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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第189位 230件 (2010年:第172位 293件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第194位 188件 (2010年:第158位 203件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4795854 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2011年10月19日 | |
特許 4794173 | 湿し水制御方法および印刷装置 | 2011年10月19日 | |
特許 4790638 | 基板処理装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4789652 | 塗布装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4789844 | 刷版供給装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4790470 | 基板処理装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4791068 | 基板処理装置 | 2011年10月12日 | |
特許 4786140 | 比誘電率測定方法および比誘電率測定装置 | 2011年10月 5日 | |
特許 4787038 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2011年10月 5日 | |
特許 4787086 | 基板処理装置 | 2011年10月 5日 | |
特許 4785494 | 湿し水管理用スケールおよび湿し水制御方法 | 2011年10月 5日 | |
特許 4785496 | 吐出装置および塗布装置 | 2011年10月 5日 | |
特許 4787089 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2011年10月 5日 | |
特許 4780656 | 塗布装置 | 2011年 9月28日 | |
特許 4781931 | 熱処理方法および熱処理装置 | 2011年 9月28日 |
188 件中 31-45 件を表示
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4795854 4794173 4790638 4789652 4789844 4790470 4791068 4786140 4787038 4787086 4785494 4785496 4787089 4780656 4781931
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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