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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第189位 230件 (2010年:第172位 293件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第194位 188件 (2010年:第158位 203件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4795854 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2011年10月19日 | |
特許 4794173 | 湿し水制御方法および印刷装置 | 2011年10月19日 | |
特許 4790638 | 基板処理装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4789652 | 塗布装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4789844 | 刷版供給装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4790470 | 基板処理装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4791068 | 基板処理装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4786140 | 比誘電率測定方法および比誘電率測定装置 | 2011年10月 5日 | |
特許 4787038 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2011年10月 5日 | |
特許 4787086 | 基板処理装置 | 2011年10月 5日 | |
特許 4785494 | 湿し水管理用スケールおよび湿し水制御方法 | 2011年10月 5日 | |
特許 4785496 | 吐出装置および塗布装置 | 2011年10月 5日 | |
特許 4787089 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2011年10月 5日 | |
特許 4780656 | 塗布装置 | 2011年 9月28日 | |
特許 4781931 | 熱処理方法および熱処理装置 | 2011年 9月28日 |
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4795854 4794173 4790638 4789652 4789844 4790470 4791068 4786140 4787038 4787086 4785494 4785496 4787089 4780656 4781931
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