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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第189位 230件
(2010年:第172位 293件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第194位 188件
(2010年:第158位 203件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 4646541 | オフセット印刷機における湿し水の供給量制御方法 | 2011年 3月 9日 | |
特許 4648660 | 画像の領域分割による物体の表面領域配置の取得 | 2011年 3月 9日 | |
特許 4647532 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2011年 3月 9日 | |
特許 4647531 | 画像処理装置、画像処理方法、およびプログラム | 2011年 3月 9日 | |
特許 4641964 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2011年 3月 2日 | |
特許 4642817 | 基板処理システム、基板処理装置、プログラム及び記録媒体 | 2011年 3月 2日 | |
特許 4641154 | 熱処理装置 | 2011年 3月 2日 | |
特許 4640823 | 基板処理装置 | 2011年 3月 2日 | |
特許 4638402 | 二流体ノズル、ならびにそれを用いた基板処理装置および基板処理方法 | 2011年 2月23日 | |
特許 4636495 | 有機EL表示装置を製造するための塗布装置 | 2011年 2月23日 | |
特許 4634266 | 基板処理装置 | 2011年 2月16日 | |
特許 4632934 | 基板処理装置 | 2011年 2月16日 | |
特許 4628665 | 針痕読取装置および針痕読取方法 | 2011年 2月 9日 | 共同出願 |
特許 4628964 | 基板処理装置 | 2011年 2月 9日 | |
特許 4628448 | 基板処理装置 | 2011年 2月 9日 |
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4646541 4648660 4647532 4647531 4641964 4642817 4641154 4640823 4638402 4636495 4634266 4632934 4628665 4628964 4628448
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8月6日(水) -
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