ホーム > 知財判決速報/裁判例集 > 平成12(行ケ)477 行政訴訟 特許権
| 裁判所 | 東京高等裁判所 |
|---|---|
| 裁判年月日 | 平成13年10月30日 |
| 事件種別 | 民事 |
| 対象物 | 投影露光装置及び半導体装置の製造方法 |
| 法令 |
特許権 民事訴訟法62条1回 特許法29条1項3号1回 |
| キーワード | 審決14回 訂正審判3回 刊行物2回 特許権1回 |
| 主文 | |
| 事件の概要 | 1 特許庁における手続の経緯 (1) 原告は、発明の名称を「投影露光装置及び半導体装置の製造方法」と する特許第2908100号の発明(平成4年2月13日特許出願、平成11年4 月2日設定登録。以下「本件発明」という。)の特許権者である。 |
本サービスは判決文を自動処理して掲載しており、完全な正確性を保証するものではありません。正式な情報は裁判所公表の判決文(本ページ右上の[判決文PDF])を必ずご確認ください。
平成12年(行ケ)第477号 特許取消決定取消請求事件(平成13年10月4
日口頭弁論終結)
判 決
原 告 三菱電機株式会社
訴訟代理人弁理士 高 瀬 彌 平
被 告 特許庁長官 及 川 耕 造
指定代理人 辻 徹 二
同 高 橋 美 実
同 大 野 覚 美
同 茂 木 静 代
主 文
特許庁が平成11年異議第74781号事件について平成12年10月1
日にした決定を取り消す。
訴訟費用は各自の負担とする。
事 実
第1 請求
主文第1項と同旨
第2 前提となる事実
1 特許庁における手続の経緯
(1) 原告は、発明の名称を「投影露光装置及び半導体装置の製造方法」と
する特許第2908100号の発明(平成4年2月13日特許出願、平成11年4
月2日設定登録。以下「本件発明」という。)の特許権者である。
本件発明に対して、平成11年12月17日、特許異議の申立てがされ、同申立
ては平成11年異議第74781号事件として特許庁に係属したところ、原告は、
平成12年4月20日に本件発明に係る明細書(以下「本件明細書」という。)の
特許請求の範囲を訂正する旨の訂正請求をした。
特許庁は、同事件を審理した上、平成12年10月19日、「特許第29081
号の請求項1、2に係る特許を取り消す。」との決定(以下「本件決定」とい
う。別紙1決定書の写し参照)をし、その謄本は、同年11月15日、原告に送達
された。
(2) 原告は、本訴提起後の平成13年1月25日、本件明細書の特許請求
の範囲及び発明の詳細な説明の記載を特許請求の範囲の減縮等を目的として訂正す
る訂正審判の請求をしたところ、特許庁は、同請求を訂正2001-39012号
事件として審理した上、平成13年8月17日、上記訂正を認める旨の審決(以下
「本件訂正審決」という。別紙2審決書の写し参照)をし、その謄本は、同月29
日、原告に送達され、本件訂正審決は確定した。
2 本件明細書の特許請求の範囲の記載
(1) 本件訂正審決による訂正前の特許請求の範囲の記載
請求項1
「光源と、前記光源から発した光を回路パターンが形成されたマスク上に照射させ
る集光レンズと、
マスクを通過した光をウエハ表面に集光させる投影レンズと、
前記光源と前記集光レンズとの間に配置されると共に前記光源から発した光を成
形するための透過領域とこの透過領域内の中央部に形成された遮光領域とを有する
アパーチャー部材とを備え、
前記アパーチャー部材の透過領域の外径を前記投影レンズの瞳径に対する有効光
源の外径の比σが0.6±0.3となるように設定すると共に有効光源の外径によ
り決定される面積に対する有効光源内部の遮光領域の面積の比により定義される遮
光率を60±35%とし、有効光源及び遮光領域が共に円形である場合には、上記
遮光率を45~95%とすることを特徴とする投影露光装置。」
請求項2
「請求項1に記載の投影露光装置を用いてウエハへの回路パターンの焼き付けを
行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。」
(2) 本件訂正審決による訂正後の特許請求の範囲の記載(下線部が訂正箇
所である。)
請求項1
「光源と、前記光源から発した光を回路パターンが形成されたマスク上に照射さ
せる集光レンズと、
マスクを通過した光をウエハ表面に集光させる投影レンズと、
前記光源と前記集光レンズとの間に配置されると共に前記光源から発した光を成
形するための透過領域とこの透過領域内の中央部に形成された遮光領域とを有する
アパーチャー部材とを備え、
有効光源が円形であってかつ遮光領域が円形でない場合には、前記アパーチャー
部材の透過領域の外径を前記投影レンズの瞳径に対する有効光源の外径の比σが
.6±0.3となるように設定すると共に有効光源の外径により決定される面積
に対する有効光源内部の遮光領域の面積の比により定義される遮光率を60±35
%とし、有効光源及び遮光領域が共に円形である場合には、上記σが0.6となる
ように設定すると共に上記遮光率を64%とすることを特徴とする投影露光装
置。」
請求項2
「請求項1に記載の投影露光装置を用いてウエハへの回路パターンの焼き付けを
行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。」
3 本件決定の理由の要旨
別紙1決定書の写しのとおり、本件決定は、上記1(1)の原告の平成12年4
月20日付けの訂正請求は認められないとして、本件発明の要旨を上記2(1)の
本件訂正審決による訂正前の特許請求の範囲に記載のとおりと認定した上で、請求
項1の本件発明は、本件発明の特許出願前に頒布された刊行物(1991年(平成
年)秋季「第52回応用物理学会学術講演会」講演予稿集№2の601頁下から
行ないし末行)に記載された発明と同一であり、請求項2の本件発明は、上記
刊行物に記載された発明と実質的に同一であるから、本件発明は、特許法29条1
項3号の規定に該当し、取り消されるべきであるとした。
第3 当事者の主張の要点
1 原告 上記1(2)のとおり、原告の平成13年1月25日付けの訂正審判請求に対してされた本件訂正審決による訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、本件発明の特許を取り消した本件決定の取消しを目的とする本件訴訟の係属中に、本件発明について特許請求の範囲の減縮を目的とする本件訂正審決が確定した。 そこで、本件決定が本件発明の要旨を上記2(1)の本件訂正審決による訂正前の特許請求の範囲に記載のとおりと認定したことは誤りに帰し、この瑕疵は違法であるから、本件決定は取り消されなければならない。 2 被告 原告主張のとおり、本件発明について本件訂正審決が確定したことは認める。 理 由本件訂正審決の確定により本件発明について特許請求の範囲が前記のとおり訂正されたことは当事者間に争いがなく、この訂正によって本件発明について特許請求の範囲が減縮されたことは明らかである。 そうすると、本件決定が本件発明の要旨を本件訂正審決による訂正前の特許請求の範囲に記載のとおりと認定したことは、結果的に誤りがあることになり、この誤りは本件決定の結論に影響を及ぼすものとして違法であるから、本件決定は取消しを免れない。よって、原告の本訴請求は理由があるからこれを認容し、訴訟費用の負担につき、行政事件訴訟法7条、民事訴訟法62条を適用して、主文のとおり判決する。 東京高等裁判所第18民事部 裁判長裁判官 永 井 紀 昭 裁判官 塩 月 秀 平 裁判官 橋 本 英 史別紙1 (本件決定書、甲第1号証)別紙2 (訂正審判の審決書、甲第4号証)
| 特許裁判例 実用新案裁判例 |
| 意匠裁判例 商標裁判例 |
| 不正競争裁判例 著作権裁判例 |
| 特許判例 実用新案判例 |
| 意匠判例 商標判例 |
| 不正競争判例 著作権判例 |
11月16日(月) - オンライン
11月17日(火) - オンライン
11月17日(火) - オンライン
11月17日(火) - オンライン
11月17日(火) - オンライン
11月17日(火) - オンライン
11月18日(水) - オンライン
11月18日(水) - オンライン
貝印の実践事例に学ぶ、他部門との信頼構築・IPランドスケープ・知財ミックス 「全社をリード」する知財・無形資産実務へのパラダイムシフト
11月18日(水) - 東京 千代田
11月18日(水) - オンライン
公正取引委員会 も注視する“不当なノウハウ流出”の現場と対策セミナー 「電子公証サービス」で証拠を残す 共同研究や取引交渉で負けない知財戦略
11月18日(水) - オンライン
11月18日(水) - オンライン
11月18日(水) - オンライン
11月19日(木) - 東京 港区
11月19日(木) - オンライン
11月19日(木) - オンライン
11月19日(木) - オンライン
商標権侵害の回避と否定の理論と実務「商標・ブランドの変更」と「商標の類似」 ~どこまで商標を変更すれば侵害にならないか~
11月19日(木) - オンライン
11月19日(木) - オンライン
11月19日(木) - オンライン
11月20日(金) - 東京 千代田区
11月20日(金) - 東京 港区
11月20日(金) - 岡山 岡山市
11月20日(金) - 大阪 大阪市
11月20日(金) - 大阪 大阪市
11月20日(金) - オンライン
11月20日(金) - オンライン
11月16日(月) - オンライン
11月24日(火) - 東京 品川区
筋のよい知財戦略を立案・策定するための 「パテント(ミクロ)マップ」作成実務ノウハウ ~会場対面:グループ実習セミナー~
11月24日(火) - オンライン
11月24日(火) - 大阪 大阪市
つながる特許庁 in KANSAI/関西ビジネス知財フォーラム2026 強みを、価値に。価値を、成長に。~ 技術・知的財産・事業戦略でつくる、関西企業の次の成長 ~
11月24日(火) - オンライン
11月24日(火) - オンライン
11月24日(火) - オンライン
11月25日(水) - オンライン
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
11月25日(水) - 東京 港区
11月25日(水) - オンライン
特許セミナー(3) 米国特許法101条の「抽象概念」の法理 ─現行ルール(Alice判決)および特許適格性主張のポイント─
11月25日(水) - オンライン
11月25日(水) - オンライン
11月25日(水) - オンライン
11月26日(木) - 東京 港区
11月26日(木) - オンライン
11月26日(木) - 東京 品川区
11月26日(木) - オンライン
11月26日(木) - オンライン
【西村あさひ法律事務所所属の弁護士が解説】そのDDで、本当に投資判断を進めてよいのか?|限られた予算で考える、調査の優先順位と法務の説明責任
11月26日(木) - 東京 千代田区
11月27日(金) - オンライン
11月27日(金) - 大阪 大阪市
11月27日(金) - オンライン
11月27日(金) - オンライン
11月27日(金) - 東京 千代田区
11月24日(火) - 東京 品川区
筋のよい知財戦略を立案・策定するための 「パテント(ミクロ)マップ」作成実務ノウハウ ~会場対面:グループ実習セミナー~
〒450-0002 愛知県名古屋市中村区名駅三丁目13番24号 第一はせ川ビル6階 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
埼玉県久喜市久喜東6-2-46 パレ・ドール久喜2-203 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒153-0061 東京都目黒区中目黒1-8-1VORT中目黒Ⅰ3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング