示すグラフである。
【図11】 実施例3によるセシウム吸着挙動を示すグラフである。
【図12】 実施例3によるストロンチウム吸着挙動を示すグラフである。

代表図 図1本件の代表的な図

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