令和2(行ケ)10054審決取消請求事件

令和３年７月２０日判決言渡
令和２年（行ケ）第１００５４号 審決取消請求事件
口頭弁論終結日 令和３年６月１０日
判 決
原 告 株式会社ウィングターフ
同訴訟代理人弁理士 実 広 信 哉
10 被 告 株 式 会 社 シ ー ラ イ ブ
同訴訟代理人弁理士 河 野 貴 明
主 文
１ 特許庁が無効２０１７－８００００４号事件について令和２年３月
15 １７日にした審決のうち，「特許第５４６３３７８号の請求項２ないし
４に係る発明についての審判請求は，成り立たない。」との部分を取り
消す。
２ 訴訟費用は被告の負担とする。
事 実 及 び 理 由
20 第１ 請求
主文同旨
第２ 事案の概要
（以下，書証については，単に「甲１」などと略記する。）
１ 特許庁における手続等（当事者間に争いがない）
25 (1) 被告及び株式会社ノベルト（以下「ノベルト」という。）は，平成２４年３
月１９日，発明の名称を「核酸分解処理装置」とする発明について特許出願
（特願２０１２－６２８８０号。以下「本件出願」という。）をし，平成２６
年１月２４日，特許権の設定登録を受けた（特許番号第５４６３３７８号。
請求項の数４。以下，この設定登録を受けた特許を「本件特許」という。 。
）
(2) 原告は，平成２９年１月１７日，本件特許の請求項１ないし４に係る発明
5 についての特許を無効とすることを求める特許無効審判（無効２０１７－８
００００４号事件）を請求した。
被告及びノベルトは，同年１１月３０日付けの審決の予告を受けたため，
同年１２月２７日付けで，請求項１ないし４からなる一群の請求項について，
請求項２ないし４を訂正し，請求項１を削除し，本件出願の願書に添付した
10 明細書（以下，図面を含めて「本件明細書」という。）について訂正する旨の
訂正（以下，この一連の訂正を「一次訂正」という。）を請求した。
その後，特許庁は，平成３０年３月２７日，上記訂正を認めた上で，
「本件
審判の請求は，成り立たない」との審決（以下「一次審決」という。）をし，
その謄本は，同年４月５日，原告に送達された。
15 この間に，被告は，ノベルトから，本件特許に係る特許権の持分の譲渡を
受け，その旨の移転登録（受付日平成３０年１月５日）を受けた。
(3) 原告は，平成３０年５月２日，一次審決の取消しを求める審決取消訴訟（知
的財産高等裁判所平成３０年（行ケ）第１００６４号）を提起した。
同裁判所は，平成３１年２月２８日，一次審決を取り消す旨の判決（以下
20 「一次判決」という。）をし，同判決は，その後確定した。
(4) その後，特許庁は，上記無効審判について更に審理を行った。
被告は，令和元年９月４日付けの審決の予告を受け，同年１１月８日付け
で請求項１ないし４からなる一群の請求項について，請求項２ないし４を訂
正し，請求項１を削除し，本件明細書について訂正する旨の訂正（以下「本
25 件訂正」という。）を請求した。
特許庁は，令和２年３月１７日，本件訂正を認めた上で，
「特許第５４６３
３７８号の請求項２ないし４に係る発明についての審判請求は，成り立たな
い。同請求項１に係る発明についての審判請求を却下する。」旨の審決（以下
「本件審決」という。）をし，その謄本は，同月２６日，原告に送達された。
(5) 原告は，同年４月２４日，本件審決のうち，本件特許のうち請求項２ない
5 し４に係る部分について取消しを求める本件訴訟を提起した。
２ 特許請求の範囲
本件訂正後の本件特許の請求項２ないし４の記載は，以下のとおりである
（以下，本件訂正後の請求項２に係る発明を「訂正発明２」などといい，訂正
発明２ないし４を「訂正発明」という。また，一次訂正後本件訂正前の請求項
10 ２に係る発明を「一次訂正発明２」という。なお，本件訂正箇所のうち一次訂
正箇所と同内容の部分は下線で，一次訂正と異なる部分は二重線で示す。 。
）
【請求項２】
メタノールタンクから供給されたメタノールを霧状に噴射するノズルを備え，
該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生させ
15 るメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位置して，熱
反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部とからなり，該上部
には空気を供給する空気供給部が連結されており，該メタノールガス発生部か
ら発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとと
もに，上記メタノールガスに該空気供給部から供給された空気を所定の割合で
20 混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上記所定
の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒
部とを有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル
反応触媒より構成され，該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合
したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに
25 由来する活性種を含み生成される複合ガス（以下「バイオガス」という）を発
生するバイオガス発生部と，
上記バイオガス発生部における生成ガス量を供給空気量とメタノール量で制
御する生成ガス量制御手段と，
上記バイオガス発生部により発生したバイオガスが供給される暴露部と，
上記暴露部の暴露空間内の温度を制御する温度制御手段と，
5 上記暴露部の暴露空間内の湿度を制御する湿度制御手段と，
上記暴露部に供給されたバイオガスを排気する排気処理部と，
上記排気処理部により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御
するバイオガスの排気量制御手段と，
上記暴露部におけるバイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定するホ
10 ルムアルデヒド成分濃度測定手段と，
臭いを検出又は測定する手段を備え，
上記ホルムアルデヒド成分濃度測定手段による測定結果として得られるガス
濃度情報が上記生成ガス量制御手段に帰還され，上記バイオガス発生部におい
て，一定の触媒の自己反応温度と濃度のバイオガスとなるように，上記生成ガ
15 ス量制御手段により上記バイオガス発生部における生成ガス量が供給空気量と
メタノール量で制御されるとともに，上記排気量制御手段により上記暴露部か
ら排気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内ガス
濃度を一定にし，
上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による上記暴露部の暴露
20 空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する庫内差圧
検出手段を備え，
上記庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気
量制御手段に帰還され，上記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバ
イオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内差圧を陰圧で一定
25 にすることを特徴とする核酸分解処理装置。
【請求項３】
上記バイオガス発生部は，メタノール，ホルムアルデヒド，一酸化炭素，二
酸化炭素，水素，酸素の成分を少なくとも含有した活性酸素とフリーラジカル
からなる複合ラジカルガスを発生することを特徴とする請求項２に記載の核酸
分解処理装置。
5 【請求項４】
上記バイオガス発生部は，上記自己反応温度が４００℃～５００℃の範囲内
に制御されることを特徴とする請求項３記載の核酸分解処理装置。
３ 一次審決及び一次判決の要旨
(1) 一次審決
10 ア 一次審決が認定した甲１（特開２０１０－５１６９２号公報。公開日平
成２２年３月１１日）に記載された発明（以下「甲１発明」という。）は，
後記４(2)アのとおりであり，甲１発明と一次訂正発明２との一致点及び相
違点は，以下のとおりである。
（一致点）
15 「メタノールタンクから供給されたメタノールを霧状に噴射するノズルを
備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガス
を発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方
に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部
とからなり，該上部には空気を供給する空気供給部が連結されており，上
20 記メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により
上方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給
部から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の
上方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で空気が混合したメタノ
ールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを有し，上記触媒部は，
25 金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成され，
該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメタノールガス
を触媒反応によりラジカル化して，ＭＲガスを発生するＭＲガス発生装置
と，上記ＭＲガス発生装置における生成ＭＲガス量を供給空気量とメタノ
ール量で制御する生成ＭＲガス量制御手段と，上記ＭＲガス発生装置から
発生したＭＲガスが供給される滅菌タンクを備えたＤＮＡ破壊処理装置。」
5 である点。
（相違点１）
一次訂正発明２は，滅菌タンク内の温度を制御する温度制御手段と，滅
菌タンク内の湿度を制御する湿度制御手段と，滅菌タンクに供給されたＭ
Ｒガスを排気する排気処理部と，上記排気処理部により滅菌タンクから排
10 気するＭＲガスの排気量を制御するＭＲガスの排気量制御手段と，滅菌タ
ンクにおけるＭＲガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定するホルム
アルデヒド成分濃度測定手段と，臭いを検出又は測定する手段を備え，上
記ホルムアルデヒド成分濃度測定手段による測定結果として得られるガ
ス濃度情報が生成ＭＲガス量制御手段に帰還され，ＭＲガス発生装置にお
15 いて，一定の触媒の自己反応温度と濃度のＭＲガスとなるように，生成Ｍ
Ｒガス量制御手段によりＭＲガス発生装置における生成ＭＲガス量が供
給空気量とメタノール量で制御されるとともに，上記排気量制御手段によ
り滅菌タンクから排気するＭＲガスの排気量を制御することにより，滅菌
タンクの庫内ガス濃度を一定にするという構成を備えるのに対し，甲１発
20 明は，かかる構成について記載されていない点。
（相違点２）
一次訂正発明２は，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段
による滅菌タンク内のＭＲガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を
検出する庫内差圧検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段による検出結果
25 から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量
制御手段により滅菌タンクから排気するＭＲガスの排気量を制御するこ
とにより，滅菌タンクの庫内差圧を一定にするという構成を備えるのに対
し，甲１発明は，かかる構成について記載されていない点。
イ 一次審決の要旨（ただし，無効理由１（甲１を主引用例とする一次訂正
発明２の進歩性の判断の誤り）に限る。）
5 (ア) 一次訂正発明２は，相違点１の容易想到性は認められるが，相違点
２の容易想到性は認められない。
(イ) 一次審決の相違点２の容易想到性に関する判断の要旨は，以下のと
おりである。
①本件明細書の【０１４３】ないし【０１４７】の記載事項によれば，
10 一次訂正発明２の「庫内差圧検出手段」は，
「滅菌タンク内がタンク外よ
りも陰圧であることを検出する庫内差圧手段であって，滅菌タンク内の
ＭＲガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出するものである」
と認められる，②滅菌タンク内の圧力は，一次訂正発明２では，陰圧で
維持するように制御されるのに対して，甲２（国際公開第０１／０２６
15 ６９７号の再公表公報（平成１５年５月７日発行））には，陽圧を維持す
るように制御することが記載されており，滅菌タンク内の圧力を陰圧に
維持するように滅菌タンクからのＭＲガスの排気量を制御して，滅菌タ
ンク内の庫内差圧を一定にしようとすることは，甲２の記載事項から導
き出せる事項ではないから，甲１発明に甲２に記載された発明及び周知
20 技術を組み合わせても，相違点２に係る一次訂正発明２の「庫内差圧検
出手段」の構成を当業者が容易に想到することができない。
(2) 一次判決の要旨
①一次訂正後の特許請求の範囲（請求項２）の記載及び本件明細書の記載
に鑑みると，一次訂正発明２の「庫内差圧検出手段」の検出の対象となる「庫
25 内差圧」は，「庫内」（暴露部の暴露空間内）の圧力と暴露空間外の圧力との
差圧であれば，特定の数値範囲のものに限定されるものではなく，陰圧の数
値範囲のものに限定されるものでもないと解すべきである，②甲２における
「本発明」の第２の実施の形態の「微差圧検出器５６」 「コントロールユニ
，
ット５８」及び「排気量調整電磁弁７４及び送風機８２」は，それぞれ，一
次訂正発明２における「庫内差圧検出手段」 「上記庫内差圧検出手段による
，
5 検出結果から得られる庫内差圧情報が･･･帰還され」 「上記排気量制御手段」
る
及び「上記排気量制御手段により制御される排気処理手段」に相当するもの
と認められるから，甲２には，相違点２に係る一次訂正発明２の構成が開示
されているものと認められる，③甲１及び甲２に接した当業者は，甲１発明
において安定した濃度の滅菌ガスを発生させるとともに，十分に保証可能な
10 殺菌効果を得るために，甲２記載の被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃
度，湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，被殺菌空間の室圧を一
定に保つための構成を適用する動機づけがあるものと認められる，④したが
って，当業者は，甲１及び甲２に基づいて，甲１発明に甲２記載の上記構成
を適用して相違点２に係る一次訂正発明２の構成を容易に想到することがで
15 きたものと認められる。
４ 本件審決の要旨
(1) 本件審決の要旨は，①訂正発明２は，本件出願前に頒布された刊行物であ
る甲１に記載された発明（甲１発明）及び甲２発明及び技術常識を組み合わ
せることにより当業者が容易に発明することができたものとはいえず，また，
20 訂正発明３は訂正発明２の発明特定事項を全て有する発明であり，また，訂
正発明４は訂正発明３の発明特定事項を全て有する発明であり，訂正発明２
について当業者が容易に発明することができたものとはいえないので，訂正
発明３及び４についても当業者が容易に発明することができたものとはいえ
ないから，訂正発明は，特許法２９条２項の規定により特許を受けることが
25 できないということはできない，②本件訂正後の特許請求の範囲は，特許法
３６条６項１項に規定する要件（以下「サポート要件」という。）を満たして
いるといえる，③本件訂正後の本件明細書（以下「訂正明細書」という。）の
記載は，同条４項１号に規定する要件（以下「実施可能要件」という。）を満
たしている，というものである。
(2) 本件審決が認定した甲１発明，訂正発明２と甲１発明の一致点及び相違点
5 は，以下のとおりである。
ア 甲１発明
「メタノールタンクから供給されたメタノールを霧状に噴射するノズルを
備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガス
を発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方
10 に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部
とからなり，該上部には空気を供給する空気供給部が連結されており，該
メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上
方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部
から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上
15 方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で空気が混合したメタノー
ルガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを有し，上記触媒部は，
金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成され，
該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメタノールガス
を触媒反応によりラジカル化して，ＭＲガスを発生するＭＲガス発生装置
20 と，上記ＭＲガス発生装置における生成ＭＲガス濃度を供給空気量とメタ
ノール量で制御する生成ＭＲガス濃度制御手段と，上記ＭＲガス発生装置
から発生したＭＲガスによって滅菌処理を施す滅菌タンクを備えた滅菌
処理装置であって，ＤＮＡを破壊することが可能な滅菌処理装置。」
イ 一致点及び相違点
25 【一致点】
「メタノールタンクから供給されたメタノールを霧状に噴射するノズルを
備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガス
を発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方
に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部
とからなり，該上部には空気を供給する空気供給部が連結されており，該
5 メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上
方に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部
から供給された空気を所定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上
方に位置し，該筒体部において上記所定の割合で空気が混合したメタノー
ルガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを有し，上記触媒部は，
10 金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒より構成され，
該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメタノールガス
を触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに由来する活性
種を含み生成される複合ガス（以下「バイオガス」という。）を発生するバ
イオガス発生部と，上記バイオガス発生部における生成ガス量を供給空気
15 量とメタノール量で制御する生成ガス量制御手段と，上記バイオガス発生
部により発生したバイオガスが供給される暴露部を備えた核酸分解処理
装置。」
【相違点１】
訂正発明２は，暴露部の暴露空間内の温度を制御する温度制御手段と，
20 暴露部の暴露空間内の湿度を制御する湿度制御手段と，暴露部に供給され
たバイオガスを排気する排気処理部と，上記排気処理部により暴露部から
排気するバイオガスの排気量を制御するバイオガスの排気量制御手段と，
暴露部におけるバイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定するホ
ルムアルデヒド成分濃度測定手段とを備え，上記ホルムアルデヒド成分濃
25 度測定手段による測定結果として得られるガス濃度情報が上記生成ガス
量制御手段に帰還され，上記バイオガス発生部において，一定の触媒の自
己反応温度と濃度のバイオガスとなるように，上記生成ガス量制御手段に
より上記バイオガス発生部における生成ガス量が供給空気量とメタノー
ル量で制御されるとともに，上記排気量制御手段により暴露部から排気す
るバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内ガス濃度
5 を一定にし，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による暴
露部の暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を
検出する庫内差圧検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段による検出結果
から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排気量
制御手段により暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御すること
10 により，上記暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることを特徴とするのに
対して，甲１発明は，かかる構成について記載されていない点。
【相違点２】
訂正発明２は，臭いを検出又は測定する手段を備えるのに対し，甲１発明
は，かかる構成について記載されていない点。
15 (3) 原告の主張に関連する本件審決の理由の要旨は，以下のとおりである。
ア 無効理由１（特許法１２３条１項２号）について
①甲１及び甲２に接した当業者は，甲１発明において安定した濃度の滅
菌ガスを発生させるとともに，十分に保証可能な殺菌効果を得るために，
甲２記載の被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれ
20 ぞれ所定の値に制御し，かつ，被殺菌空間の室圧を一定に保つための構成
を適用する動機づけがある，②しかし，甲２には，相違点１に係る訂正発
明２の構成のうち，「暴露部の暴露空間内の温度を制御する温度制御手段
と，暴露部の暴露空間内の湿度を制御する湿度制御手段と，暴露部に供給
されたバイオガスを排気する排気処理部と，上記排気処理部により暴露部
25 から排気するバイオガスの排気量を制御するバイオガスの排気量制御手
段と，暴露部におけるバイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定す
るホルムアルデヒド成分濃度測定手段とを備え，上記ホルムアルデヒド成
分濃度測定手段による測定結果として得られるガス濃度情報が上記生成
ガス量制御手段に帰還され，上記バイオガス発生部において，一定の触媒
の自己反応温度と濃度のバイオガスとなるように，上記生成ガス量制御手
5 段により上記バイオガス発生部における生成ガス量が供給空気量とメタ
ノール量で制御されるとともに，上記排気量制御手段により暴露部から排
気するバイオガスの排気量を制御することにより，上記暴露部の庫内ガス
濃度を一定にし，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段によ
る暴露部の暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差
10 圧を検出する庫内差圧検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段による検出
結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排
気量制御手段により暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御する
ことにより，上記暴露部の庫内差圧を一定にすることを特徴とする」こと
は開示されていると認められるものの，「上記暴露部の庫内差圧を陰圧で
15 一定にする」ことは開示されていないから，甲２には，相違点１に係る訂
正発明２の構成が開示されておらず，仮に，甲１発明に甲２に記載の構成
を適用しても，当業者は，相違点１に係る訂正発明２の構成を想到し得な
い，③請求人（原告）は，ＭＲガス等を処理室内で使用するに当たり，処
理室内の圧力を処理室外の圧力に対して陰圧とした状態で使用する場合
20 があることは技術常識であったから，甲１発明において甲２の記載に鑑み
ると，庫内差圧の制御を行うに当たり，陰圧で制御を行うことは容易であ
った旨主張するが， ＭＲガス等を使用する処理室内の圧力を処理室外の
圧力に対して陰圧に制御することは，その主張する文献（甲２３ないし２
７）のいずれにも開示されていないから，上記各文献から，上記の点が技
25 術常識であったとはいえず，甲１発明において，甲２の記載に鑑みて庫内
差圧の制御を行うに当たり，陰圧で制御を行うことを当業者は容易に想到
し得ない。
イ 無効理由２（特許法１２３条１項４号）について
訂正明細書の図１９Ｂ及び図１９Ｃにおける「９０ｍｉｎ」のスペクト
ル図が図１８に示された評価基準のいずれのスペクトルにも該当せず，請
5 求人（原告）の指摘するスペクトル図からは，これらのサンプル量におい
て暴露時間が９０分の場合に核酸を完全に分解することができたかが不
明であるとしても，図１９Ｂ及び図１９Ｃに示された他のスペクトル図か
らは，いずれのサンプル量の場合も，９０分よりも短い時間で核酸を完全
に分解できると理解できることから，訂正発明は，その課題を解決し得る
10 といえるものであり，訂正明細書の記載は，サポート要件を満たしている。
ウ 無効理由３（特許法１２３条１項４号）について
請求人（原告）の主張は，訂正発明では処理開始から９０分経過後でも
核酸を完全に分解することができない場合があることを前提とするもの
であるが，その前提に誤りがあることは前記イのとおりであり，訂正明細
15 書の記載は，実施可能要件を満たしている。
第３ 当事者の主張
１ 取消事由１－１（甲１を主引用例とする訂正発明２の進歩性の判断の誤り）
について
(1) 原告の主張
20 本件審決は，前記第２の４(3)アのとおり判断したが，以下のとおり誤りで
ある。
ア 訂正発明２において「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすること」に格
別の技術的意義はないこと
(ア) 訂正明細書の【００２１】には，「本発明に係る核酸分解装置では，
25 フィードバック制御により暴露部の暴露空間内における温度，湿度，濃
度の定量的制御を行うことができ，検体の種類によっての短時間で高効
能を発揮する条件を定義することができる。」と記載されているように，
訂正発明の技術的意義は，フィードバック制御により暴露部の暴露空間
内の温度，湿度及びＭＲガスの濃度の定量的制御を行うことにあり，暴
露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることについては格別の技術的意義は
5 ない。そして，訂正明細書には，暴露部の暴露空間内を陽圧とすること
に対して，暴露部の暴露空間内を陰圧とすることによって何らかの顕著
な効果を奏することを示す記載もない。そうすると，訂正発明２におい
て，暴露部の暴露空間内を陰圧とする必然性はなく，訂正発明２の暴露
部の暴露空間内を陰圧とするか陽圧とするかは当業者が適宜決定し得る
10 事項であるにすぎない。
本件審決は，前記第２の４(3)ア②のとおり，甲２には「暴露部の庫内
差圧を陰圧で一定にする」との記載がないことから，相違点１の容易想
到性を否定するが，上記のとおり，訂正発明２において「暴露部の暴露
空間内を陰圧で一定にする」ことについての技術的意義はないから，本
15 件出願日当時，滅菌，殺菌のためのＭＲガス等を処理室内で使用するに
当たり，処理室内の圧力を陰圧とした状態で使用することが技術常識で
あったか否かにかかわらず，相違点１の容易想到性は明らかである。
(イ) なお，被告は，後記(2)ア(ア)のとおり，訂正発明２は，バイオガスの
暴露部としてはチャンバーのような狭い空間を想定している旨主張す
20 るが，本件訂正後の請求項２には，バイオガス（ＭＲガス）による処理
を受ける空間については，単に「暴露部」 「暴露空間」 「庫内」等と記
， ，
載されているにとどまり，当該空間が狭いものである旨の規定は存在せ
ず，被告の上記主張は，訂正発明２に基づかないものであるし，また，
具体的にどの程度の容積の空間が「狭い空間」であるか不明であり，
「狭
25 い空間」を客観的に特定することはできないから，被告の上記主張は失
当である。
イ 訂正発明２で暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることは，周知技術に
基づいて容易に想到し得ること
前記アのとおり，訂正発明２の暴露部の暴露空間を陰圧とする目的は，
訂正明細書に記載も示唆もなく，不明であるが，仮に，訂正発明２におい
5 て暴露部の庫内差圧を陰圧とする目的として，ＭＲガスは人体に有害なホ
ルムアルデヒドを含むものであるため，ＭＲガスの暴露部外への漏えいを
防止することにあるとしても，室内に存在する人体に有害な物質が室内か
ら室外へ漏えいすることがないように，室内を室外に対して陰圧に制御す
ることは周知である（甲８２の【０００４】，甲２３の【００２０】，甲８
10 ３の【００６４】，甲８４の請求項１，【００１３】 【００３０】 。
， ）
そうすると，甲１発明に甲２発明を組み合わせてフィードバック制御を
行うにしても，暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることは，このような
周知技術に基づいて当業者であれば容易に想到する。
ウ 滅菌・殺菌のためにＭＲガス等を処理室内で使用するに当たり，処理室
15 内の圧力を陰圧とした状態で使用する場合があることは技術常識である
こと
(ア) 本件出願日前に刊行された各文献（甲７，２４，２６，８５，８６，
８８ないし９０，９４，９５）によれば，滅菌・殺菌のためにＭＲガス
等を処理室内で使用するに当たり，処理室の圧力に対して陰圧とした状
20 態で使用する場合があることは，本件出願日当時の技術常識であり，本
件審決が，前記第２の４(3)ア③のとおり，これに反する判断をしたのは
誤りである。
そうすると，甲１発明に甲２の記載を組み合わせてフィードバック制
御を行うに当たり，暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることは，本件
25 出願日当時の技術常識を踏まえると，当業者が適宜になし得る事項にす
ぎない。
(イ) 被告は，後記(2)ウ(ア)のとおり，フィードバック制御が開示されてい
るのは甲２のみであるから，相違点１の容易想到性についてはあくまで
も相違点１が甲２に示されているか否かにより判断されるべきである
とも主張する。
5 しかし，甲２の請求項３には，
「…前記室内の圧力を調整する室圧調整
装置とを備え･･･」と記載されており，室内の圧力を調整するに当たり陽
圧制御としなければならないと記載されておらず，大気圧を基準とすれ
ば，陽圧制御のほかには陰圧制御しかあり得ないから，甲２には文言と
して記載はないものの，最良の形態として推奨されている陽圧制御のほ
10 かに陰圧制御の態様についても実質的に開示されているといえる。そし
て，当業者は，甲１発明に甲２に開示されている構成を適用することは
できるから，相違点１の構成は容易に想到するものといえるし，さらに
いえば，上記のとおり，甲２には陰圧制御が実質的に開示されているか
ら，相違点１の構成のうち「庫内差圧を陰圧で制御する」との点は，実
15 質的な相違点ではない。
したがって，被告の上記主張は理由がない。
エ 甲２の陽圧制御を陰圧制御とすることに阻害要因があるとの点について
被告は，後記(2)エのとおり，甲２の陽圧制御を陰圧制御とすることにつ
いて阻害要因がある旨主張する。
20 確かに，甲２の発明の詳細な説明には，「ここで所定時間，室内の温度，
湿度，ホルムアルデヒドガスの濃度がそれぞれ温度２０～４０℃の範囲，
湿度５０～９０％（相対湿度）の範囲，ホルムアルデヒドガス濃度１６０
ｐｐｍ以上を維持している間，室圧調整装置により室内の圧力を陽圧力に
維持する。 との記載があるが，
」 これはあくまで発明を実施するための最良
25 の形態の例として記載されているのであって，甲２発明を実施するに当た
って必ず陽圧制御としなければならないというわけではないから，陰圧制
御が積極的に排除され，否定され，回避すべき，あるいは適用があり得な
いといった事情は存在しない。
オ 小括
以上によれば，本件審決における相違点１の容易想到性の判断には誤り
5 があるから，本件審決は取り消されるべきである。
(2) 被告の主張
ア 訂正発明２の技術的意義の認定判断の誤りについて
(ア) 訂正発明２は，バイオガスの暴露部はチャンバーのような狭い空間
を想定している（例えば，
【００７７】では１㎥以内。狭い空間であるこ
10 とは「『庫内』差圧」という用語からも読み取ることができる。 。バイオ
）
ガス発生部では，安定した自己反応（メタノールガスの触媒燃焼反応）
により反応温度を維持している（【００５１】 【００５２】 【００７２】
， ，
等）ところ，暴露対象は，検体や精密機器等であり（【０２０１】【０２
，
１１】 ，暴露部の温度，湿度，バイオガス濃度，庫内差圧については細
）
15 かな制御が必要となる。
そこで，訂正発明２では，フィードバック制御を行っており，庫内ガ
ス濃度情報及び庫内差圧情報という２つの情報を基に，生成ガス量及び
排気量を調整し，庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を一定にするという制
御を行い，このフィードバック制御により暴露部の暴露空間内における
20 温度，湿度，濃度，庫内差圧の定量的制御を行うことができ，検体の種
類によって短時間で高効能を発揮する条件を定義することができる
（【００２１】 【０１６２】 。
， ）
(イ) 原告は，前記(1)アのとおり，訂正発明２の構成要件のうち，
「暴露部
の庫内差圧を陰圧で一定」という部分のみを取り上げてその技術的意義
25 を主張しているが，訂正発明２は，前記(ア)のとおりフィードバック制
御を行うことによって暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にしている構成
を採用しており，その点に技術的意義が存在するから，原告の主張は理
由がない。
イ 訂正発明２で暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にすることは，周知技術に
基づいて容易に想到し得るとの点について
5 原告は，前記(1)イのとおり主張するが，訂正発明２における「暴露部の
庫内差圧を陰圧で一定」との技術的意義は，フィードバック制御を行う構
成と一体として判断されるべきであり，フィードバック制御により暴露部
の暴露空間内における温度，湿度，濃度，庫内差圧の定量的制御を行うこ
とができ，検体の種類によって短時間で高効能を発揮する条件を定義する
10 ことができるものであることは，前記アのとおりである。
そして，原告が挙げる甲２３及び８２は，バイオハザードやケミカルハ
ザード対策施設で室内を陰圧にしてバイオハザード源やケミカルハザー
ド源の外部漏洩を防止するものであり，甲８３及び８４は，オゾン等の滅
菌性ガスにより室内を滅菌する際に対象室内を陰圧にすることのみを目
15 的とするものであって，訂正発明２のようにフィードバック制御により暴
露部の暴露空間内における庫内差圧を定量的に制御することによって，短
時間で高効能を発揮する条件を定義するものではなく，庫内ガス濃度情報
及び庫内差圧情報という２つの情報を基に生成ガス量及び排気量を調整
し，庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を一定にする構成については，これら
20 の文献には記載も示唆もない。
そうすると，訂正発明２は，ガスの暴露部からの漏えい防止のためとい
う目的にとどまらないから，原告の挙げる各文献（甲２３，８２ないし８
４）から，訂正発明２の構成を当業者が容易に想到し得たとはいえない。
ウ 滅菌・殺菌のためにＭＲガス等を処理室内で使用するに当たり，処理室
25 内の圧力を陰圧とした状態で使用する場合があることは技術常識である
との点について
(ア) 前記アのとおり，訂正発明２の容易想到性の判断に当たっては，
「暴
露部の庫内差圧を陰圧で一定」という部分のみで判断するのではなく，
フィードバック制御を行う構成によって「暴露部の庫内差圧を陰圧で一
定」にし（同時にバイオガス濃度も一定に制御する。 ，暴露部内の反応
）
5 環境を一定に制御するという技術思想の容易想到性で判断されるべきで
ある。そして，こうしたフィードバック制御が開示されているのは甲２
のみであり，相違点１の容易想到性についてはあくまでも相違点１が甲
２に示されているか否かにより判断されるべきであるところ，甲２は陽
圧制御であって陰圧制御に変更することに阻害要因があることは後記エ
10 のとおりであるから，相違点１の構成について当業者は容易に想到し得
ない。
原告の挙げる文献（甲７，８５，８６，８８ないし９０）は，いずれ
も処理室内の圧力を処理室外の圧力に対して陰圧とした状態で使用す
ることは記載されているが，フィードバック制御を行う構成については
15 記載も示唆もないから，これらの記載から訂正発明２が容易想到である
とはいえない。
(イ) なお，甲２４について，原告が指摘する箇所（請求項２， ００１４】
【 ，
【００１８】【００１９】
， ）は，ホルマリンガス供給前であり，ガス供給
時の状態に関する記載はなく，また，ガスの供給量がガスの排気量を上
20 回れば処理室内の差圧は陽圧となる傾向があり，必ずしも陰圧となるわ
けではなく，同文献がＭＲガスを陰圧下で使用して滅菌を行うことを示
すものではない。また，甲２６について，原告が指摘する箇所（請求項
９，【００２４】 【００２５】 【００２７】 【００２９】
， ， ， ）は，減圧・Ｍ
Ｒガス発生モードに関する記載であり，滅菌モードではなく，また，陰
25 圧に制御すると記載されているわけでもない。
エ 甲２に記載された室圧調整装置における庫内差圧を陰圧に制御すること
には阻害要因があること
甲２には，
「ここで所定時間，室内の温度，湿度，ホルムアルデヒドガス
の濃度がそれぞれ温度２０～４０℃の範囲，湿度５０～９０％（相対湿度）
の範囲，ホルムアルデヒドガス濃度１６０ｐｐｍ以上を維持している間，
5 室内調整装置により室内の圧力を陽圧力に維持する。即ち，図３に示すフ
ローチャートに示す処理により，室内を陽圧力（１０～２０Ｐａ）に維持
する。なお，このフローチャートに基づく制御は，コントロールユニット
５８により微小時間間隔ごとに繰り返して行われる。また，陽圧力とは，
（室内圧力）－（室外圧力）が正の値を示す場合をいう。 （１５頁２６行
」
10 ～１６頁３行）と記載されている。このように，甲２には，
「室内の圧力を
陽圧力に維持する。 と断定的に記載されていることから，
」 甲２は陽圧に制
御することを目的とするものである。
また，フィードバック制御は，訂正発明２の圧力制御に関していえば，
庫内差圧を検出して，制御手段に帰還（フィードバック）し，その情報に
15 基づいて暴露部内の庫内差圧をバイオガスの排気量を制御することによ
り，陰圧で一定にするように厳密に細かく制御することである。このよう
に，フィードバック制御を行う場合には，通常の圧力制御よりも厳密で細
かい制御を行うことから，その制御される圧力値が陽圧でも陰圧でもよい
ということはあり得ないところ，上記のとおり，甲２には，陽圧（１０～
20 ２０Ｐａ）で制御すると記載されており，その技術的意義は，本件審決で
認定されたとおり，滅菌処理中の処理室内への室外空気の侵入を防止して
処理室内の清浄度を維持することある。そして，甲２に記載された陽圧制
御を陰圧制御とすると，甲２の被殺菌空間１００への室外空気の侵入を防
止することができないことになり，処理室内の清浄度を維持するという上
25 記技術的意義を損なうことになるから，甲２に記載された室圧調整装置に
おける庫内差圧の陽圧制御を陰圧制御に変更することには阻害要因があ
る。
オ 小括
以上によれば，訂正発明２は，甲１発明，甲２に記載された発明及び周
知技術ないし技術常識から容易に想到し得たものではないから，これと同
5 旨の本件審決の判断に誤りはない。
したがって，原告主張の取消事由１－１は理由がない。
２ 取消事由１－２（甲１を主引用例とする訂正発明３及び４の進歩性の判断の
誤り）について
(1) 原告の主張
10 ア 訂正発明３は，訂正発明２のバイオガス発生部から発生するガスを，メ
タノール，ホルムアルデヒド，一酸化炭素，二酸化炭素，水素，酸素の成
分を少なくとも含有した活性酸素とフリーラジカルからなる複合ラジカ
ルガスと特定するものであるところ，甲１２には，メタノールを気化させ
て触媒と接触させることにより，メタノール，ホルムアルデヒド，一酸化
15 炭素，二酸化炭素，酸素，過酸化水素や各種ラジカルガスが発生すること
が記載されており（【０００６】ないし【０００９】 ，訂正発明２において
）
空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して生成す
るガスを，訂正発明３のように特定することは，当業者であれば格別の創
意を要する事項であるとはいえない。
20 したがって，訂正発明３は，甲１発明に甲２及び甲１２に記載された発
明（必要に応じて技術常識）を組み合わせることにより当業者が容易に想
到することができたものである。
イ また，訂正発明４は，訂正発明における触媒の自己反応速度が４００℃
～５００℃の範囲内に制御されることを特定するものであるところ，甲１
25 には，「ラジカル化触媒反応の温度を約４５０～５００℃の範囲で変化さ
せることが可能である。 （
」 【００４２】）と記載されているから，このよう
な特定は訂正発明４と甲１発明の相違点とはならない。
したがって，訂正発明４は，甲１発明に甲２に記載された発明（必要に
応じて技術常識）を組み合わせることにより，当業者であれば容易に想到
することができたものである。
5 ウ 以上によれば，訂正発明３及び４は当業者が容易に発明することができ
たということはできないとした本件審決の判断は誤りであるから，本件審
決は取り消されるべきである。
(2) 被告の主張
訂正発明３は訂正発明２を引用する発明であり，訂正発明４は訂正発明３
10 を引用する発明であるところ，前記１(2)のとおり，訂正発明２は当業者が容
易に発明することができたということはできないから，訂正発明３及び４も
当業者が容易に発明することができたものとはいえない。
したがって，これと同旨の本件審決の判断に誤りはなく，原告主張の取消
事由１－２は理由がない。
15 ３ 取消事由２（サポート要件違反の判断の誤り）について
(1) 原告の主張
訂正発明は，暴露部の空間内における温度，湿度及びバイオガス（ＭＲガ
ス）濃度の３つの要素をフィードバック制御することによって，短時間で効
率的な核酸分解処理を行うという課題の解決を意図するものである。
20 しかし，訂正明細書においては，訂正発明に係る核酸分解処理装置の試験
結果を示す図１９Ｂ及び１９Ｃに，
「９０ｍｉｎ」の時点で核酸の分解が目的
とするレベルまで進んでいない状態が示されており，短時間で効率的な核酸
分解処理を行うという課題が実現できない場合がある以上，訂正明細書の記
載に基づいて，訂正発明の課題を解決できるとは直ちに認識することができ
25 ない。
したがって，訂正発明は，訂正明細書の発明の詳細な説明に記載したもの
であるとはいえないから，訂正発明は，サポート要件に反するものではない
とした本件審決の判断は誤りである。
(2) 被告の主張
訂正明細書の図１９Ｂ及び図１９Ｃの「９０ｍｉｎ」時点のスペクトル図
5 は，核酸の分解が目的とするレベルまで進んでいない状態や外部空間に漂う
核酸が暴露空間内に混入している状態に相当するのではなく，何らかの理由
により測定がうまくいっていないか，あるいはノイズが生じているものとい
える。
図１９Ｂ及び図１９Ｃの他の時間のスペクトル図を見れば明らかなように，
10 図１９Ｂの４５℃，２μｌの場合には，
「１ｍｉｎ」のスペクトル図から核酸
が完全分解されており，図１９Ｃの３７℃，２μｌの場合でも，「５ｍｉｎ」
のスペクトル図から核酸が完全分解されていることを見て取ることができる。
上記のとおり，
「１ｍｉｎ」と「５ｍｉｎ」のスペクトル図において，核酸
が完全分解されている状態が観測されている以上，その後，２μｌという少
15 ないサンプル量で「９０ｍｉｎ」という長時間後のスペクトル図の１条件で
正確に測定することができなかったとしても，それは測定条件の問題であり，
訂正発明が「短時間で効率的な核酸分解処理」を実現することができないと
いうことにはならない。
以上によれば，訂正発明は，訂正明細書の発明の詳細な説明に記載したも
20 のであるといえるから，訂正発明がサポート要件に違反するものではないと
した本件審決の判断に誤りはない。
したがって，原告主張の取消事由２は理由がない。
４ 取消事由３（実施可能要件違反の判断の誤り）について
(1) 原告の主張
25 前記３(1)のとおり，訂正発明には，「短時間で効率的な核酸分解」を実現
できない場合があるため，訂正発明を用いて核酸分解処理を行うには，何ら
かの所定の処理条件を満たすことが必要であるが，訂正明細書にはそのよう
な条件の記載がないから，当業者は過度の試行錯誤を強いられることになる。
そうすると，訂正明細書の発明の詳細な説明の記載は，当業者が訂正発明
を実現可能な程度に明確かつ十分なものとはいえないから，実施可能要件に
5 適合しない。
したがって，これと異なる本件審決の判断は誤りである。
(2) 被告の主張
前記３(2)のとおり，訂正明細書の図１９Ｂ及び図１９Ｃの「１ｍｉｎ」と
「５ｍｉｎ」のスペクトル図において，核酸が完全分解されている状態が観
10 測されている以上，その後に２μｌという少ないサンプル量で「９０ｍｉｎ」
という長時間後のスペクトル図の１条件で正確に測定することができなかっ
たとしても，それは測定条件の問題であって，訂正発明が「短時間で効率的
な核酸分解」を実現できないことを示すものではない。
したがって，本件審決の実施可能要件の判断に誤りはなく，原告主張の取
15 消事由３は理由がない。
第４ 当裁判所の判断
１ 訂正明細書の記載事項について
訂正明細書には，別紙１のとおりの記載があり，この記載事項によれば，訂
正明細書には，訂正発明に関し，次の事項が開示されているものと認められる。
20 (1) ラジカル種メタノール由来の気相物質（ＭＲガス）を用いて核酸分解処理
を行う従来の方法には，５０℃以上の温度領域において，６０分以上の暴露
時間を要し，かつ，ホルムアルデヒド成分の濃度が２０００ｐｐｍ以上での
効果効能が発揮されるものがあったが，現実的な実用としては，常温から体
温領域が求められており，かつ，検体の種類に対応した短時間での効果効能
25 を発揮することが求められていたという課題があった 【０００９】
（ ，
【００１
１】 【００１２】 。
， ）
(2) 「本発明」は，検体の種類に対応した短時間で高効能を発揮する条件を定
義することが可能な核酸分解処理装置を提供することを目的とするものであ
り（【００１３】 ，前記課題を解決するための手段として，メタノールガス発
）
生部と，空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して少
5 なくともメタノールに由来する活性種を含み生成される複合ガスを発生する
バイオガス発生部と，バイオガス発生部における生成ガス量を供給空気量と
メタノール量で制御する生成ガス量制御手段と，バイオガス発生部により発
生したバイオガスが供給される暴露部と，暴露空間内の温度を制御する手段
と，暴露空間内の湿度を制御する手段と，暴露部に供給されたバイオガスを
10 排気する排気処理部と，暴露部からのバイオガスの排気量を制御する手段と，
暴露部におけるバイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定する手段と，
臭いを検出又は測定する手段を備え，ホルムアルデヒド成分濃度測定手段に
よる測定結果として得られるガス濃度情報が生成ガス量制御手段に帰還され，
バイオガス発生部において，生成ガス量制御手段により生成ガス量が供給空
15 気量とメタノール量で制御されるとともに，排気量制御手段により暴露部か
らのバイオガスの排気量を制御することにより，暴露部の庫内ガス濃度を一
定にし，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段による暴露空間
内のバイオガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を検出する手段を備え，
庫内差圧検出手段による検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制
20 御手段に帰還され，上記排気量制御手段により暴露部からのバイオガスの排
気量を制御することにより，暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にする構成（訂
正発明２の構成）を採用した（【００１６】 【００１７】 。
， ）
この構成により，
「本発明」は，フィードバック制御により暴露部の暴露空
間内における温度，湿度，濃度の定量的制御を行うことができ，検体の種類
25 に対応した短時間で高効能を発揮する条件を定義することができるという効
果を奏する（【００２１】 【０１９６】 。
， ）
２ 甲１の記載事項について
甲１には，別紙２のとおりの記載があり，この記載によれば，甲１発明に関
し，次のような事項が開示されているものと認められる。
(1) １５０～１８０ｍｍ程度の大きさを有する触媒部を備えた従来のＭＲガ
5 ス発生装置では，メタノールガスのラジカル化反応に必要な温度を一定に維
持させることが難しく，一定の濃度を有するＭＲガスを発生させることがで
きなかったため，加熱用の電熱ヒータを備える必要があったが，触媒部は必
然的に大きくなってしまい，利便性を高めるためのＭＲガス発生装置自体の
小型化を困難にしていたという問題点があった（【０００６】 【０００７】 。
， ）
10 (2) 「本発明」は，このような従来の問題点に鑑みて提案されたものであり，
ラジカル化のための触媒反応温度を一定に保ち，安定した濃度の滅菌ガスを
発生させるとともに，小型化が可能な滅菌ガス発生装置を提供することを目
的とする（【０００８】 。
）
本件発明者らは，ハニカム構造を有する触媒を使用することにより，ラジ
15 カル化のための触媒反応温度を一定に維持することが可能になることを見出
し，「本発明」を完成するに至った（【０００９】 。
）
「本発明」は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒
を使用する構成を採用したことにより，触媒部における表面積が増加して反
応効率が向上し，触媒反応温度を一定に維持した自己反応を生じさせること
20 ができ，安定した濃度のＭＲガスを発生させることができ，さらには，触媒
部における反応効率の向上により，触媒部を小型化することができるととも
に，滅菌処理装置自体を小型化することを可能にし，利便性を高めるという
効果を奏する（【００１３】 。
）
３ 甲２の記載事項について
25 甲２には，別紙３のとおりの記載があり，この記載事項によれば，甲２に関
し，次のような事項が開示されているものと認められる。
(1) ホルムアルデヒドガス殺菌装置において，十分に保証可能な殺菌効果を
得るためには，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度を制
御し，また，被殺菌空間は密閉された空間（室）となるため，室内圧力を制
御する必要も生じる（別紙３の２(2)）。
5 「本発明」は，上記課題を解決するための手段として，密閉された室内に
ホルムアルデヒドガスを供給すると共に排出するホルムアルデヒドガス供給
排出装置と，室内の圧力を調整する室圧調整装置とを備え，ホルムアルデヒ
ドガス供給排出装置は，ホルムアルデヒドガスの発生器と，ホルムアルデヒ
ドガスの湿度調節器と，ホルムアルデヒドガスの温度調節器と，ホルムアル
10 デヒドガスを室内へ搬送して導入するガス搬送器と，室内からの排ガスを処
理する排ガス処理器と，排ガスの排出器と，室内のホルムアルデヒドガスの
濃度，湿度及び温度を所定の濃度，湿度及び温度に制御する制御部とを有し，
室圧調整装置は，室内に室外の空気を給気するユニットと，室内の空気を室
外に排気するユニットと，室内と室外との圧力差を検出する圧力差検出手段
15 と，これによる検出値に基づいて給気ユニット及び排気ユニットを制御する
手段と，前記検出値に基づいて前記室圧の制御状況を出力する手段とを有す
る構成を採用した。
この構成により，本発明」 被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，
「 は，
湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，室内温度の上昇により室内
20 の空気が膨張したような場合においても室圧を一定に保つことができるので，
十分に保証可能な殺菌効果を得られるという効果を奏する（以上，別紙３の
２(3)，(4)）。
(2) 「本発明」の第２の実施の形態（図２）は，ホルムアルデヒドガス供給排
出装置４及び室圧調整装置６を備えて構成されるホルムアルデヒドガス殺菌
25 装置であり，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４は，濃度センサ１２，湿
度センサ１４，温度センサ１６により得られた被殺菌空間１００内のホルム
アルデヒドガス濃度，湿度，温度の値に基づいて，ホルムアルデヒドガス発
生器３６，温度調節器３４，湿度調節器３２，ポンプ２６及び２８を制御す
る制御器２４を備え，また，室圧調整装置６は，室内と室外との圧力差を検
出する微差圧検出器５６により検出された検出値に基づいて給気ユニット５
5 ２及び排気ユニット５４を制御するコントロールユニット５８を備えている
（別紙３の２(5)，(7)）。
第２の実施の形態に係るホルムアルデヒドガス殺菌装置は，
「所定時間，室
内の温度，湿度，ホルムアルデヒドガスの濃度がそれぞれ温度２０～４０℃
の範囲，湿度５０～９０％（相対湿度）の範囲，ホルムアルデヒドガス濃度
10 １６０ｐｐｍ以上を維持している間」，室圧調整装置６のコントロールユニ
ット５８により室内の圧力を陽圧力に維持している（別紙３の２(9)）。
４ 本件出願日当時の技術常識等について
(1)ア 本件出願日前に頒布された甲２３，甲８２ないし８４には，それぞれ別
紙４のような記載がある。
15 イ 上記アの各文献における記載を総合すると，本件出願日当時，バイオハ
ザード施設やケミカルハザード施設等，人体に有害な物質が室内に存在す
る場合には，室内から室外へその物質が漏えいすることがないように，室
内を室外に対して陰圧に制御することや，人体に有害なオゾンガスを用い
て室内の滅菌を行う場合には，オゾンガスが室内から室外へ漏洩すること
20 がないように，室内を室外に対して陰圧に制御することは，周知の技術
であったものと認められる。
(2)ア 本件出願日前に頒布された甲８１，甲８５，甲８８，甲９４及び甲９５
には，それぞれ別紙５のような記載がある。
イ 上記アの各文献における記載を総合すると，本件出願日当時，ホルムア
25 ルデヒドガスは，人体に有毒であることは周知であり，また，滅菌・殺菌
のためにホルムアルデヒドガスを処理室内で使用するに当たり，処理室内
の圧力を処理室外の圧力に対して陰圧とした状態で使用する場合がある
ことは，本件出願日当時の技術常識であったと認められる。
５ 取消事由１－１（甲１を主引用例とする訂正発明２の進歩性の判断の誤り）
について
5 (1) 特許無効審判事件についての審決の取消訴訟において審決取消しの判決
が確定したときは，審判官は特許法１８１条２項の規定に従い当該審判事件
について更に審理を行い，審決をすることとなるが，審決取消訴訟は行政事
件訴訟法の適用を受けるから，再度の審理ないし審決には，同法３３条１項
の規定により，上記取消判決の拘束力が及び，この拘束力は，判決主文が導
10 き出されるのに必要な事実認定及び法律判断にわたるものであるから，取消
判決の上記認定判断に抵触する認定判断をすることは許されず（最高裁第三
小法廷判決平成４年４月２８日判決・民集４６巻４号２４５頁参照） その審
，
判を不服とする審決取消訴訟においても，これを前提に判断されるべきこと
になる。
15 前記第２の３(2)のとおり，一次判決は，①甲２における「本発明」の第２
の実施の形態の「微差圧検出器５６」，
「コントロールユニット５８」及び「排
気量調整電磁弁７４及び送風機８２」は，それぞれ，訂正前発明２における
「庫内差圧手段」 「上記庫内差圧検出手段による検出結果による検出結果か
，
ら得られる庫内差圧情報が･･･帰還され」る「上記排気量制御手段」及び「上
20 記排気量制御手段により制御される排気処理手段」に相当するものと認めら
れるから，甲２には，相違点２に係る本件訂正前の請求項２の発明の構成が
開示されているといえる，②甲１及び甲２に接した当業者は，甲１発明にお
いて安定した濃度の滅菌ガスを発生させるとともに，十分に保証可能な殺菌
効果を得るために甲２に記載の被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，
25 湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，被殺菌空間の室圧を一定に
保つための構成を適用する動機づけがあると認められる，③したがって，当
業者は，甲１及び甲２に基づいて，甲１発明に甲２に記載の上記構成を適用
して相違点２に係る本件訂正前の請求項２に係る発明の構成を容易に想到し
得たものと判断した。
そして，被告は，一次判決の確定後の審判手続において，前記第２の２の
5 とおり，一次訂正の内容に加えて更に請求項２に「上記暴露部の庫内差圧を
陰圧で一定にする」（二重下線は本件訂正箇所を示す。）との訂正を行い，本
件審決は，前記第２の４(2)イのとおり，一次審決の相違点１（ただし，本件
審決が認定した相違点２を除く。 及び２の構成を合わせて相違点１とし，
） 本
件訂正により訂正発明２に加わった構成である「暴露部の庫内差圧を陰圧で
10 一定にすることを特徴とする」点を同相違点に加えた。
以上の経緯を踏まえると，訂正発明２の進歩性の判断に関しては，甲２に
は，一次審決が認定した相違点２の構成が開示されていることを前提として，
さらに，
「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にする」という訂正発明２の構成が
容易想到といえるかについて判断されるべきことになる。
15 以下，これを前提として，検討する。
(2) 甲２の開示事項について
甲２の発明の詳細な説明には，①甲２発明のホルムアルデヒドガス殺菌装
置は，室内と室外との圧力差を検出する圧力差検出手段と，圧力差検出手段
により検出された検出値に基づいて給気ユニットと排気ユニットを制御する
20 制御手段を有しており，こうした室内調整装置を備えるため，室内温度の上
昇により室内の空気が膨張したような場合においても，室内を一定に保つこ
とができる（別紙３の２(4)）との記載があり，②「発明を実施するための最
良の形態」の１つである「第２の実施の形態」として，室内と室外との圧力
差を検出する微差圧検出器５６，微差圧検出器５６により検出された検出値
25 に基づいて給気ユニット５２及び排気ユニット５４を制御するコントロール
ユニット５８を備え，コントロールユニット５８は，微差圧検出器５６によ
り検出された検出値に基づいて，給気量調整電磁弁６２，送風機６６，排気
量調整電磁弁７４及び送風機８２等の制御を行う構成が開示され，さらに，
湿度センサ１４，温度センサ１６により得られた室内の温度及び湿度がそれ
ぞれ所定の温度２０～４０℃，湿度の範囲５０～９０％（相対湿度）の範囲
5 になるように制御器２４で湿度調整器３２及び温度調整器３４で調整し，ホ
ルムアルデヒドガス濃度が１６０ｐｐｍ以上で維持するようにホルムアルデ
ヒドガス発生器３６及びポンプ２６で調整して所定の時間を維持し，さらに，
所定の時間，室内の温度，湿度，ホルムアルデヒドガスの濃度を上記の数値
で維持している間，室圧調整装置により室内の圧力を陽圧力（１０～２０Ｐ
10 ａ）に維持する態様が開示され，その上で，室圧制御装置６により室内と室
外の圧力差を常時１０～２０Ｐａに維持することができるため，ホルムアル
デヒドガスを用いて室内の殺菌を行う場合に，室内温度の上昇により室内空
気の体積が増加した場合においても，ホルムアルデヒドガスがエアー処理装
置７６で処理された後に排出されるため，ホルムアルデヒドガスが未処理の
15 まま室外に漏れ出すことを防止することができる（別紙３の２(7)ないし(9)）
旨の記載がある。
このように，甲２において開示されている，被殺菌空間である室内を室圧
調整装置により陽圧に維持する構成は，あくまで第２の実施の形態について
のものであることに加え，甲２の特許請求の範囲（請求項３）には，室内の
20 圧力を調整する室内調整装置について，室内と室外の圧力差を検出する圧力
差検出手段と前記圧力差検出手段により検出された検出値に基づいて制御手
段を介して室圧を調整するとの発明特定事項を有するに止まり，被殺菌空間
を陽圧で制御するとは特定されていないことからすると，甲２発明の技術的
意義は，前記３(1)のとおり，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿
25 度，温度をそれぞれ所定の値に制御し，かつ，室内温度の上昇により室内の
空気が膨張した場合においても室圧を一定に保つことができ，十分に保証可
能な殺菌効果が得られるという効果を奏することにあって，室圧調整装置に
より室内の圧力を陽圧力（１０～２０Ｐａ）に維持する態様は，あくまで実
施形態の１つであるにすぎないというべきである。
そして，甲２における「本発明」の第２の実施の形態の「微差圧検出器５
5 ６」 「コントロールユニット５８」及び「排気量調整電磁弁７４及び送風機
，
８２」は，それぞれ，訂正前発明２における「庫内差圧手段」 「上記庫内差
，
圧検出手段による検出結果による検出結果から得られる庫内差圧情報が･･･
帰還され」る「上記排気量制御手段」及び「上記排気量制御手段により制御
される排気処理手段」に相当するとの一次判決の説示を踏まえると，甲２に
10 は，庫内差圧を検出する庫内差圧検出手段を備えており，庫内差圧検出手段
による検出結果から得られる上記庫内差圧情報が排気量制御手段に帰還され，
上記排気量制御手段により被殺菌空間から排気するホルムアルデヒドガスの
排気量を制御することにより，被殺菌空間（庫内）の圧力を一定に維持する
ことが開示されているものと認められる。
15 (3) 相違点１の容易想到性について
前記２(2)のとおり，甲１には，ラジカル化のための触媒反応温度を一定に
保ち，安定した濃度のＭＲガスを発生させる滅菌ガス発生装置を提供するこ
とを目的とすることについての開示があり，また，前記３(1)のとおり，甲２
には，甲２発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置の構成を採用することによ
20 り，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ所定
の値に制御し，かつ，室内温度の上昇により室内の空気が膨張したような場
合においても室圧を一定に保つことができるので，十分に保証可能な殺菌効
果が得られるという効果を奏することの開示がある。そうすると，甲１及び
甲２に接した当業者は，甲１発明において安定した濃度の殺菌ガスを発生さ
25 せるとともに，十分に保証可能な殺菌効果を得るために，甲２記載の被殺菌
空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ所定の値に制御
し，かつ，被殺菌空間の室圧を一定に保つための構成を適用する動機づけが
ある。
そうすると，本件出願日当時，バイオハザード施設やケミカルハザード施
設等，人体に有害な物質が室内に存在する場合には，室内から室外へその物
5 質が漏えいすることがないように，室内を室外に対して陰圧に制御すること
や，人体に有害なオゾンガスを用いて室内の滅菌を行う場合には，オゾンガ
スが室内から室外へ漏洩することがないように，室内を室外に対して陰圧に
制御することは，周知の技術であり（前記４(1)），また，滅菌・殺菌のため
にホルムアルデヒドガスを使用するに当たり，処理室内を処理室外の圧力に
10 対して陰圧とした状態で使用する場合もあることは技術常識である（同(2)）
から，甲１発明に甲２に開示された事項を適用するに当たり，被殺菌空間の
状況や目的を踏まえ，こうした周知技術ないし技術常識を参酌して，甲２の
被殺菌空間内の圧力を陰圧で維持することも当業者であれば容易に想到し得
たものということができる。そして，甲１発明と甲２に開示された事項に周
15 知技術ないし技術常識を参酌して適用した結果，被殺菌空間内を「庫内差圧
を陰圧で」維持する構成としたことによって，当業者が予測し得ない顕著な
効果を奏すると認めるに足りる証拠はない。
したがって，甲１及び甲２に記載された事項と周知技術ないし技術常識を
踏まえれば，相違点１のうち「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にする」とい
20 う訂正発明２の構成についても，進歩性を認めることはできない。
(4) 被告の主張について
ア 被告は，前記第３の１(2)アないしウのとおり，訂正発明２においては，
バイオガスの暴露部はチャンバーのような狭い空間を想定しており，暴露
部の温度，湿度，バイオガス濃度，庫内差圧については細かな制御が必要
25 であるところ，庫内ガス濃度情報及び庫内差圧情報という２つの情報を基
に，生成ガス及び排気量を調整し，庫内ガス濃度と庫内差圧の両者を一定
にするという制御を行い，このフィードバック制御により暴露部の暴露空
間内における温度，湿度，濃度，庫内差圧の定量的制御を行うことができ，
こうしたフィードバック制御によって暴露部の庫内差圧を陰圧で一定に
している構成を採用しているから，
「暴露部の庫内差圧を陰圧で一定」にす
5 ることの技術的意義は，こうしたフィードバック制御を行う構成と一体と
して判断されるべきであり，原告の挙げる文献には，オゾン等の滅菌性ガ
スにより室内を滅菌する際に対象室内を陰圧にすることや，滅菌・殺菌の
ためにＭＲガス等を処理室内で使用するに当たり処理室内の圧力を室外
の圧力に対して陰圧とした状態にすることが記載されているにすぎず，訂
10 正発明２のようにフィードバック制御を行う旨の記載も示唆もない旨主
張する。
しかし，甲２には，訂正発明２の構成のうち一次審決が認定した相違点
２の構成（すなわち，上記排気量制御手段により制御される排気処理手段
による滅菌タンク内のＭＲガスの排気処理に起因して生じる庫内差圧を
15 検出する庫内差圧検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段による検出結果
から得られる庫内差圧情報が上記排気制御処理手段に帰還され，上記排気
量制御手段により滅菌タンク内から排気するＭＲガスの排気量を制御す
ることにより，滅菌タンク内の庫内差圧を一定にするという構成）が開示
されていることは，一次判決が認定するとおりであり，この点の判断に拘
20 束力が生じることは前記(1)のとおりである。そして，甲２には，訂正発明
２の技術的意義として被告が主張するところのフィードバック制御が開
示されていることは，被告も認めるところ（前記第３の１(2)ウ(ア)参照），
前記(2)のとおり，甲２には被殺菌空間（庫内）の圧力を一定に維持する制
御が開示されており，周知技術（前記４(1)）ないし技術常識（同(2)）を
25 参酌してその圧力制御を陰圧で一定に維持する制御として甲１発明に適
用すれば，相違点１の「庫内差圧を陰圧で一定に制御する」構成に想到す
ることは前記(3)のとおりである。
したがって，被告の上記主張は理由がない。
イ 被告は，前記第３の１(2)エのとおり，甲２は，陽圧に制御することを目
的とするものであり，その技術的意義は，本件審決で認定されたとおり，
5 滅菌処理中の処理室内への室外空気の侵入を防止して処理室内の清浄度
を維持することにあり，甲２に記載された陽圧制御を陰圧制御とすると，
甲２の被殺菌空間内の清浄度を維持するという技術的意義を損なうから，
甲２における庫内差圧を陽圧制御から陰圧制御とすることには阻害要因
がある旨主張する。
10 しかし，甲２には，室圧調整装置により室内の圧力を陽圧力（１０～２
０Ｐａ）に維持する態様についての記載はあるものの，それはあくまで発
明の実施形態の１つとして記載されているにすぎず，甲２に係る装置の技
術的意義は，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそ
れぞれ所定の値に制御し，かつ，室内温度の上昇により室内の空気が膨張
15 した場合においても室圧を一定に保つことができ，十分に保証可能な殺菌
効果が得られるという効果を奏することにあることは前記(2)のとおりで
あるから，こうした技術的意義からすると，甲２の室圧調整装置において
庫内差圧を陰圧に制御することに阻害要因はない。
なお，本件審決は，
「甲第２３号証は，その出願日が甲２に係る特許出願
20 の優先日と一致する，同一発明者の別の特許出願に係る公開公報であり，
両者は，ホルマリンガス等を滅菌に利用する装置の処理室内の圧力を陽圧
に制御しているため，その基本的な着想が共通していると強く推認できる」
と判断するが，人体に有害なオゾンガスを利用して殺菌する場合にはオゾ
ンガスが室内から室外へ漏えいすることがないように，室内を室外に対し
25 て陰圧に制御することは周知技術である（前記４(1)イ）ところ，同じく人
体に有害なホルムアルデヒドガス（ホルマリンガス）を用いた殺菌装置に
関して，甲２自体には，室内調整装置を陽圧に制御する技術的意義につい
て記載も示唆もないにもかかわらず，甲２と同一発明者による甲２の優先
日と同日の出願であるという理由で，別の特許出願に係る甲２３に記載さ
れた陽圧制御の技術的意義をもって甲２の陽圧制御の技術的意義である
5 と認定することはできないから，甲２３の室圧制御装置が陽圧制御装置を
している場合における技術的意義をもって甲２の装置に係る技術的意義
であると認定した本件審決の判断は誤りというほかない。
したがって，本件審決が認定した甲２発明の技術的意義を論拠として，
甲２発明の陽圧制御を陰圧制御とすることに阻害要因がある とする被告
10 の上記主張は理由がない。
(5) 小括
以上によれば，相違点１に係る訂正発明２の構成は，当業者が容易に想到
することができたものと認められる。
したがって，本件審決の判断は誤りであるから，原告主張の取消事由１－
15 １は理由がある。
６ 取消事由１－２（甲１を主引用例とする訂正発明３及び４の進歩性の判断の
誤り）について
本件審決は，訂正発明３は訂正発明２を引用する発明であり，また，訂正発
明４は訂正発明３を引用する発明であるところ，訂正発明２について当業者が
20 容易に発明をすることができたということはできないので，訂正発明３及び４
についても当業者が容易に発明をすることができたということはできない旨判
断した。
しかしながら，前記５のとおり，本件審決のした訂正発明２の容易想到性の
判断に誤りがあるところ，訂正発明２につき容易想到性が認められる以上は，
25 同容易想到性が認められないことのみを理由として訂正発明３及び４の容易想
到性を否定した本件審決の上記判断は，誤りである。
したがって，原告主張の取消事由１－２は理由がある。
７ 結論
以上によれば，原告主張の取消事由１－１及び１－２は理由があるから，そ
の他の点について判断するまでもなく，本件審決は取り消されるべきである。
5 よって，主文のとおり判決する。
知的財産高等裁判所第４部
裁判長裁判官
10 菅 野 雅 之
裁判官
中 村 恭
裁判官
岡 山 忠 広
（別紙１）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
5 本発明は，メタノールに由来する活性種を含むバイオガスにより核酸分解処理を
行う核酸分解処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
生化学等に係る試験研究等を行うに当り，水に難溶性の高分子である核酸が，用
10 いている容器等の固体の表面に不必要に付着していたり反応液等の液体中に不必要
に混入していたり，また，細胞が，容器等の固体や反応等の液体の表面に不必要に
付着していたり，反応液等の液体中に不必要に混入していたりすれば，それが，試
験研究等に重大な悪影響を及ぼすおそれがある。
【０００３】
15 メタノールから触媒反応により発生するラジカル性（メタノールラジカル ＭＲ）
：
ガスを利用した滅菌システムは，これまで医療器具等の滅菌に用いるガスとして多
用されていたエチレンオキサイドガス（ＥＯＧ）やオゾン等以上の殺菌力を持ち，
残留性，腐食性がないことが確認されており，浸透性や拡散性も優れていることか
ら現在多くの分野において注目されている。
20 【０００４】
バイオガスとは，メタノールから触媒により生じた強力な殺菌効果をもつラジカ
ル性複合ガスのことであり，浸透性が高く，大気圧のままでも被滅菌物の内部まで
殺菌ができる。接触性殺菌のミストでないことから，金属の腐食やプラスチック等
の劣化（腐食性）が無く，非滅菌物の素材を選ばず，さらに，被滅菌物に残留しな
25 い（残留性）などの優れた特質があり，拡散性も広く隅々まで満遍なく暴露が可能
であり，細かな隙間まで浸透し，精密機器や電子機器等の通電稼動状態においても
暴露が可能であり，高い安全性を有する。
【０００９】
また，液相以外の状態（非ウェット状態）で，核酸を有効に分解する方法として，
ヒドロキシメチルラジカル，ヒドロペルオキシラジカル，水素ラジカル，ヒドロキ
5 シルラジカルを少なくとも含むラジカル種メタノール由来の気相物質（ＭＲガス）
を用いて，核酸が存続可能な温度条件下において，非可逆的に核酸を分解し，不活
化する方法が提案されている（例えば，特許文献３参照）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
10 【００１１】
しかしながら，特許文献３で提案されている非ウエット型の核酸分解剤を用いて
核酸を分解する従来の方法では，５０℃以上の温度領域において，６０分以上の暴
露時間を要し，且つ，ホルムアルデヒド成分の濃度が２０００ｐｐｍ以上での効果
効能が発揮されるものであった。
15 【００１２】
しかし，現実的な実用としては，常温～体温領域が求められており，且つ，短時
間での効果効能を発揮することが求められていた。
【００１３】
そこで，上述の如き従来の実情に鑑み，本発明の目的は，検体の種類によっての
20 短時間で高効能を発揮する条件を定義することが可能な核酸分解処理装置を提供す
ることにある。
【００１４】
この核酸分解処理装置は，空間に漂う核酸（ＤＮＡ・ＲＮＡ）もコンタミネーシ
ョンとして暴露対象とする。
25 【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は，核酸分解処理装置であって，メタノールタンクから供給されたメタノ
ールを霧状に噴射するノズルを備え，該ノズルを介して噴射されたメタノールを気
化してメタノールガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス
発生部の上方に位置して，熱反射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と
5 下部とからなり，該上部には空気を供給する空気供給部が連結されており，該メタ
ノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる
流路となるとともに，上記メタノールガスに該空気供給部から供給された空気を所
定の割合で混合させる筒体部と，上記筒体部の上方に位置し，該筒体部において上
記所定の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触
10 媒部とを有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反
応触媒より構成され，該ラジカル反応触媒を複数積層してなり，空気が混合したメ
タノールガスを触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに由来する活
性種を含み生成される複合ガス（以下「バイオガス」という）を発生するバイオガ
ス発生部と，上記バイオガス発生部における生成ガス量を供給空気量とメタノール
15 量で制御する生成ガス量制御手段と，上記バイオガス発生部により発生したバイオ
ガスが供給される暴露部と，上記暴露部の暴露空間内の温度を制御する温度制御手
段と，上記暴露部の暴露空間内の湿度を制御する湿度制御手段と，上記暴露部に供
給されたバイオガスを排気する排気処理部と，上記排気処理部により上記暴露部か
ら排気するバイオガスの排気量を制御するバイオガスの排気量制御手段と，上記暴
20 露部におけるバイオガスのホルムアルデヒド成分の濃度を測定するホルムアルデヒ
ド成分濃度測定手段と，臭いを検出又は測定する手段を備え，上記ホルムアルデヒ
ド成分濃度測定手段による測定結果として得られるガス濃度情報が上記生成ガス量
制御手段に帰還され，上記バイオガス発生部において，一定の触媒の自己反応温度
と濃度のバイオガスとなるように，上記生成ガス量制御手段により上記バイオガス
25 発生部における生成ガス量が供給空気量とメタノール量で制御されるとともに，上
記排気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御するこ
とにより，上記暴露部の庫内ガス濃度を一定にし，上記排気量制御手段により制御
される排気処理手段による上記暴露部の暴露空間内のバイオガスの排気処理に起因
して生じる庫内差圧を検出する庫内差圧検出手段を備え，上記庫内差圧検出手段に
よる検出結果から得られる庫内差圧情報が上記排気量制御手段に帰還され，上記排
5 気量制御手段により上記暴露部から排気するバイオガスの排気量を制御することに
より，上記暴露部の庫内差圧を陰圧で一定にするものとすることができる。
【００１９】
また，本発明に係る核酸分解処理装置において，上記バイオガス発生部は，メタ
ノール，ホルムアルデヒド，一酸化炭素，二酸化炭素，水素，酸素の成分を少なく
10 とも含有した活性酸素とフリーラジカルからなる複合ラジカルガスを発生するもの
とすることができる。
【００２０】
さらに，本発明に係る核酸分解処理装置において，上記バイオガス発生部は，例
えば，上記自己反応温度が４００℃～５００℃の範囲内に制御されるものとするこ
15 とができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係る核酸分解処理装置では，フィードバック制御により暴露部の暴露空
間内における温度，湿度，濃度の定量的制御を行うことができ，検体の種類によっ
20 ての短時間で高効能を発揮する条件を定義することができる。
【００２２】
この核酸分解処理装置は，核酸分解の効果効能を発揮する環境温度を３７℃の体
温域とし，１５分以内の短時間で，且つ，ホルムアルデヒド成分濃度１００ｐｐｍ
以内において，二重螺旋のＤＮＡ核酸を有効に分解（１０ｂｐ以下のバラバラ状態）
25 する能力を有し，気相の核酸分解法として核酸分解９９．９９％～１００％を達成
することができる。
【００２３】
また，この核酸分解処理装置では，非ウエットで９９．９９％，ウエット（１０
０μｌ）で９５％の効能を発揮する。
【００２４】
5 この発明を基にした応用技術により高度先端的医療（細胞治療，遺伝子治療，再
生医療）分野や海洋研究分野，航空宇宙分野の他，危機管理分野（防衛，消防，警
察等），医療，介護等におけるＤＮＡ・ＲＮＡフリー（バイオ系核酸レベルのコンタ
ミネーションの除去・除染）を必要とする分野や効果効能レベルのコントロールに
よって滅菌，殺菌，除菌の分野への適用が可能である。
10 【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下，本発明の実施の形態について，図面を参照して詳細に説明する。なお，本
発明は以下の例に限定されるものではなく，本発明の要旨を逸脱しない範囲で，任
意に変更可能であることは言うまでもない。
15 【００２７】
本発明は，例えば図１に示すような構成の核酸分解処理装置１００に適用される。
【００２８】
この核酸分解処理装置１００は，メタノールに由来する活性種を含むバイオガス
により核酸分解処理を行うものであって，バイオガス発生部１１０，暴露部１２０，
20 排気処理部１４０及び，これら各部の動作を制御する制御部１５０を備える。
【００２９】
この核酸分解処理装置１００において，バイオガス発生部１１０は，空気が混合
したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化して少なくともメタノールに由来
する活性種を含むバイオガスを発生するものである。
25 【００３０】
このバイオガス発生部１１０は，例えば，図２に示すように，原料となるメタノ
ールを供給する着脱式のメタノール供給タンク１にソレノイドバルブからなる直動
式オンオフ弁２を介して接続されたメタノールサブタンク３からメタノールがメタ
ノールポンプ７により吸い上げられてメタノール制御弁１７を介して供給される気
化器１０が内筒体１２Ａの下部に設けられ，上部に触媒カートリッジ１８が装着さ
5 れたメタノールガス発生部１１を外筒体１２Ｂ内に設けてなる。
【００４２】
上記バイオガス発生部１１０におけるバイオガスの生成ガス量は，上記メタノー
ルガス発生部１１に供給する空気量（エアポンプ９）とメタノール量（燃料ポンプ
７）で制御することができる。
10 【００４４】
すなわち，上記バイオガス発生部１１０は，図３に示すように，上記メタノール
サブタンク３から供給されたメタノールを霧状に噴射するノズル２３を備え，該ノ
ズル２３を介して噴射されたメタノールを気化してメタノールガスを発生させるメ
タノールガス発生部１１の気化器１０と，上記気化器１０の上方に位置して，熱反
15 射可能な多孔質金属材料で互いに隔てられた上部と下部とからなり，該上部には空
気を供給する上記エアポンプ９が連結されており，該メタノールガス発生部１１か
ら発生したメタノールガスを自然対流により上方に移行させる流路となるとともに，
上記メタノールガスに該エアポンプ９から供給された空気を所定の割合で混合させ
る上記内筒体１２Ａと，上記内筒体１２Ａの上方に位置し，該内筒体１２Ａにおい
20 て上記所定の割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化す
る触媒部を有し，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル
反応触媒より構成され，該ラジカル反応触媒を複数積層した触媒カートリッジ１８
からなる。
【００４９】
25 より具体的に説明すると，気化器ヒータ２０への通電が開始され，上記メタノー
ルサブタンク３から図４のメタノール供給用連通管２４を通って供給されたメタノ
ールを導通する熱媒体２１がその気化器ヒータ２０からの熱によって１００～２０
０℃に加熱され始める。そして，上記メタノールサブタンク３から供給されたメタ
ノールが熱媒体２１を通過すると，メタノールは熱媒体２１に生じている熱によっ
て温められて気化し，メタノールガスが発生する。このようにしてメタノールガス
5 が発生すると，メタノールガスは気化ノズル２２及び図３の気化カバー１４を通っ
て分散し，内筒体１２Ａ中を自然対流を利用して，触媒カートリッジ１８へと移行
する。
【００５９】
ここで，従来のＭＲガス滅菌処理と比較して，滅菌環境を所定の湿度に保つ必要
10 は無く，従来温度５０℃以上，湿度７５％で６０分暴露を要した核酸分解効能が，
温度３７℃以上，湿度３０％～４５％以上，１５分発生暴露にて核酸の分解効能を
得ることができる。したがって，滅菌環境（核酸分解）における湿度制御は厳格で
なくても良く，温度制御を中心としたバイオガス発生環境において，湿度制御は結
露状態の発生のない制御で運用すれば良い。
15 【００６３】
なお，バイオガス発生部１１における温度を制御し，安定的にバイオガスを生成
して供給するために，図２の異常温度センサ１４Ａが上記内筒体１２Ａの下部に設
けられているとともに，触媒温度センサ１５が上記内筒体１２Ａの下部に設けられ
ている。上記異常温度センサ１４Ａ及び触媒温度センサ１５により得られる各温度
20 情報を上記制御部１５０に供給することにより，温度を管理 制御することにより，
・
メタノールの着火等を防止して，安全性を向上させることができる。
【００７７】
例えば，暴露部１２０の容積が１立方メートル以内の場合の割合は，メタノール
量３ｃｃ／分の場合の空気供給量は４．５Ｌ／分，容積が０．５立方メートル以下
25 の容積の場合は５．０Ｌ／分，或いはメタノールの量を少なくして空気量を下げる
など，濃度測定により目的に応じた最適化が実現できる構造を有している。
【００８０】
このバイオガス発生部１１０では，空気の供給量を変化させることによりラジカ
ル化触媒反応の温度を制御できる。メタノールガスのラジカル化触媒反応に必要な
反応温度は約４００～５００℃であり，このバイオガス発生部１１０では，約３．
5 ０ｃｃのメタノール供給量に対して，筒体上部１２ａから供給される空気の供給量
を約３．５～６．０Ｌ／ｍｉｎの範囲で変化させる。これにより，ラジカル化触媒
反応の温度を約４００～５００℃の範囲で変化させることが可能となる。したがっ
て，上記エアポンプ９からの空気の供給量を変化させることにより，容易にラジカ
ル化触媒反応の温度を制御することができる。
10 【００８１】
このように，このバイオガス発生部１１０によれば，ラジカル化触媒反応温度を
維持させるための随時の加熱を必要とせず，安定した自己反応によりラジカル化反
応を起こすことができることから，空気の供給量を変化させるだけで，容易にラジ
カル化反応温度を制御することができる。また，発生するバイオガスの濃度はラジ
15 カル化触媒反応温度に依存することから，上述のように空気の供給量を変化させて
反応温度を制御することで，バイオガスの濃度を容易に制御することができる。こ
れにより，暴露対象によって容易にバイオガスの濃度を変化させることができ，種々
の暴露対象に対して滅菌処理を施すことが可能となる。
【００９７】
20 また，この核酸分解処理装置１００において，上記暴露部１２０は，例えば，図
８に示すように，庫内ヒータ１３０Ａと庫内冷却器１３０Ｂとにより温度と湿度の
制御が可能な恒温恒湿槽からなる。
【０１０１】
また，この暴露部１２０には，外気導入バルブ１２５からヘパフィルタ１２４を
25 介して外気（空気）が導入され，また，外部ガス導入バルブ１３１を介して窒素Ｎ
２や炭酸ガスＣＯ２等の外部ガスが導入できる。上記ヘパフィルタ１２４を介して
上記暴露部１２０に導入される外気（空気）は，空気加熱ヒータ２４Ａにより加熱
できるようになっている。
【０１０３】
また，この暴露部１２０には，ガス濃度センサ１２９，庫内圧力センサ１３２，
5 湿度センサ１３３，温度センサ１３４，暴露センサ（核酸センサ）１３５，臭いセ
ンサ１３６Ａ，１３６Ｂ，などの各種センサが設けられている。上記ガス濃度セン
サ１２９，庫内圧力センサ１３２，湿度センサ１３３，温度センサ１３４，暴露セ
ンサ１３５，臭いセンサ１３６Ａ，１３６Ｂにより得られる暴露空間内のガス濃度
情報，圧力情報，湿度情報，温度情報，暴露（核酸への効果効能など）情報，臭い
10 情報（内外）が上記制御部１５０に供給されるようになっている。当然に暴露部１
２０の外の温度（室温）情報も制御部１５０に供給する。
【０１０４】
さらに，上記暴露部１２０に供給されたバイオガスは，排出側開閉バルブ１２８
を開くことにより排気することができるようになっている。
15 【０１０７】
また，この核酸分解処理装置１００において，上記排気処理部１４０は，上記暴
露部１２０に供給されたバイオガスを排気するものであって，例えば，図９に示す
ように，ガス導入管アタッチメント１４１を介して上記暴露部１２０の排出側開閉
バルブ１２８に接続される排気ブロア１４３，上記排気ブロア１４３により上記暴
20 露部１２０から排気ガスがガス整流槽１４４を介して送られてくる排気ガスを分解
する排気分解触媒部１４５を備え，上記排気分解触媒部１４５において排気ガスを
触媒反応により無害化して排気管１４９から排気する。
【０１０８】
この排気処理部１４０は，上記外気導入バルブ１４２を介して外気（空気）を導
25 入できるようになっている。
【０１１１】
そして，この核酸分解処理装置１００において，上記制御部１５０は，図１０に
示す制御系により，上記バイオガス発生部１１０，暴露部１２０，排気処理部１４
０を次のように制御する。
【０１４０】
5 暴露部１２０の庫内の圧力を監視しながら，庫内が陰圧（－０～－０．０１ＭＰ
ａ）になるように排気処理部１４０により排気吸引する。
【０１４１】
その後，庫内圧力センサ１３２にて陰圧を確認の後に，上記制御部１５０は，上
記バイオガス発生部１１０，暴露部１２０の庫内温度，排気処理部１４０の各温度
10 が規定値に達し起動準備が整った時に，上記バイオガス発生部１１０に対してメタ
ノール供給ポンプ７の起動を指示する。
【０１４２】
暴露部１２０の庫内は，ガス導入，撹拌，排気状態を維持する。
【０１４３】
15 そして，暴露部１２０の庫内の濃度が一定になるように，ガス濃度センサ１２９
により得られるガス濃度情報に基づいてバイオガス発生部１１０の制御を以下のよ
うに行う。
【０１４４】
上記バイオガス発生部１１０におけるバイオガスすなわち核酸分解ガスの発生量
20 は，上記バイオガス発生部１１０のエア量とメタノール量の混合割合で決まる。エ
ア供給量は，暴露部１２０の庫内の容積と発生時間の兼ね合いで定める。また，暴
露部１２０の庫内が陰圧になる吸気と排気のバランス範囲で定める。また，メタノ
ール量は，触媒の自己反応温度の適正範囲内で定める。
【０１４５】
25 また，暴露部１２０の陰圧制御において，供給エア量と排気ブロアの吸引量のバ
ランスは－０～－０．０１ＭＰａの範囲とする。試料のパラメータ（濃度，時間，
温度，湿度）により最適な陰圧バランスに調整する。
【０１４６】
暴露部１２０の庫内のガス濃度制御では，暴露対象のパラメータ情報にて濃度が
一定になるように陰圧バランスを調整する。
5 【０１４７】
排気処理部１４０の排気ブロア１４３の吸入量を減らすと濃度は上昇し，吸入量
を増やすと濃度は低下する。上記排気ブロア１４３の吸引量は，暴露部の１２０の
庫内の陰圧範囲で制限する。陰圧バランス範囲内で調整できない場合は，メタノー
ル供給量を制御する。バイオガス発生部１１０におけるメタノール供給量を増やす
10 と濃度が上昇し，減らすと低下する。この範囲は，触媒の自己反応温度域で制限す
る
【０１４８】
例えば，上記暴露部１２０の庫内のガス濃度制御では，ガス濃度センサ１２９に
より得られるガス濃度情報をプロセス値ＰＶとし，庫内濃度の閾値ＳＰと上記プロ
15 セス値ＰＶを用いて，図１２に示すような制御系により，暴露部１２０の庫内の濃
度を一定にする制御を行う。
【０１５０】
そして，上記メタノールポンプ７によるメタノールの供給量ＧＰ１とエアポンプ
９による空気の供給量に決まるガス濃度が暴露部１２０における外乱要素とともに
20 ガス濃度センサ１２９により検出され，このガス濃度センサ１２９により得られる
ガス濃度情報ＧＦが上記プロセス値ＰＶとして帰還されることにより，暴露部１２
０の庫内の濃度を一定にする制御が行われる。
【０１５３】
例えば，暴露部１２０の庫内の湿度制御では，湿度センサ１３４により得られる
25 庫内湿度情報をプロセス値ＰＶとし，庫内湿度の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶを
用いて，図１３に示すような制御系により，暴露部１２０の庫内湿度を一定にする
制御を行う。
【０１５５】
そして，上記冷却ゾーン１２１又は庫内冷却器１３０Ｂによる除湿機能により制
御される暴露部１２０の庫内湿度が外乱要素とともに温度センサ１３４により検出
5 され，この温度センサ１３４により得られる庫内湿度情報ＧＦが上記プロセス値Ｐ
Ｖとし帰還されることにより，暴露部１２０の庫内湿度を一定にする制御が行われ
る。
【０１５７】
また，暴露部１２０の庫内温度制御では，温度センサ１３４により得られる庫内
10 温度情報をプロセス値ＰＶとし，庫内温度の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶを用い
て，図１４に示すような制御系により，暴露部１２０の庫内の温度を一定にする制
御を行う。
【０１５９】
そして，上記庫内ヒータ１３０Ａと庫内冷却器１３０Ｂの制御に応じた庫内温度
15 が暴露部１２０における外乱要素とともに温度センサ１３４により検出され，この
温度センサ３１４により得られる庫内温度ＧＦが上記プロセス値ＰＶとし帰還され
ることにより，暴露部１２０の庫内温度を一定にする制御が行われる。
【０１６１】
また，暴露部１２０の庫内気圧制御では，庫内気圧又は差圧及び排気反応温度の
20 目標値への追従運転を行う。この庫内気圧制御では，比例（Ｐ）制御と積分（Ｉ）
の組み合わせによるＰＩ制御により排気量を制御する。陰圧範囲内を目標値とした
庫内気圧制御を行う。目標値は排気反応温度により自動的に定める。
【０１６２】
例えば，暴露部１２０の庫内差圧制御では，差圧センサ１３４により得られる庫
25 内差圧情報をプロセス値ＰＶとし，庫内差圧の閾値ＳＰと上記プロセス値ＰＶを用
いて，図１５に示すような制御系により，暴露部１２０の庫内差圧を一定にする制
御を行う。
【０１６３】
すなわち，庫内差圧の閾値ＳＰに応じた第１の制御量Ｃ１１と上記庫内差圧の閾
値ＳＰと上記プロセス値ＰＶとの差分を第２の制御量Ｃ１２として加算した第３の
5 制御量Ｃ１３で排気処理部１４０の外気導入バルブ１４２の開閉度を制御するとと
もに，上記庫内差圧の閾値ＳＰに応じた第４の制御量Ｃ２１と上記庫内差圧の閾値
ＳＰと上記プロセス値ＰＶとの差分を第５の制御量Ｃ２２として加算した第６の制
御量Ｃ２３で上記排気処理部１４０の排気ブロア１４３の回転数を制御する。
【０１６４】
10 そして，上記排気処理部１４０の外気導入バルブ１４２の開閉度と排気ブロア１
４３の回転数の制御に応じた庫内差圧が暴露部１２０における外乱要素とともに庫
内差圧センサ１３２により検出され，この庫内差圧センサ１３２により得られる庫
内差圧ＧＦが上記プロセス値ＰＶとし帰還されることにより，暴露部１２０の庫内
差圧を一定にする制御が行われる。
15 【０１８２】
また，上記制御部１５０は，上記バイオガス発生部１１０によるバイオガス発生
時に，排気処理部１４０を次のように制御する。
【０１８３】
すなわち，上記制御部１５０は，バイオガス発生時には，上記暴露部１２０の庫
20 内圧力センサ１３２により得られる庫内圧力情報により示される庫内圧圧力より陰
圧になるよう排気ブロア１４３の回転を制御する。また，排気触媒温度センサ１４
７により得られる排気触媒温度情報に基づいて，排気触媒ヒータ温度が規定値（３
００℃）に達しているように排気触媒ヒータ１４６を制御する。
【０１９６】
25 このような構成の核酸分解処理装置１００では，フィードバック制御により暴露
部１１０の暴露空間内における温度，湿度，濃度の定量的制御を行うことができ，
暴露対象の種類によっての短時間で高効能を発揮する条件を定義することができる。
【０１９８】
この核酸分解処理装置１００において，上記バイオガス発生部１１０は，メタノ
ール，ホルムアルデヒド，一酸化炭素，二酸化炭素，水素，酸素の反応成分を少な
5 くとも含有し，ラジカル種としてはフリーラジカル成分（スーパーオキシドアニオ
ンＯ２・－，ヒドロキシルラジカル・ＯＨ，水素ラジカルＨ・，スーパーオキシド（Ｏ
－
２ ）を少なくとも含む）複合ラジカルガスを発生する。
【０２０１】
この核酸分解処理装置１００の暴露部１１０において暴露される暴露対象は，細
10 長い管を有するもの（内視鏡等）や複雑な形状をした物体或いは精密機器などであ
ってもよい。
【０２１１】
また，この核酸分解処理装置１００では，運転途中でガスのサンプリングや検体
の途中サンプリング(任意取り出し）が可能である。また，運転環境の確認や状態確
15 認が自動検出のほか手動でも可能であることから，自動運転途中で人が任意に判断
し対処できるシステムである。すなわち，排気処理後のサンプリングにて庫内環境
を確認することにより，暴露部１２０庫内への出入り条件を判定することができる。
【実施例】
【０２１６】
20 以下，本発明に係る核酸分解処理装置１００を用いた具体的な実施例を示す。な
お，下記の実施例及び実験例によって詳しく説明される内容は単なる実施であって，
本発明を限定するものではなく，また本発明の範囲を逸脱しない範囲で変化させて
もよい。
【０２１７】
25 ＜１．サンプル調整＞
Human HeLa cell (human cervical cancer)から２本鎖ＤＮＡ(double strand DNA:
dsDNA)，ＲＮＡ，および１本鎖ＤＮＡ(single strand DNA: ssDNA)の調整を行っ
た。
【０２２１】
＜２．バイオガス暴露試験＞
5 上記１．で調整されたサンプルを用いて，本発明に係る核酸分解処理装置１００
により，図１７に示しように，暴露時間，暴露温度，サンプル容量各々のパラメー
ターを変えた条件下で暴露を行い，バイオガスの核酸分解能の評価を行った。各サ
ンプルは０．２ml PCR チューブに調整しバイオガス暴露試験を実施した。
【０２２６】
10 ＜３．結果＞
＜３－１．dsDNA の結果＞
表１～表３に，それぞれサンプル量２μｌ，２０μｌ，１００μｌの Bioanalyzer
による結果を示す。なお，各表中の「Ｃ」は核酸が完全に分解した（complete）こ
とを示し，「＋＋＋」は高度な部分分解が生じたことを示し，「＋＋」は中程度の部
15 分分解が生じたことを示し，
「＋」は軽度な部分分解が生じたことを示す。また，図
１８に，dsDNA の Bioanalyzer による核酸分解能評価基準を示し，図１９～図２
１に，Bioanalyzer による核酸分解能の試験結果を表すスペクトル図を示す。
【０２３４】
以上のことから，核酸分解処理装置１００を用いたバイオガスによる核酸分解処
20 理によって，常温程度の温度条件で，しかも短時間で高度に核酸を分解できること
が分かった。また，このバイオガスによる dsDNA 分解能効果は，温度依存性（高
温で効果増強）かつ容量依存性（湿性条件）であることが示唆された。
【０２３８】
一方で，核酸分解処理装置１００を用いたバイオガスによる核酸分解処理を行っ
25 た場合，２μｌのＲＮＡサンプルへのバイオガス暴露により，３７℃,４５℃,５０℃
いずれの温度条件においても１５min 暴露から GAPDH の核酸増幅は見られず，Ｒ
ＮＡの完全分解効果を示し，１２０min でも同様であった。
【０２４１】
一方で，核酸分解処理装置１００を用いたバイオガスによる核酸分解処理を行っ
た場合，２μｌの ssDNA サンプルへのバイオガス暴露により，３７℃,４５℃,５
5 ０℃いずれの温度条件においても６０min 暴露から GAPDH の核酸増幅は見られ
ず，ssDNA の完全分解効果を示し，1２０min でも同様であった。
【図１】
【図２】
【図３】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１８】
【図１９Ａ】
【図１９Ｂ】
【図１９Ｃ】
（別紙２）
【技術分野】
【０００１】
本発明は，メタノールから触媒反応により発生するラジカル性のメタノールラジ
5 カルガス（以下，「ＭＲガス」という。）により対象物を滅菌する滅菌処理装置に適
用される，滅菌ガス発生装置及びその滅菌ガス発生装置に交換可能に設けられる触
媒カートリッジ，並びに滅菌処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
10 メタノールから触媒反応により発生するラジカル性（メタノールラジカル ＭＲ）
：
ガスを利用した滅菌システムは，これまで医療器具等の滅菌に用いるガスとして多
用されていたエチレンオキサイドガス（ＥＯＧ）やオゾン等以上の殺菌力を持ち，
残留性，腐食性がないことが確認されており，現在多くの分野において注目されて
いる。
15 【０００３】
ＭＲガスとは，メタノールから触媒により生じた強力な殺菌効果をもつラジカル
ガスのことであり，浸透性が高く，大気圧のままでも被滅菌物の内部まで殺菌がで
きる。金属の腐食やプラスチックの劣化が無く，非滅菌物の素材を選ばず，さらに，
被滅菌物に残留しないなどの優れた特質があり，高い安全性を有する。
20 【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら，従来のＭＲガス発生装置においては，直径方向の大きさとして，
例えば１５０～１８０ｍｍ程度もの大きさを有する触媒部を備えていたため，この
触媒部においては，メタノールガスのラジカル化反応に必要な温度を一定に維持さ
25 せることは難しく，電熱ヒータを触媒内部に備えるようにし，ラジカル化反応に必
要な温度を維持するために随時加熱しながら温度を制御することが必要となってい
た。
【０００７】
このような従来のＭＲガス発生装置では，触媒反応時における温度の変動が激し
く，その結果，一定の濃度を有するＭＲガスを発生させることができなかった。さ
5 らに，１５０～１８０ｍｍ程度もの大きさを有する触媒部を備えるとともに，さら
に上述したように加熱用の電熱ヒータを備える必要があったため，触媒部は必然的
に大きくなってしまい，利便性を高めるためのＭＲガス発生装置自体の小型化を困
難にしていた。
【０００８】
10 本発明は，このような従来の問題点に鑑みて提案されたものであり，ラジカル化
のための触媒反応温度を一定に保ち，安定した濃度の滅菌ガスを発生させるととも
に，小型化が可能な滅菌ガス発生装置，その滅菌ガス発生装置に用いられる触媒カ
ートリッジ，並びに滅菌処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
15 【０００９】
本件発明者らは，上述した課題を解決するために，様々な観点から鋭意研究を重
ねてきた結果，ハニカム構造を有する触媒を使用することにより，ラジカル化のた
めの触媒反応温度を一定に維持することが可能になることを見出し，本発明を完成
するに至った。
20 【００１０】
すなわち，本発明に係る滅菌ガス発生装置は，メタノールを気化してメタノール
ガスを発生させるメタノールガス発生部と，上記メタノールガス発生部の上方に位
置し，該メタノールガス発生部から発生したメタノールガスを自然対流により上方
に移行させる流路となるとともに，上記メタノールガスに所定の割合で空気を混合
25 させる筒体部と，上記筒体部の上部の上方に位置し，該筒体部において上記所定の
割合で空気が混合したメタノールガスを触媒反応によりラジカル化する触媒部とを
備え，上記触媒部は，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒よ
り構成される。
【発明の効果】
【００１３】
5 本発明によれば，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒を使
用しているので，触媒部における表面積が増加して反応効率が向上し，触媒反応温
度を一定に維持した自己反応を生じさせることができ，安定した濃度のＭＲガスを
発生させることができる。また，触媒部における反応効率の向上により，触媒部を
小型化することができるとともに，滅菌処理装置自体を小型化することを可能にし，
10 利便性を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１は，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置を概略的に示した模式図である。
この図１に示すように，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０は，メタノール
15 タンク（図示せず）からメタノールが供給され，そのメタノールを気化することに
よってメタノールガスを発生させるメタノールガス発生装置１１と，そのメタノー
ルガス発生装置１１の上方に位置してメタノールガス発生装置１１から発生したメ
タノールガスを空気と混合させるとともに，発生したメタノールガスを自然対流を
利用して上方に案内する流路を形成するために設けられた筒体１２と，メタノール
20 ガスの流路上方に取り外し可能な状態で筒体１２に連続して設けられ，メタノール
ガスを触媒反応によりラジカル化してＭＲガスを発生させる触媒カートリッジ１３
とから構成されている。以下，各構成について具体的に説明していく。
【００１６】
先ず，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０を構成するメタノールガス発生
25 装置１１について説明する。メタノールガス発生装置１１は，メタノールを気化す
ることによって，ラジカル化反応の反応物質であるメタノールガスを発生させ，筒
体１２へと供給する。
【００１７】
図２は，メタノールガス発生装置１１を概略的に示す模式図である。この図２に
示すように，メタノールガス発生装置１１は，原料となるメタノールを収容するメ
5 タノールタンク（図示せず）が連結されており，少なくとも，メタノールを加熱気
化させる電熱ヒータ２０と，メタノールタンクから供給されたメタノールを気化す
るに際して温度を制御する焼結金属等の温度安定化金属からなる熱媒体２１と，気
化したメタノールをＭＲガス発生装置１０の上方部に導通させる気化ノズル２２と，
さらにメタノールタンクから供給されるメタノールを霧状に噴射して熱媒体２１の
10 方へ移行させるノズル２３とから構成されている。
【００１８】
このメタノールガス発生装置１１では，メタノールタンクから供給されたメタノ
ールが，熱媒体２１による温度制御の下，電熱ヒータ２０によって加熱されて気化
され，気化して生成したメタノールガスが気化ノズル２２から発生する。発生した
15 メタノールガスは，気化カバー１４を通り，自然対流を利用してＭＲガス発生装置
１０の上方，すなわち触媒カートリッジ１３へ分散して移行する。
【００２３】
また，このメタノールガス発生装置１１は，メタノールタンクからメタノール供
給用連通管２４を通って供給されるメタノールを，ポンプ等を利用して霧状にして
20 熱媒体２１の方へ噴射させるノズル２３を備えている。メタノールタンクから供給
されたメタノールをノズル２３より霧状にして噴射し，霧状のメタノールを上述し
た電熱ヒータ２０によって熱媒体２１を介して加熱させることで，温度を一定に保
ち，安定した状態でメタノールを気化させることができる。
【００２４】
25 このように，温度一定の安定した状態でメタノールガスを発生させることにより，
メタノールガス発生装置１１における温度のふらつきを抑制して，上述したように，
以下で詳述する触媒カートリッジ１３における触媒反応の温度変動をより効果的に
抑制し，安定したＭＲガスの発生を可能にしている。
【００２６】
ここで，滅菌処理においては，滅菌環境を所定の湿度に保った状態とすることが
5 必要なことが知られており，例えばウイルス等のＤＮＡを破壊してＤＮＡフリーの
環境とする場合には，約７５％程度の湿度を維持した滅菌環境で滅菌処理を行わな
ければならない。しかしながら，ＭＲガス滅菌処理を行うにあたって，そのように
ＭＲガスの暴露環境を所定の湿度条件（例えば約７５％程度）に整えようとすると，
ある程度の環境調整時間が必要となるとともに，所定の湿度環境を一定に管理する
10 ことも必要となり，また一定の湿度環境を維持することは極めて難しい。
【００２７】
そこで，上述したように，メタノールガスを発生させる段階において，メタノー
ルタンクから供給されたメタノールに所定の水を混合させて，所定の割合で水を含
有したメタノールを生成し，このメタノールからメタノールガスを発生させてＭＲ
15 ガスを生成させる。これにより，滅菌環境の湿度を事前に調整しなくとも，効果的
な滅菌処理を行うことが可能となる。このとき，上述した他の実施形態におけるメ
タノールガス発生装置１１によれば，メタノールと水とを混合し，所定の割合で水
を含有させたメタノールを霧状にして供給することができる混合ノズル２３’を備
えているので，所定の湿度を保持した最適なメタノールガスを効率的に生成させて
20 触媒カートリッジ１３に供給することができる。そして，このメタノールガスから
触媒反応によって発生したＭＲガスを使用することで，効果的な滅菌処理を行うこ
とができ，所定の湿度環境を一定に管理維持させる必要もなくなる。
【００２８】
このように，メタノールガス発生装置１１は，ノズル２３を備えているので，メ
25 タノールを霧状に噴射して，温度のふらつきのない一定範囲の温度条件でメタノー
ルを気化することができるとともに，触媒カートリッジ１３において安定したラジ
カル化触媒反応を生じさせることができる。また，このノズル２３は，例えばメタ
ノールと水とを混合させて，所定の割合で水を含有させたメタノールを霧状に供給
することができる混合ノズル２３’として構成することもできるので，所定の湿度を
保ったメタノールガスを効率的に生成させるとともに，効果的な滅菌処理が可能な
5 ＭＲガスを発生させることができる。
【００３１】
次に，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０を構成する筒体１２について説
明する。筒体１２は，メタノールガス発生装置１１から供給されたメタノールガス
のラジカル化触媒反応の場となる触媒カートリッジ１３に案内する流路になるとと
10 もに，メタノールガスに所定の割合の空気を混合させる。
【００３７】
ここで，この筒体上部１２ａにおける空気の供給について詳細に説明する。本実
施の形態に係るＭＲガス発生装置１０では，筒体上部１２ａにおける空気の供給量
を変化させることにより，後述する触媒カートリッジ１３での自己反応によるラジ
15 カル化触媒反応の温度を制御することができる。
【００３８】
このＭＲガス発生装置１０における触媒カートリッジ１３は，詳細は後述するが，
金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触媒３０から構成され，メタ
ノールガスとの接触表面積を増やして反応効率を向上させるようにしている。これ
20 により，触媒カートリッジ１３では，作動開始直後十数分間の２３０～２５０℃程
度の加熱のみで，その後は安定した自己反応（メタノールガスの触媒燃焼反応）に
よってラジカル化反応に必要な４５０～５００℃まで温度を高め，その反応温度を
維持させることができ，従来の装置とは異なり随時反応温度を維持させるために加
熱し続けることを要しない。このように，このＭＲガス発生装置１０によれば，反
25 応温度維持のための継続的な加熱を必要とせず，安定した自己反応により必要な温
度に高めるとともに一定に維持できることから，そのラジカル化反応に必要な温度
を，筒体上部１２ａにおける空気の供給量を変化させることによって容易に制御す
ることができる。
【００３９】
また，金属パイプと珪藻土等を無秩序に混合させて形成した触媒を備えた従来の
5 ＭＲガス発生装置とは異なり，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０では，金
属薄板をハニカム構造体に成形した触媒カートリッジ１３にメタノールガスを通過
させてラジカル化触媒反応を起こすようにしているので，メタノールガスの触媒反
応にばらつきを生じさせず，供給する空気量を変化させることで，容易に触媒反応
温度を制御することができる。
10 【００４０】
具体的には，ラジカル化触媒反応に必要な４５０℃程度の温度を自己反応により
発生させる場合には，上述したように，メタノールの供給量に対して略正比例する
ように空気を供給する。具体的には，メタノール供給量を３ｃｃとした場合には，
空気の供給量を約３．５Ｌ／ｍｉｎとする割合で供給する。
15 【００４１】
一方，ラジカル化触媒反応に必要な４５０℃より高めの，約５００℃近い温度を
自己反応により発生させる場合には，空気の供給量をメタノールの供給量に対して
正比例する量よりも多く供給する。これにより，自己反応による燃焼温度が高まり，
ラジカル化反応において５００℃近い温度とすることができる。具体的には，上述
20 の４５０℃程度の温度を発生させる場合の空気の供給量の割合（メタノール供給量
を３ｃｃとしたときに，空気の供給量を約３．５Ｌ／ｍｉｎとする割合）よりも多
い量の空気を供給する。
【００４２】
図５は，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０において，空気の供給量を変
25 化させることによりラジカル化触媒反応の温度を制御できることを説明するための
グラフである。メタノールガスのラジカル化触媒反応に必要な反応温度は約４５０
～５００℃であり，この図５のグラフに示すように，このＭＲガス発生装置１０で
は，約３．０ｃｃのメタノール供給量に対して，筒体上部１２ａから供給される空
気の供給量を約３．５～６．０Ｌ／ｍｉｎの範囲で変化させる。これにより，ラジ
カル化触媒反応の温度を約４５０～５００℃の範囲で変化させることが可能となる。
5 したがって，空気供給部からの空気の供給量を変化させることにより，容易にラジ
カル化触媒反応の温度を制御することができる。
【００４３】
このように，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０によれば，ラジカル化触
媒反応温度を維持させるための随時の加熱を必要とせず，安定した自己反応により
10 ラジカル化反応を起こすことができることから，空気の供給量を変化させるだけで，
容易にラジカル化反応温度を制御することができる。また，発生するＭＲガスの濃
度はラジカル化触媒反応温度に依存することから，上述のように空気の供給量を変
化させて反応温度を制御することで，ＭＲガスの濃度を容易に制御することができ
る。これにより，滅菌対象によって容易にＭＲガスの濃度を変化させることができ，
15 種々の対象に対して滅菌処理を施すことが可能となる。
【００５６】
そこで，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０においては，上述したように，
触媒カートリッジ１３を，金属薄板をハニカム構造に成形してなるラジカル反応触
媒３０によって構成し，メタノールガスとラジカル反応触媒３０との接触表面積を
20 増加させるとともに，メタノールガスが一定の通路を通過するようにしている。
【００５７】
このようにしてラジカル反応触媒３０をハニカム構造に成形してメタノールガス
との接触表面積を増加させることによって，触媒反応の反応効率を高め，ラジカル
化反応に必要な触媒カートリッジ１３の大きさを最小限に抑えることを可能にして
25 いる。具体的に，触媒カートリッジ１３におけるラジカル反応触媒３０の直径方向
の大きさを，５０～７０ｍｍ程度の大きさにすることができ，この大きさで反応効
率の高いラジカル化反応を起こすことができる。そして，触媒カートリッジ１３の
大きさを最小限に抑えることで，容易に交換が可能な形態とすることが可能となっ
ている。また，一定の通路をメタノールガスが通過するようにすることで，ラジカ
ル化反応のばらつきを抑えて一定にし，反応温度の変動を抑制させることを可能に
5 している。
【００７７】
そしてまた，上述のように，この触媒カートリッジ１３では，安定した自己反応
によるラジカル化触媒反応を可能していることから，筒体１２に接続された空気供
給部からの空気の供給量を任意に制御することにより，自己反応によるラジカル化
10 触媒反応温度を容易に変動制御することができ，発生させるＭＲガスの濃度を容易
に変化させることが可能となる。これにより，メタノールガスに混合させる空気に
供給量を変化させるだけで，滅菌対象によって適した濃度のＭＲガスを簡単に発生
させることができ，種々の対象に対して効率的な滅菌処理を行うことができる。ま
た，このように，適した濃度のＭＲガスを任意に発生させることができることから，
15 メタノールの供給量を必要最小限に抑えることが可能となり，より安全に装置を使
用することができるだけでなく，環境にも適した滅菌処理を実現することができる。
【００７９】
図１３は，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０を適用した滅菌処理装置４
０の一例を概略的に示した模式図である。この図１３に示すように，滅菌処理装置
20 ４０は，メタノールタンク４１と，ＭＲガス発生装置１０’と，滅菌対象物を保持し
てＭＲガス発生装置１０’から発生したＭＲガスによって滅菌処理を施す場となる
滅菌タンク４２とから構成されている。
【００８５】
また，上述した本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０を適用することにより，
25 上述した図１３に例示する滅菌処理装置４０に示されるような滅菌対象物４３を滅
菌処理装置４０内に静置させて処理する形態としない滅菌処理装置とすることもで
きる。すなわち，小型化が可能となった本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０
を適用した滅菌処理装置を，閉じられた空間に静置し，ラジカル化触媒反応によっ
て発生したＭＲガスをその閉じられた空間に充満させて，その空間を滅菌させるこ
ともできる。このようにすることで，病室等の室内や車内等，従来のＭＲガス発生
5 装置を用いた滅菌処理装置では実現することができなかった空間に対して滅菌処理
を施すことが可能となる。
【００８８】
例えば，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置を適用することによって，感染病
を患った患者を搬送した救急車を滅菌対象として処理することができる。従来のＭ
10 Ｒガスを用いた滅菌処理装置では，その装置自体が大型であったため，持ち運びも
困難で，処理に時間がかかり，数の限られた救急車等を手早く滅菌処理することが
できなかった。しかしながら，本実施の形態に係る，反応効率を向上させて反応触
媒の小型化を実現したＭＲガス発生装置を適用した滅菌処理装置によれば，容易に
持ち運ぶことが可能となり，容易に滅菌処理を施すことが可能となる。
15 【００８９】
また，本実施の形態に係るＭＲガス発生装置１０によれば，筒体上部１２ａにお
ける空気の供給量を変化させることにより，触媒の自己反応によるラジカル化反応
温度を容易に制御することができるので，発生するＭＲガスの濃度を容易に変化さ
せることができる。これにより，例えばウイルス等のＤＮＡを破壊することを目的
20 としてＭＲガスを暴露させる場合には，空気の供給量を増やしてラジカル化反応温
度を高め，濃度の高いＭＲガスを発生させるといったように，滅菌対象によって空
気の供給量を変化させて，発生させるＭＲガスの濃度を変化させることができる。
【００９０】
なお，本発明は，上述の実施形態に限られるものではなく，この発明の要旨を逸
25 脱しない範囲での設計変更等があっても本発明に含まれる。
【図１】
【図２】
【図１３】
（別紙３）
１ 【特許請求の範囲】
【請求項３】密閉された室内にホルムアルデヒドガスを供給すると共に排出する
ホルムアルデヒドガス供給排出装置と，
5 前記室内の圧力を調整する室圧調整装置とを備え，
前記ホルムアルデヒドガス供給排出装置は，前記ホルムアルデヒドガスを発
生するホルムアルデヒドガス発生器と，前記ホルムアルデヒドガスの湿度を調節
する湿度調節器と，前記ホルムアルデヒドガスの温度を調節する温度調節器と，
前記ホルムアルデヒドガスを室内へ搬送して導入するガス搬送器と，前記室内か
10 らの排ガスを処理する排ガス処理器と，前記排ガスを排出するガス排出器と，前
記室内のホルムアルデヒドガスの濃度，湿度及び温度を所定の濃度，湿度及び温
度に制御する制御部とを有し，
前記室圧調整装置は，前記室内に室外の空気を給気する給気ユニットと，前
記室内の空気を前記室外に排気する排気ユニッ卜と，前記室内と前記室外との圧
15 力差を検出する圧力差検出手段と，前記圧力差検出手段により検出された検出値
に基づいて前記給気ユニット及び前記排気ユニットを制御する制御手段と，前記
圧力差検出手段による前記検出値に基づいて前記室圧の制御状況を出力する制
御状況出力手段とを有することを特徴とするホルムアルデヒドガス殺菌装置。
２ 【発明の詳細な説明】
20 (1) 「技術分野
本発明は，ホルムアルデヒドガスにより被殺菌空間の殺菌を行うホルムアル
デヒドガス殺菌装置に関するものである。 （４頁２行～４行）
」
(2) 「技術背景
従来，バイオクリーンルームや手術室等の空間内を殺菌処理する目的でホル
25 ムアルデヒドガスを用いる方法は，この被殺菌空間を閉空間とし，その中にホ
ルムアルデヒドガス発生器を設置してホルムアルデヒドガスを発生させるもの
が知られている。
しかし，ホルムアルデヒドガスによる殺菌（以下，本明細書では「滅菌」を
も意味する）効果は，被殺菌空間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度
により大きく依存することから，十分保証可能な殺菌効果を得るためには，単
5 にホルムアルデヒドガスを特定の時間被殺菌空間に充満させるということでは
十分ではない。
･･･また，被殺菌空間内は，密閉された空間（室）となることから室内圧力を
制御する必要も生じる。 （４頁５行～２１行）
」
(3) 「発明の開示
10 ･･･また，この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置は，ホルムアルデヒドガ
スを発生させるホルムアルデヒドガス発生器と，前記ホルムアルデヒドガスの
湿度を調節する湿度調節器と，前記ホルムアルデヒドガスの温度を調節する温
度調節器と，前記ホルムアルデヒドガスを被殺菌空間内へ搬送して導入するガ
ス搬送器と，前記被殺菌空間内からの排ガスを処理する排ガス処理器と，前記
15 排ガスを排出するガス排出器と，前記ホルムアルデヒドガス発生器において前
記ホルムアルデヒドガスを所定の範囲の濃度で発生させ，前記湿度調節器によ
り前記ホルムアルデヒドガスの湿度を所定の範囲に制御し，前記温度調節器に
より前記ホルムアルデヒドガスの温度を所定の範囲に制御し，前記ガス搬送器
によるガス搬送量を所定の範囲に制御し，前記排ガス処理器による排ガス中の
20 ホルムアルデヒドの量を所定の範囲に制御し，前記ガス排出器による排ガス排
出量を制御する制御器を有する。
この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置によれば，制御器により被殺菌空
間内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度をそれぞれ，所定の濃度，所定
の湿度，所定の温度に制御するため，十分に保証可能な殺菌効果を得ることが
25 できる。 （４頁２２行，５頁１７行～６頁３行）
」
(4) 「また，この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置は，密閉された室内にホ
ルムアルデヒドガスを供給すると共に排出するホルムアルデヒドガス供給排
出装置と，前記室内の圧力を調整する室圧調整装置とを備え，前記ホルムアル
デヒドガス供給排出装置は，前記ホルムアルデヒドガスを発生するホルムアル
デヒドガス発生器と，前記ホルムアルデヒドガスの湿度を調節する湿度調節器
5 と，前記ホルムアルデヒドガスの温度を調節する温度調節器と，前記ホルムア
ルデヒドガスを室内へ搬送して導入するガス搬送器と，前記室内からの排ガス
を処理する排ガス処理器と，前記排ガスを排出するガス排出器と，前記室内の
ホルムアルデヒドガスの濃度，湿度及び温度を所定の濃度，湿度及び温度に制
御する制御部とを有し，前記室圧調整装置は，前記室内に室外の空気を給気す
10 る給気ユニットと，前記室内の空気を前記室外に排気する排気ユニットと，前
記室内と前記室外との圧力差を検出する圧力差検出手段と，前記圧力差検出手
段により検出された検出値に基づいて前記給気ユニット及び前記排気ユニッ
トを制御する制御手段と，前記圧力差検出手段による前記検出値に基づいて前
記室圧の制御状況を出力する制御状況出力手段とを有することを特徴とする。
15 ･･･この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置によれば，室圧調整装置を備
えるため，室内温度の上昇により室内の空気が膨張したような場合においても
室圧を一定に保つことができる。
また，この発明ホルムアルデヒドガス殺菌装置は，前記排気ユニットが前記
室内から排気される空気を処理する処理装置を備える。
20 この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置によれば，室圧を調整するために
室内の空気の排気を行った場合においても，処理装置により室内の空気に含ま
れるホルムアルデヒドガス等を処理するため，ホルムアルデヒドガスを処理し
た後に室外に排出することができる。 （６頁４行～７頁６行）
」
(5) 「発明を実施するための最良の形態
25 以下，図１を参照して，本発明の第１の実施の形態の説明を行う。図１は，
第１の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス殺菌装置２の構成図である。
このホルムアルデヒドガス殺菌装置２は，ハウジング１０を有しバイオハザー
ド安全キャビネットの外側に取り付けて容易にキャビネット内の空間（以下被
殺菌空間１００とする）を殺菌することができるものである。この際，キャビ
ネット内はダンパ等を閉じて閉空間とする。キャビネットには，ホルムアルデ
5 ヒドガス殺菌装置２からホルムアルデヒドガスを供給するためのホルムアルデ
ヒドガス入口１０２と，ホルムアルデヒドガスを排出するための排気ガス出口
１０４が設けられている。
被殺菌空間１００には，ホルムアルデヒドガス濃度センサ１２，湿度センサ
１４，温度センサ１６が設けられ，それぞれモニタされた値は制御ライン１８，
10 ２０，２２を介して制御器２４へ伝達される。
ポンプ２６により外気をホルムアルデヒドガス入口１０２より被殺菌空間１
００内に導入し，さらに排ガス出口１０４よりポンプ２８を通じて外気へ排気
する。または，ポンプ２８から出た排気ガスを環流通路３０を介して再びポン
プ２６に導入することで，被殺菌空間１００内の空気を循環させる。 （７頁７
」
15 行～２３行）
「…このため濃度センサ１２，湿度センサ１４，温度センサ１６により被殺
菌空間１００内のホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度のそれぞれをモニタ
し，得られた値に基づいて制御器２４で必要な計算を行い，制御ライン３８，
４０，４２，４４を通じてホルムアルデヒドガス発生器３６，温度調節器３４，
20 湿度調節器３２，ポンプ２６を制御する。･･･
所定の時間経過後，ホルムアルデヒドガス発生器３６を停止し，排ガス処理
器４６による処理を被殺菌空間１００内のホルムアルデヒド濃度が所定の値よ
り低くなるまで実施する。即ち，ポンプ２８から出たガスを還流通路３０を介
して再びポンプ２６に導入し，被殺菌空間１００内の空気を循環させることに
25 より，ホルムアルデヒド濃度を徐々に低下させ所定の濃度よりも低くする。」
（８頁１行～１２行）
(6) 「本発明において使用可能なホルムアルデヒドガス発生器には特に限定はな
いが，湿度，温度の制御の下で高い濃度のホルムアルデヒドガスを発生可能で
あればよい。 （８頁１９行～２１行）
」
「ホルムアルデヒドの発生量の制御については，触媒の温度の制御，及び供
5 給するメタノールの量，又は気化量に依存する。反応条件の最適化は，実際に
ホルムアルデヒドを発生させ，かつ適当なホルムアルデヒド濃度測定を行うこ
とにより可能である。 （９頁４行～７行）
」
「本発明において，適当な濃度のホルムアルデヒドガス濃度を，適当な温度
の範囲内で長時間維持するために，被殺菌空間内の温度を調節することが好ま
10 しい。この目的で設けられる温度調節手段は特には，制限はなく，通常公知の
加熱，または冷却装置が使用可能である。 （９頁２７行～１０頁１行）
」
「本発明において，適当な濃度のホルムアルデヒドガス濃度を，適当な湿度
の範囲内で長時間維持するために，この閉空間内の湿度を調節することが好ま
しい。この目的で設けられる湿度調節手段は特に制限はなく，通常公知の加湿，
15 または除湿装置が使用可能である。 （１０頁６行～９行）
」
「本発明においては，被殺菌空間内の温度，湿度及びホルムアルデヒド濃度
を所定の範囲で，所定の時間維持する必要がある。被殺菌空間内ホルムアルデ
ヒドガスの濃度は，被殺菌空間内で殺菌反応などの種々の反応により減少する。
従って，ホルムアルデヒドガスの濃度を一定に維持するためには，設定時間内
20 において，温度，湿度，ホルムアルデヒド濃度データを取込み，かつ特定範囲
になるように，ホルムアルデヒド発生手段を制御する必要がある。この目的の
ための制御方法，制御器については特に制限はないが，手動による方法，又は
コンピュータプログラムを用いた制御器が挙げられる。本発明においては，高
いホルムアルデヒド濃度を長時間維持する必要があることから，オンタイムに
25 最適化しつつホルムアルデヒド発生装置，ポンプ，温度調節器，湿度調節器に
信号を送り，制御する機能を有するものが好ましい。 （１１頁１９行～末行）
」
(7) 「次に，図２，図３を参照して，本発明の第２の実施の形態にかかるホルム
アルデヒドガス殺菌装置ついて説明する。この第２の実施の形態にかかるホル
ムアルデヒドガス殺菌装置は，第１の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガ
ス殺菌装置２と同一の構成であるホルムアルデヒドガス供給排出装置４に，更
5 に密閉された室として形成された被殺菌空間内の圧力を調整する室圧調整装
置６を備えるものである。
図２は，第２の実施の形態にかかるホルムアルデヒドガス供給排出装置４及
び室圧調整装置６を備えて構成されるホルムアルデヒドガス殺菌装置の構成図
である。ここで室圧調整装置６は，室壁５０に接した状態で設けられ，室壁５
10 ０により密閉された室内の圧力を調整するものである。室圧調整装置６は，室
内に室外の空気を給気する給気ユニット５２，室内の空気を室外に排気する排
気ユニット５４，室内と室外との圧力差を検出する微差圧検出器５６，微差圧
検出器５６により検出された検出値に基づいて給気ユニット５２及び排気ユニ
ット５４を制御するコントロールユニット５８を備えて構成されている。
15 給気ユニット５２は，室外の空気を取り込むための給気グリル６０を有し，
この給気グリル６０の下流側に，室外から室内に供給される空気量を調整する
ための給気量調整電磁弁６２が３つ設けられている。また，給気量調整電磁弁
６２の下流側の空気通路６４内には，送風機６６，ＨＥＰＡ（ｈｉｇｈ ｅｆ
ｆｉｃｉｅｎｃｙ ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ ａｉｒ）フィルタ６８が順次設
20 けられている。
排気ユニット５４は，給気通路７０内にＨＥＰＡフィルタ７２を有し，ＨＥ
ＰＡフィルタ７２の下流側に室内から室外に排気される空気量を調整するため
の排気量調整電磁弁７４が３つ設けられている。また，排気量調整電磁弁７４
の下流側には，白金触媒およびヒータを備えて構成されるエアー処理装置７６
25 が設けられている。ここで，このエアー処理装置７６には，電磁弁７８を介し
て室外の空気が供給される。この室外の空気の供給により触媒の温度を一定に
保つことができる。
更に，排気量調整電磁弁７４の下流側には，エアー処理装置７６を通過した
空気および給気グリル８０から取込んだ空気を室圧調整装置６外に排気するた
めの送風機８２が設けられている。 （１３頁末行～１４頁末行）
」
5 (8) 「微差圧検出器５６は，室壁５０に設けられ，信号線を介してコントロール
ユニット５８に接続されており，この微差圧検出器５６により検出された室内
と室外との圧力差がコントロールユニット５８に入力される。
コントロールユニット５８は，信号線を介して給気ユニット５２の給気量調
整電磁弁６２及び送風機６６に接続されていると共に，排気ユニット５４の排
10 気量調整電磁弁７４，電磁弁７８及び送風機８２に接続されている。コントロ
ールユニット５８は，微差圧検出器５６の検出値に基づいて，給気量調整電磁
弁６２，送風機６６，排気量調整電磁弁７４及び送風機８２等の制御を行う。
なお，コントロールユニット５８には，微差圧検出器５６による検出値を常時
記憶する記憶装置８４及び記憶装置８４に記憶されている検出値を出力するプ
15 リンタ等の出力装置８６が接続されている。 （１５頁１行～１１行）
」
「このホルムアルデヒドガス殺菌装置においては，ホルムアルデヒドガス供
給排出装置４のポンプ２６により外気をホルムアルデヒドガス入口１０２より
室内に導入し，さらに排ガス出口１０４よりポンプ２８を通じて外気へ排気す
る。湿度センサ１４，温度センサ１６により得られた室内の温度及び湿度がそ
20 れぞれ所定の温度２０～４０℃，および湿度の範囲５０～９０％（相対湿度）
の範囲になるように制御器２４にて湿度調節器３２及び温度調節器３４で調節
する。さらに，ホルムアルデヒドガス発生器３６およびポンプ２６にて所定の
ホルムアルデヒドガス濃度１６０ｐｐｍ以上を維持するように調節し所定の時
間維持する。このため濃度センサ１２，湿度センサ１４，温度センサ１６によ
25 りホルムアルデヒドガス濃度，湿度，温度のそれぞれをモニタし，得られた値
に基づいて制御器２４で必要な計算を行い，制御ライン３８，４０，４２，４
４を通じてホルムアルデヒドガス発生器３６，温度調節器３４，湿度調節器３
２，ポンプ２６を制御する。 （１５頁１２行～２３行）
」
(9) 「ここで所定時間，室内の温度，湿度，ホルムアルデヒドガスの濃度がそれ
ぞれ温度２０～４０℃の範囲，湿度５０～９０％（相対湿度）の範囲，ホルム
5 アルデヒドガス濃度１６０ｐｐｍ以上を維持している間，室圧調整装置により
室内の圧力を陽圧力に維持する。即ち，図３に示すフローチャートに示す処理
により，室内を陽圧力（１０～２０Ｐａ）に維持する。なお，このフローチャ
ートに基づく制御は，コントロールユニット５８により微小時間間隔ごとに繰
り返して行われる。 （１５頁２６行～１６頁３行）
」
10 「まず，コントロールユニット５８は，微差圧検出器５６により検出された
室内と室外との圧力差を取得し（ステップＳ１０），記憶装置８４に記憶する
（ステップＳ１１）。次に，圧力差が１０～２０Ｐａの場合には（ステップＳ１
２）正常な圧力であることから，ステップＳ１０の処理に戻って，圧力差検出
（ステップＳ１０），検出値記憶（ステップＳ１１）等の処理を続行する。
15 一方，微差圧検出器５６により検出された室内と室外との圧力差が１０Ｐａ
以下の場合には（ステップＳ１２）室圧が低すぎることから室内への給気を行
う（ステップＳ１４）。即ち，給気量調整電磁弁６２及び送風機６６に制御信号
を送り給気量調整電磁弁６２を所定時間開くと共に送風機６６の運転を行う。
これにより室外の空気が･･･室内に供給され，室内の圧力が給気量調整電磁弁
20 ６２の開時間に対応する値だけ上昇する。･･･
また，微差圧検出器５６により検出された室内と室外との圧力差が２０Ｐａ
以上の場合には（ステップＳ１２）室圧が高すぎることから室外への排気を行
う（ステップＳ１３）。即ち，排気量調整電磁弁７４及び送風機８２に制御信号
を送り排気量調整電磁弁７４を所定時間開くと共に送風機８２の運転を行う。
25 これにより室内の空気がＨＥＰＡフィルタ７２，排気量調整電磁弁７４，エア
ー処理装置７６を介して室外に排気され，室内の圧力が排気量調整電磁弁７４
の開時間に対応する値だけ降下する。 （１６頁４行～２４行）
」
「この室圧制御装置６によれば，室内と室外との圧力差を常時１０～２０Ｐ
ａに維持することができるため，ホルムアルデヒドガスを用いて室内の殺菌を
行う場合に，室内温度の上昇により室内空気の体積が増加した場合においても，
5 ホルムアルデヒドガスがエアー処理装置７６で処理された後に排出されるため，
ホルムアルデヒドガスが未処理のまま室外に漏れ出すのを防止することができ
る。また検出された室内と室外の圧力差は時系列的に記憶装置８４に記憶され
ていることから，記憶装置８４に記憶されている検出値を出力装置８６により
出力することにより，この出力結果に基づいて室内の圧力が常に所定の陽圧に
10 維持できていたことを保証することができる。従って，ホルムアルデヒドガス
が未処理のまま室外の漏れ出していないことの保証を行うことが可能になる。」
（１６頁２７行～１７頁７行）
(10) 「なお，上述の第２の実施の形態においては，室圧調整装置６にエアー処
理装置７６が設けられているが，ホルムアルデヒドガス供給排出装置４の排ガ
15 ス処理器４６を用いてホルムアルデヒドガスの処理を行うことも可能である。」
（１７頁１３行～１５行）
「本発明の装置は，一体型のハウジング構造を有するものであり，被殺菌空間
の外に設けて，ホルムアルデヒドガスを被殺菌空間内に導入し，かつ被殺菌空
間内からの排ガスを処理してクリーン排気が可能となる。また，取り外すこと
20 も容易である。さらに，本発明にかかる装置は，容易に被殺菌空間のある場所
へ移動することが可能であり，救急車の室内，移動型（テントを含む）手術室
やバイオクリーンルーム内を容易に保証可能とするに十分な殺菌を行うことが
できる。 （１７頁１６～２１行）
」
(11) 「また，本発明にかかる装置によれば，室内温度の上昇により室内の空気の
25 体積が増加したような場合においてもホルムアルデヒドガスが未処理のまま
室外に漏れるのを防止することができ，また十分に保証可能な殺菌効果を得る
ことができる。 （１７頁２８行～１８頁２行）
」
(12) 「産業上の利用可能性
以上のように，この発明のホルムアルデヒドガス殺菌装置は被殺菌空間を十
分に保証可能な程度に殺菌することに適している。 （１８頁３行～５行）
」
【図１】
（別紙４）
１ 甲２３（特開２００１－３４９５８６号公報。公開日平成１３年１２月２１日）
【請求項１】 密閉された室内の圧力を調整する室圧調整装置であって，
前記室内に室外の空気を給気する給気ユニットと，
5 前記室内の空気を前記室外に排気する排気ユニットと，
前記室内と前記室外との圧力差を検出する圧力差検出手段と，
前記圧力差検出手段により検出された検出値に基づいて前記給気ユニット及び
前記排気ユニットを制御する制御手段と，
前記圧力差検出手段による前記検出値に基づいて前記室圧の制御状況を出力す
10 る制御状況出力手段とを備えることを特徴とする室圧調整装置。
【請求項２】 前記制御装置は，前記室内の圧力を前記室外の圧力に対して陽圧
に制御することを特徴とする請求項１記載の室圧調整装置。
【請求項３】 前記制御装置は，前記室内の圧力を前記室外の圧力に対して陰圧
に制御することを特徴とする請求項１記載の室圧調整装置。
15 【０００２】
【従来の技術】…また，バイオハザードルーム等においては，汚染されている恐
れのある空気が室外に漏れることのないように室内の圧力を室外の圧力よりも
低く維持することが望まれる。
【０００７】また，請求項３記載の室圧調整装置は，前記制御装置が前記室内の
20 圧力を前記室外の圧力に対して陰圧に制御することを特徴とする。この請求項３
記載の室圧調整装置によれば，室内が汚染されている恐れがある場合において，
常時室内を陰圧に維持することにより室内の汚染された恐れのある空気が室外
に排出されるのを防止することができる。
【００１９】また，給気ユニット１２の空気通路２４内にＨＥＰＡフィルタ２８
25 が設けられているため，室内を滅菌する場合等において，室圧が低くなりすぎた
場合等室内に給気を行う必要が生じた場合においても室内に室外の空気に存在
する微細粒子が侵入するのを防止することができる。なお，上述の実施の形態に
おいては，室内の圧力を陽圧力に維持する制御を行っているが，室内の圧力を陰
圧力に維持する制御を行うようにすることも可能である。なお，陰圧力とは，(室
内圧力)－(室外圧力)が負の値を示す場合をいう。
5 【００２０】バイオハザードルーム，ケミカルハザードルーム等においては，室
内の空気が汚染されている可能性があることから室内の空気が室外に漏れるの
を防止する必要がある。この室圧制御装置２によれば，室内と室外との圧力差を
常時１０～２０Ｐa（室内の圧力を室外の圧力に対して－１０～－２０Ｐa）に維
持することができ，また検出された圧力差は時系列的に記憶装置４４に記憶され
10 ていることから，記憶装置４４に記憶されている検出値を出力装置４６により出
力することにより，この出力結果に基づいて室内の圧力が常に陰圧に維持できて
いたことを保証することができる。従って，バイオハザードルーム等の空気が室
外に漏れていないことを保証することにより室外の汚染がないことを保証する
ことができる。
15 ２ 甲８２（特開平１０－１３２３４６号公報。公開日平成１０年５月２２日）
【０００４】…バイオハザード対策施設は，人体にとって無害とは断言できない
微生物，例えば一般病原体，腫瘍ビールス，組換えＤＮＡ操作による組換え体等
を取り扱っている。そこで，バイオハザード対策施設では，バイオハザード，即
ち人間が微生物感染により直接または間接に受ける災害を防止する対策が講じ
20 られていて，バイオハザードが対象となる実験室等の室内を陰圧にして，空気の
流れを隙間からの漏洩も含めて室外から室内への一方向の流れに維持し，室内の
バイオハザード源の外部漏洩を防止している。また，ケミカルハザード対策施設
は，環境を汚染し，人体にとって有害な化学物質を取り扱っているので，バイオ
ハザード対策施設と同じく，実験室等の室内を陰圧にして，空気の流れを隙間か
25 らの漏洩も含めて室外から室内への一方向の流れに維持し，室内のケミカルハザ
ード源の外部漏洩を防止している。
３ 甲８３（特開平１１－３４７１０６号公報。公開日平成１１年１２月２１日）
【０００８】
【課題を解決するための手段】本方法発明は，滅菌処理を行う滅菌対象物を収納
した滅菌処理庫に対し，減圧及びオゾンガスの導入を交互に行い，前記滅菌対象
5 物を滅菌するものである。
【００６４】すなわち，滅菌処理庫５内をオゾンガス４供給時にも大気圧により
低い圧力に保つことにより，滅菌処理庫５から外部へのオゾンガス４のリークを
防止することができる。
４ 甲８４（特開平４－６４８４６号公報。公開日平成４年１２月１７日）
10 【請求項１】 大略的に直方体であって，ベッドを収納するベッド収納空間を有
し，少なくとも２つの側壁にベッド収納空間と連通する開口端を有するベッドル
ームユニットと，ベッドルームユニットの少なくとも１つの開口端に着脱可能で
あり，その開口端に清浄空気を供給する清浄空気供給源と，ベッドルームユニッ
トのもう１つの開口端に着脱可能であり，開閉扉を有し，またはベッド収納空間
15 に連通する空間を形成する補助ユニットとを含み，ベッドルームユニットに滅菌
性ガス供給接続口と，内圧調整用排気接続口を設け，前者より滅菌性ガスを供給
しベッドルーム内部を消毒する一方，後者を通じてベッドルーム内部が常に負圧
になるように排気量を調節し，さらに排気ラインに滅菌性ガスを無害化する手段
を介して排出することにより，無菌ベッド装置外部への滅菌性ガスの漏洩をなく
20 すことを特徴とする無菌ベッド装置。
【００１３】ベッドルームユニットおよび補助ユニットには，オゾン等の滅菌性
ガスを供給する接続口と，内圧調整用排気接続口とを設ける。供給接続口からオ
ゾンなどの滅菌性ガスを供給してベッドルームユニット内部と補助ユニット内
部となどを消毒することができる。また内圧調整用排気接続口を通じてベッドル
25 ームユニット内部および補助ユニット内部などを常に負圧になるように排気量
を調節し，これによってオゾンが外部に漏洩することが防がれる。内圧調整用排
気接続口から排出されるガスの排気ラインに，無害化手段であるデオゾナイザを
設けて，滅菌性ガスであるたとえばオゾンの一部を酸素にして無害化し，こうし
て無害化したガスを大気に放散して排出する。･･･
【００３０】図１０は，本発明の一実施例の全体の系統図である。ベッドルーム
5 ユニット２またはこの図１０の実施例では，扉ユニット４に，滅菌性ガスである
オゾンを供給する供給接続口７１を設け，ベッドルームユニット２には内圧調整
用排気接続口７２を設ける。供給接続口７１には，オゾナイザ７３からの外部か
らの空気もしくは酸素または管路７９からの循環ガスから得られるオゾンを管
路７４を介して，流量制御弁である可変オリフィス７５を介して供給する。これ
10 によって，ベッドルームユニット２および扉ユニット４内の内部を消毒すること
ができる。排気接続口７２からのガスの一部は，誘引ファン７６を介してデオゾ
ナイザ７７に導いて，オゾンを酸素として無害化し，大気放散する。誘引ファン
７６を用いることによって，ベッドルームユニット２および扉ユニット４内を常
に負圧とし，これによってオゾンが外部に漏洩することを防ぐ。ベッドルームユ
15 ニット２内の圧力は，圧力検出器７８によって検出し，調節計７９によって可変
オリフィス７５の開度を変化させ，このベッドルームユニット２内の圧力を負圧
の予め定める一定値に保つことができる。･･･こうして，ベッドルームユニット２
および扉ユニット４内を，患者がいない状態で消毒を行い，その消毒中における
オゾンの外部への漏洩を防ぐことができ，しかもこのような消毒作業は簡便に行
20 うことができる。･･･
（別紙５）
１ 甲８１（「化学大辞典」（第１版）（大木道則ほか編集／株式会社東京化学同人。
１９８９年１０月２０日発行）
「ホルムアルデヒド[formaldehyde]…鋭い刺激臭を有する無色の可燃性気体。石
5 炭や木を燃やした煙の中に存在し，粘膜に対し非常に刺激的で発がん性がある。」
（２２６１頁右欄２３行～２８行）
２ 甲８５（JIS T 7328: 2005 ホルムアルデヒドガス消毒器）（日本規格協会／日
本医療機器工業会。２００５年）
「ホルムアルデヒドガス消毒器…
10 １．適用範囲 この規格は，医療機器(被消毒物)の消毒に用いるホルムアルデ
ヒドガス消毒器(以下，消毒器という。)のうち使用圧力が常圧及び大気圧以下
の消毒器の，安全性，性能，試験及び表示に関する要求事項について規定す
る。 （３頁３行～７行）
」
「４．２消毒器の安全性
15 ４．２．１ 扉又はふたのインターロック 消毒器は必ず，通常の動作条件に
おいてチャンバの扉又はふたがロックされていないときにガスがチャンバ内に
供給されないよう設計された自動インターロック機構を備えなければならない。
４．２．２ 作業者へのホルムアルデヒド暴露防止 消毒器は作業者の暴露防
止のために IEC61010-2-042:1997 の 13.1.101 に適合しなければならない。
20 ガス漏れが発生したとき，別に設けたガス漏れ警報器などと連動してガスの
供給停止，チャンバ内の減圧，警報表示などを，自動的に行う構造とする。た
だし，ガス供給が大気圧より陰圧で実施される消毒器は除く。」（５頁２０行
～３１行）
３ 甲８８（特許第２６９０５１８号公報。公開日平成９年８月２９日）
25 「第１～２図は，本発明を説明する為の図で，･･･，第２図は滅菌作業の進行に伴
なう滅菌容器内の圧力の変化と構成要素の状態との関係を時間の経過と共に示
す線図である。 （２頁左欄３６行～３９行）
」
「滅菌作業を行なう場合，先ず滅菌容器１内に被滅菌物を収納した後滅菌容器
１の蓋２を閉じ，真空ポンプ３を運転して，滅菌容器１内を負圧にし，被滅
菌物内の空気を排出する真空行程を行なって，この被滅菌物の内部に迄滅菌
5 ガスが進入し易い状態とする。この真空行程の後，加湿弁４を適当な時間だ
け開き，上記被滅菌物を加湿する加湿行程を行なって，後から滅菌容器１内
に送り込まれる滅菌ガスと被滅菌物との馴染み性を良くする。
この加湿行程の後，加湿真空行程を経てから，ホルマリン移送用の定量ポン
プ５の運転と，電磁弁６の開放と，ホルマリンを加熱し気化させる為の気化タ
10 イマの ON と，気化により生じたホルムアルデヒドを滅菌容器１に送り込む為
の電磁弁７の開放とを適宜繰り返し，滅菌用のホルムアルデヒドを発生すると
共に，比較的少量のホルムアルデヒドを滅菌容器１内に送り込む作業を繰り返
し行なうホルマリンパルス行程を行なって，後から多量に送り込まれるホルム
アルデヒドと被滅菌物との馴染性を一層良くする。
15 これら，真空，加湿，加湿真空，ホルマリンパルスの各行程を終了した後，
滅菌容器１内に比較的多量のホルムアルデヒドを送り込み，この滅菌容器１内
に収納された被滅菌物の滅菌処理（消毒）を行なう。 （２頁左欄第４２行～同
」
頁右欄第１３行）
「第２図は滅菌作業の進行に伴なう滅菌容器内の圧力の変化と構成要素の状態
20 との関係を時間の経過と共に示す線図である。 （３頁左欄第４行～同頁右欄第
」
１行）
【第２図】
４ 甲９４ 「ヘルスケア製品の滅菌及び滅菌保証」
（ （２０１１年４月２５日発行)財
団法人日本規格協会）
「7.6.1.2 プロセスの特性
低温蒸気ホルムアルデヒド滅菌（Low Temperature Steam and Formaldehyde
sterilizer,以下，LTSF と呼ぶ）のプロセスには以下を含まなければならない。
これらを，滅菌器内での圧力変化の様子と一緒に表すと，図７．３のようにな
る。
① 空気除去
5 ② コンディショニング
③ 滅菌剤注入
④ 平衡時間と保持時間
⑤ 脱離
⑥ 空気の注入により大気圧への復圧
10 LTSF の滅菌プロセスを達成するためには，まず使用するホルムアルデヒド
濃度を２～３８％の間で選択し，その濃度に合わせた滅菌プロセスを定義する
必要がある。使用するホルムアルデヒド濃度によって滅菌プロセスを形成する
各パラメータの設定が異なり，滅菌性能や乾燥性能に違いが発生する。」（３
０８頁右欄）
15 「(2) 滅菌動作
－１０kPa において１２％ホルムアルデヒド水溶液を入れてから－８０kPa
まで減圧し，加熱して気化させる。１０分間その状態を保持後，フィルターを
通した空気をチャンバに入れ，圧力を－１０kPa まで復圧させる。
そのときの圧力の上昇により被滅菌物の滅菌が困難な内腔まで滅菌剤を曝露
20 させる。その圧力を５分間保持してから再び１２％ホルムアルデヒド水溶液を
入れる動作とその後の一連の減圧・加熱気化・空気導入による復圧を１２回繰
り返す。
作用時間：１８０分
１２％ホルムアルデヒド水溶液の使用量：９０mL」（３１７頁左欄）
25 ５ 甲９５「ホルムアルデヒドガス滅菌の特性と実機材の概要」
（感染制御第７巻第
２号。平成２３年４月２５日発行）
「ホルムアルデヒドは，･･･蒸気は，一定濃度を超えると粘膜，気道に対し刺激性
があり，いわゆるシックハウス症候群の原因物質のひとつとされている。本邦
では労働安全衛生法施行令及び特定化学物質障害予防規則等が一部施行され，
ホルムアルデヒドが特定化学物質の第３類物質から第２類物質に位置づけれて
5 いる･･･。また，ＷＨＯの国際がん研究機関（IARC；International Agency for
Research on Cancer）では，ホルムアルデヒドを「ヒトに発がん性がある」グ
ループ１に分類している。 （１１９頁左欄下から５行から右欄下から７行）
」
「HS6610 TURBO LTSF の処理方法は低温蒸気ホルムアルデヒド滅菌である。すな
わち，搭載された気化器を通して蒸気とホルマリンを陰圧にしたチャンバ内に
10 ある被滅菌物に均一にいきわたるよう数回に分けて注入する。これに対し，PS-
140R はプレバキューム方式をとっている。ポンプでチャンバ内を陰圧にし，ホ
ルマリン液を気化させて被滅菌物に作用させる。 （１２０頁右欄下から１３行
」
から６行）