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ラムリサーチコーポレーション

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公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2011-512654	メニスカスによるウエハー表面処理において近接ヘッドに対する流体の流速をほぼ一定にする装置	2011年 4月21日
特表 2011-511474	軸直角変位ベローズおよび非接触粒子シールを備えたギャップ調整可能な容量結合ＲＦプラズマリアクタ	2011年 4月 7日
特表 2011-511475	プラズマ処理チャンバのパーツのための保護被覆およびその使用方法	2011年 4月 7日
特表 2011-511437	べベル端部エッチングプラズマチャンバにおける端部除外制御のためのガス調整	2011年 4月 7日
特表 2011-509344	誘電体層の無電解メッキ用活性化溶液	2011年 3月24日
特表 2011-509520	ショートエッチングレシピのためのガス輸送遅延の解消	2011年 3月24日
特表 2011-508974	ウエハキャリア駆動装置およびそれを動作させるための方法	2011年 3月17日
特表 2011-508976	少なくとも１つの光源を使用してエンドエフェクタ・アラインメントを校正するためのシステムおよび方法	2011年 3月17日
特表 2011-508975	動的アラインメント・ビーム校正のためのシステムおよび方法	2011年 3月17日
特表 2011-508419	半導体真空処理装置用のフィルム接着剤	2011年 3月10日
特表 2011-508422	プラズマ処理装置用の複合シャワーヘッド電極組立体	2011年 3月10日
特表 2011-508425	ウエハに対して均一な流体流れを提供する近接ヘッドを構成する方法	2011年 3月10日
特表 2011-508431	シリコン構造体の製造及びプロファイル制御を伴うシリコンディープエッチング	2011年 3月10日
特表 2011-508453	プラズマ処理システムにおいてエンドエフェクタのアラインメントを校正するためのシステムおよび方法	2011年 3月10日
特表 2011-508420	ｌｏｗ−ｋ誘電体の気相修復及び細孔シーリング	2011年 3月10日

79 件中 46-60 件を表示

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2011-512654 2011-511474 2011-511475 2011-511437 2011-509344 2011-509520 2011-508974 2011-508976 2011-508975 2011-508419 2011-508422 2011-508425 2011-508431 2011-508453 2011-508420

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