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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第464位 79件 (2010年:第391位 111件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2011-522420 | 集束イオンビームデバイスおよび走査型電子顕微鏡を用いた半導体構造の三次元画像作成方法 | 2011年 7月28日 | |
特表 2011-521472 | クランプされた一体的なシャワーヘッド電極 | 2011年 7月21日 | |
特開 2011-139094 | さまざまな周波数のRF電力の変調を用いた高アスペクト比エッチング | 2011年 7月14日 | |
特表 2011-520285 | 一連のウエハ移動を通じて得られる補償値を使用したウエハのダイナミックアライメント | 2011年 7月14日 | |
特表 2011-519393 | 基板洗浄及び無電解析出のプロセス及び溶液 | 2011年 7月 7日 | |
特表 2011-517834 | 電極アセンブリ及び熱伝導ガスケットを用いるプラズマ処理チャンバ | 2011年 6月16日 | |
特開 2011-108693 | ウェハセンシング装置および当該装置を備えた半導体製造装置 | 2011年 6月 2日 | |
特表 2011-517097 | 発光スペクトルを正規化するための方法及び装置 | 2011年 5月26日 | |
特表 2011-515229 | カムロック電極クランプ | 2011年 5月19日 | |
特表 2011-515868 | 高スループット洗浄チャンバ | 2011年 5月19日 | |
特表 2011-515790 | 非閉じ込めプラズマ事象を検出するためのシステム | 2011年 5月19日 | |
特表 2011-515828 | プラズマ処理システムにおける面積比変更のための方法および装置 | 2011年 5月19日 | |
特表 2011-514679 | ウエハ直径よりも大きいプラズマ排除区域リングを使用した、ベベルエッチング膜プロファイルの制御 | 2011年 5月 6日 | |
特表 2011-514625 | ギャップ調整可能なプラズマ室内におけるウエハエリア圧力制御のための方法及び装置 | 2011年 5月 6日 | |
特表 2011-514010 | 誘電体膜の処理方法 | 2011年 4月28日 |
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2011-522420 2011-521472 2011-139094 2011-520285 2011-519393 2011-517834 2011-108693 2011-517097 2011-515229 2011-515868 2011-515790 2011-515828 2011-514679 2011-514625 2011-514010
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
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