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ラムリサーチコーポレーション

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公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2011-527507	プラズマ処理チャンバで用いるための真空ギャップを備えたプラズマ対向プローブ装置	2011年10月27日
特表 2011-527508	プラズマ処理チャンバ内のプラズマ不安定性を検出するための受動型容量結合静電（ＣＣＥ）プローブ構成	2011年10月27日
特表 2011-527506	プラズマ処理チャンバ内のその場（ｉｎ−ｓｉｔｕ）アーク放電事象を検出するための受動型容量結合静電（ＣＣＥ）プローブ構成	2011年10月27日
特表 2011-527520	クランプ式シャワーヘッド電極組立体	2011年10月27日
特表 2011-527123	低粘性流体を用いた粒子除去のための単一基板処理ヘッド	2011年10月20日
特開 2011-211225	デュアルドープゲートの用途におけるプロフィル制御とＮ／Ｐローディングを改善する方法	2011年10月20日
特表 2011-527080	多要素電極を再生するプロセス	2011年10月20日
特表 2011-526415	プラズマを自動的に特性化するための方法、及び、その方法の少なくとも１つを実行するコンピュータ可読コードを格納するプログラム格納媒体	2011年10月 6日
特表 2011-526405	無線周波数（ＲＦ）複合波形のマッチング回路	2011年10月 6日
特表 2011-525040	静電チャックエッジビード材料の浸食を監視するための電気的及び光学的なシステム及び方法	2011年 9月 8日
特表 2011-524948	処理チャンバ内へのガス供給のタイムスケールを制御するための方法	2011年 9月 8日
特開 2011-175977	均一なプロセス速度を生成するためのプラズマ処理装置及び結合窓構成	2011年 9月 8日
特表 2011-523774	微量気体濃度の監視によるウエハプラズマ処理中のアーキング現象の検出	2011年 8月18日
特表 2011-523229	プラズマ処理装置のためのシャワーヘッド電極アセンブリ	2011年 8月 4日
特表 2011-522420	集束イオンビームデバイスおよび走査型電子顕微鏡を用いた半導体構造の三次元画像作成方法	2011年 7月28日

79 件中 16-30 件を表示

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2011-527507 2011-527508 2011-527506 2011-527520 2011-527123 2011-211225 2011-527080 2011-526415 2011-526405 2011-525040 2011-524948 2011-175977 2011-523774 2011-523229 2011-522420

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