ホーム > 特許ランキング > イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー > 2011年 > 特許一覧
イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
※ ログインすれば出願人(イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第136位 326件
（
2010年：第131位 386件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第171位 210件
（
2010年：第227位 138件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4644122 | 電子レンジ用の耐熱食器 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4644361 | フレキソ印刷版に用いる光退色性化合物 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4642028 | 化学的に誘導された１，３−プロパンジオールの水素化 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4644492 | 電子デバイスの二次加工に保護層を用いる方法 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4638646 | ポリトリメチレンエーテルグリコールの調製のための連続的な方法 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4634804 | 水分および気体浸透性、非多孔性イオノマーフィルム | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4633462 | ３−ハロ−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−ピラゾールの製造方法 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4634683 | 汚れ耐性組成物 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4634004 | 低光学損失ポリマー | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4634447 | セルロースおよびパラ−アラミドパルプならびにその製造方法 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4633901 | ダンパー装置 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4634379 | 有機電子デバイス製造の際の有機層の除去方法およびその方法によって形成される有機電子デバイス | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4629062 | 酸化クロムの処理及びフッ化ビニルの触媒的製造 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4629939 | 重合用二金属触媒系を用いたオレフィンの重合 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4625033 | 厚膜ペーストと適合性のＵＶ放射遮断保護層 | 2011年 2月 2日 |
210 件中 181-195 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4644122 4644361 4642028 4644492 4638646 4634804 4633462 4634683 4634004 4634447 4633901 4634379 4629062 4629939 4625033
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーの知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月30日(土) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる！株式会社リコーによるシーズ発表会 ～リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか？～
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ～ つながりを育む出会いの場（知財ネットワーク交流会）～
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる！株式会社リコーによるシーズ発表会 ～リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか？～
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
東京都江東区亀戸一丁目８番８号大樹生命亀戸ビル６階 6TH FLOOR, TAIJU SEIMEI KAMEIDO BLDG., 8-8, KAMEIDO 1-CHOME, KOTO-KU, TOKYO 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都江戸川区西葛西3-13-2-501 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
名古屋本部オフィス 〒450-0002 愛知県名古屋市中村区名駅3-13-24 第一はせ川ビル6F http://aigipat.com/ 岐阜オフィス 〒509-0124 岐阜県各務原市鵜沼山崎町3丁目146番地1 PACビル2階（旧横山ビル） http://gifu.aigipat.com/ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
