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ラムリサーチコーポレーション

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公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2011-522420	集束イオンビームデバイスおよび走査型電子顕微鏡を用いた半導体構造の三次元画像作成方法	2011年 7月28日
特表 2011-521472	クランプされた一体的なシャワーヘッド電極	2011年 7月21日
特開 2011-139094	さまざまな周波数のＲＦ電力の変調を用いた高アスペクト比エッチング	2011年 7月14日
特表 2011-520285	一連のウエハ移動を通じて得られる補償値を使用したウエハのダイナミックアライメント	2011年 7月14日
特表 2011-519393	基板洗浄及び無電解析出のプロセス及び溶液	2011年 7月 7日
特表 2011-517834	電極アセンブリ及び熱伝導ガスケットを用いるプラズマ処理チャンバ	2011年 6月16日
特開 2011-108693	ウェハセンシング装置および当該装置を備えた半導体製造装置	2011年 6月 2日
特表 2011-517097	発光スペクトルを正規化するための方法及び装置	2011年 5月26日
特表 2011-515229	カムロック電極クランプ	2011年 5月19日
特表 2011-515868	高スループット洗浄チャンバ	2011年 5月19日
特表 2011-515790	非閉じ込めプラズマ事象を検出するためのシステム	2011年 5月19日
特表 2011-515828	プラズマ処理システムにおける面積比変更のための方法および装置	2011年 5月19日
特表 2011-514679	ウエハ直径よりも大きいプラズマ排除区域リングを使用した、ベベルエッチング膜プロファイルの制御	2011年 5月 6日
特表 2011-514625	ギャップ調整可能なプラズマ室内におけるウエハエリア圧力制御のための方法及び装置	2011年 5月 6日
特表 2011-514010	誘電体膜の処理方法	2011年 4月28日

79 件中 31-45 件を表示

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2011-522420 2011-521472 2011-139094 2011-520285 2011-519393 2011-517834 2011-108693 2011-517097 2011-515229 2011-515868 2011-515790 2011-515828 2011-514679 2011-514625 2011-514010

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