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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第464位 79件 (2010年:第391位 111件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2011-508420 | low−k誘電体の気相修復及び細孔シーリング | 2011年 3月10日 | |
特表 2011-508419 | 半導体真空処理装置用のフィルム接着剤 | 2011年 3月10日 | |
特表 2011-507195 | プラズマ非閉じ込めセンサ及びその方法 | 2011年 3月 3日 | |
特表 2011-506769 | めっき溶液の解析及び制御のための方法と装置 | 2011年 3月 3日 | |
特表 2011-507279 | 基板から汚染物質を除去するための方法及び装置 | 2011年 3月 3日 | |
特表 2011-507271 | 単相および二相の媒体による粒子除去のための材料 | 2011年 3月 3日 | |
特表 2011-507270 | 単相および二相の媒体による粒子除去のための装置 | 2011年 3月 3日 | |
特表 2011-507269 | 単相および二相の媒体による粒子除去のための方法 | 2011年 3月 3日 | |
特開 2011-29645 | 調整可能なマルチゾーンガス噴射システム | 2011年 2月10日 | |
特表 2011-504290 | ウエハー反り測定の配置構造及び反り測定方法 | 2011年 2月 3日 | |
特表 2011-504295 | 酸化物スペーサを使用したピッチ低減 | 2011年 2月 3日 | |
特表 2011-504299 | 湿式エッジ洗浄を強化するためのベベルプラズマ処理 | 2011年 2月 3日 | |
特表 2011-503845 | 窒化シリコン−二酸化シリコン高寿命消耗プラズマ処理構成部品 | 2011年 1月27日 | 共同出願 |
特表 2011-502361 | 冷却液と構成部品本体との間の熱伝導性を制御するためにガス圧を使用する温度制御モジュール | 2011年 1月20日 | |
特開 2011-14943 | エッチング速度の均一性を改良する技術 | 2011年 1月20日 |
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2011-508420 2011-508419 2011-507195 2011-506769 2011-507279 2011-507271 2011-507270 2011-507269 2011-29645 2011-504290 2011-504295 2011-504299 2011-503845 2011-502361 2011-14943
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
10月22日(火) -
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10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
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10月24日(木) -
10月24日(木) -
10月24日(木) - 東京 港
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10月25日(金) - 東京 千代田区
10月25日(金) -
10月25日(金) - 大阪 大阪市
10月25日(金) -
10月29日(火) - 東京 品川区
10月29日(火) - 東京 港区
10月29日(火) -
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10月29日(火) - 東京 品川区
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