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ラムリサーチコーポレーション

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公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特表 2011-508420	ｌｏｗ−ｋ誘電体の気相修復及び細孔シーリング	2011年 3月10日
特表 2011-508419	半導体真空処理装置用のフィルム接着剤	2011年 3月10日
特表 2011-507195	プラズマ非閉じ込めセンサ及びその方法	2011年 3月 3日
特表 2011-506769	めっき溶液の解析及び制御のための方法と装置	2011年 3月 3日
特表 2011-507279	基板から汚染物質を除去するための方法及び装置	2011年 3月 3日
特表 2011-507271	単相および二相の媒体による粒子除去のための材料	2011年 3月 3日
特表 2011-507270	単相および二相の媒体による粒子除去のための装置	2011年 3月 3日
特表 2011-507269	単相および二相の媒体による粒子除去のための方法	2011年 3月 3日
特開 2011-29645	調整可能なマルチゾーンガス噴射システム	2011年 2月10日
特表 2011-504290	ウエハー反り測定の配置構造及び反り測定方法	2011年 2月 3日
特表 2011-504295	酸化物スペーサを使用したピッチ低減	2011年 2月 3日
特表 2011-504299	湿式エッジ洗浄を強化するためのベベルプラズマ処理	2011年 2月 3日
特表 2011-503845	窒化シリコン−二酸化シリコン高寿命消耗プラズマ処理構成部品	2011年 1月27日	共同出願
特表 2011-502361	冷却液と構成部品本体との間の熱伝導性を制御するためにガス圧を使用する温度制御モジュール	2011年 1月20日
特開 2011-14943	エッチング速度の均一性を改良する技術	2011年 1月20日

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2011-508420 2011-508419 2011-507195 2011-506769 2011-507279 2011-507271 2011-507270 2011-507269 2011-29645 2011-504290 2011-504295 2011-504299 2011-503845 2011-502361 2011-14943

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