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株式会社日立国際電気

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　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第146位　280件（2012年：第136位　287件）

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株式会社日立国際電気の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-239700	半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム	2013年11月28日
特開 2013-239656	基板処理装置	2013年11月28日
特開 2013-239657	基板処理装置	2013年11月28日
特開 2013-235160	真空環境対応カメラ	2013年11月21日	共同出願
特開 2013-236249	画像処理装置及び画像処理方法	2013年11月21日
特開 2013-232624	半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置、気化システムおよびミストフィルタ	2013年11月14日
特開 2013-229676	アンテナ装置	2013年11月 7日
特開 2013-229575	半導体装置の製造方法、クリーニング方法および基板処理装置並びに記録媒体	2013年11月 7日
特開 2013-228983	入退管理システム及び端末装置	2013年11月 7日
特開 2013-225659	基板処理装置、メンテナンス方法及びプログラム	2013年10月31日
特開 2013-225655	半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム	2013年10月31日
特開 2013-225660	半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム	2013年10月31日
特開 2013-225653	半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム	2013年10月31日
特開 2013-225657	半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム	2013年10月31日
特開 2013-222725	半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム	2013年10月28日

352 件中 16-30 件を表示

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2013-239700 2013-239656 2013-239657 2013-235160 2013-236249 2013-232624 2013-229676 2013-229575 2013-228983 2013-225659 2013-225655 2013-225660 2013-225653 2013-225657 2013-222725

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