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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-258953 | 適応熱導体を有するプラズマ処理チャンバ部品 | 2011年12月22日 | |
特表 2011-530801 | 構成要素の温度を制御するための機構を伴うプラズマ処理システム | 2011年12月22日 | |
特開 2011-254097 | 熱制御板 | 2011年12月15日 | |
特表 2011-530193 | 基板を洗浄する発泡体の発生器 | 2011年12月15日 | |
特開 2011-254104 | 真空プラズマプロセッサ室においてワークピースを加工する方法 | 2011年12月15日 | |
特開 2011-238958 | パルス広帯域光源を用いてプラズマエッチングおよび堆積プロセスをその場モニタリングするための方法および装置 | 2011年11月24日 | |
特開 2011-238957 | パルス広帯域光源を用いてプラズマエッチングおよび堆積プロセスをその場モニタリングするための方法および装置 | 2011年11月24日 | |
特開 2011-233924 | 誘導結合型プラズマエッチング装置のRFピークトゥピーク電圧を能動的に制御する装置および方法 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-233905 | 半導体処理のためのガス供給装置 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-228722 | 統合又は単独計測を用いる改善されたウェーハ均一性のための処理制御方法及び装置 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-228730 | ウェーハについての不均一性の定量化および有意性の図解化のためのユーザインタフェース | 2011年11月10日 | |
特開 2011-228731 | ウェーハについての不均一性の定量化および有意性の図解化のためのユーザインタフェース | 2011年11月10日 | |
特表 2011-527522 | プラズマ処理チャンバ内のデチャックを検出するための容量結合静電(CCE)プローブ構成、それに関連する方法、及び、その方法を実行するコンピュータ可読コードを格納するプログラム格納媒体 | 2011年10月27日 | |
特表 2011-527520 | クランプ式シャワーヘッド電極組立体 | 2011年10月27日 | |
特表 2011-527523 | プラズマ処理チャンバ内の膜を特性化するためのRFバイアス容量結合静電(RFB−CCE)プローブ構成、それに関連する方法、及び、その方法を実行するコードを格納するプログラム格納媒体 | 2011年10月27日 |
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2011-258953 2011-530801 2011-254097 2011-530193 2011-254104 2011-238958 2011-238957 2011-233924 2011-233905 2011-228722 2011-228730 2011-228731 2011-527522 2011-527520 2011-527523
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
10月22日(火) -
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10月23日(水) -
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