※ ログインすれば出願人(三菱化学株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第92位 465件 (2010年:第117位 414件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第110位 322件 (2010年:第88位 320件)
(ランキング更新日:2024年11月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4735421 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および画像形成装置 | 2011年 7月27日 | |
特許 4735156 | 円筒状像担持体、電子写真感光体、画像形成装置、およびカートリッジ | 2011年 7月27日 | |
特許 4736445 | 半導体デバイス用基板洗浄液及び洗浄方法 | 2011年 7月27日 | |
特許 4729716 | リチウム二次電池負極及びリチウム二次電池 | 2011年 7月20日 | 共同出願 |
特許 4729919 | 微生物の培養方法及び光学活性カルボン酸の製造方法 | 2011年 7月20日 | |
特許 4725510 | 酸化チタン微粒子組成物、酸化チタン微粒子分散液及びこれらの製造方法 | 2011年 7月13日 | |
特許 4725122 | 硬化性樹脂組成物、カラーフィルタおよび液晶表示装置 | 2011年 7月13日 | |
特許 4725029 | ポリブチレンテレフタレート | 2011年 7月13日 | |
特許 4725028 | ポリブチレンテレフタレート | 2011年 7月13日 | |
特許 4725027 | ポリブチレンテレフタレート | 2011年 7月13日 | |
特許 4720114 | オキザロ酢酸またはオキザロ酢酸誘導体の製造方法 | 2011年 7月13日 | |
特許 4720010 | 電子写真感光体ドラムの振れ測定方法、当該方法を用いた電子写真感光体の製造方法 | 2011年 7月13日 | |
特許 4720589 | 電子写真感光体および該感光体を備える画像形成装置 | 2011年 7月13日 | |
特許 4720531 | 画像形成装置 | 2011年 7月13日 | |
特許 4720527 | 電子写真感光体、画像形成方法及び画像形成装置 | 2011年 7月13日 |
322 件中 151-165 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4735421 4735156 4736445 4729716 4729919 4725510 4725122 4725029 4725028 4725027 4720114 4720010 4720589 4720531 4720527
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。三菱化学株式会社の知財の動向チェックに便利です。
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月30日(土) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ~ つながりを育む出会いの場(知財ネットワーク交流会)~
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
群馬県前橋市北代田町645-5 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
Floor 16, Tower A, InDo Building, A48 Zhichun Road, Haidian District, Beijing 100098, P.R. China 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都江戸川区西葛西3-13-2-501 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング