ホーム > 知財判決速報/裁判例集 > 平成17(行ケ)10153 行政訴訟 特許権
| 裁判所 | 知的財産高等裁判所 |
|---|---|
| 裁判年月日 | 平成17年6月9日 |
| 事件種別 | 民事 |
| 法令 |
特許権 |
| キーワード | 審決4回 訂正審判1回 特許権1回 |
| 主文 | |
| 事件の概要 |
本サービスは判決文を自動処理して掲載しており、完全な正確性を保証するものではありません。正式な情報は裁判所公表の判決文(本ページ右上の[判決文PDF])を必ずご確認ください。
平成17年(行ケ)第10153号 特許取消決定取消請求事件
(旧事件番号 東京高裁平成17年(行ケ)第70号)
口頭弁論終結日 平成17年5月26日
判 決
原 告 株式会社リコー
訴訟代理人弁理士 佐々木通孝
同 吉村寛二
同 鈴木康志
同復代理人弁理士 加藤和彦
被 告 特許庁長官 小川洋
指定代理人 秋月美紀子
同 山口由木
同 柳和子
同 伊藤三男
主 文
1 特許庁が異議2003-72503号事件について平成17年1月
日にした決定中,「特許第3398767号の請求項1,2,5に係る特許を
取り消す」との部分を取り消す。
2 訴訟費用は各自の負担とする。
事実及び理由
原告は,「1 主文第1項と同旨 2 訴訟費用は被告の負担とする」との判決を求め,請求の原因として別紙のとおり述べた。 被告は,「1 原告の請求を棄却する。2 訴訟費用は原告の負担とする」との判決を求め,請求原因事実は争わない,と述べた。 前記争いのない事実によれば,原告の本訴請求は理由があるから認容し,訴訟費用については,本訴の経緯にかんがみ,これを各自に負担させるのを相当と認め,主文のとおり判決する。 知的財産高等裁判所第2部 裁判長裁判官 中 野 哲 弘 裁判官 大 鷹 一 郎 裁判官 早 田 尚 貴(別紙)請求の原因原告は,発明の名称を「電子写真感光体及びその製造方法」とする特許第33号発明(平成4年2月21日出願,平成15年2月21日設定登録。以下「本件特許」という。)に係る特許権者であり,その設定登録時の特許請求の範囲は,別紙1のとおりである。その後,本件特許につき特許異議の申立てがされ,異議2003-72503号事件として特許庁に係属したところ,原告は,平成16年9月21日,本件特許の特許請求の範囲等の訂正(以下「第1次訂正」という。)を請求した。第1次訂正に係る特許請求の範囲は別紙2のとおりである。特許庁は,同事件につき審理した上,平成17年1月14日,「訂正を認める。特許第3398767号の請求項,2,5に係る特許を取り消す。同請求項3ないし4に係る特許を維持する。」との決定(以下「本件決定」という。)をし,その決定謄本は同年1月26日原告に送達された。原告は,平成17年2月23日,特許庁の本件決定のうち主文第1項掲記の部分の取消しを求める本訴を提起し,その係属中の同年3月15日,特許庁に対し,本件特許の特許請求の範囲等につき訂正審判の請求をした(以下「第2次訂正」という。)。第2次訂正に係る特許請求の範囲は別紙3のとおりであるが,特許庁は,同請求を訂正2005-39048号事件として審理した上,同年4月18日,訂正を認める旨の審決(以下「本件訂正審決」という。)をし,その審決謄本は同年4月28日原告に送達された。
第2次訂正によって特許請求の範囲が減縮されたことは明らかであり,本件訂
正審決の確定により,本件決定が前提とする発明の要旨の認定は誤りに帰したことになるので,本件決定中,「特許第3398767号の請求項1,2,5に係る特許を取り消す」との部分の取消しを求める。(別紙1)特許請求の範囲(設定登録時のもの)【請求項1】導電性支持体上に,少なくとも電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層を順に積層してなる電子写真感光体において,該電荷発生層の膜厚が,電荷輸送物質の電荷輸送層から電荷発生層への移行により変化して,下記(1)式を満足することを特徴とする電子写真感光体。 d2/d1>1.1・・・(1) 式中,d1:電荷輸送層積層前の電荷発生層の膜厚 d2:電荷輸送層積層後の電荷発生層の膜厚【請求項2】前記電荷輸送層が,少なくとも低分子電荷輸送物質を含有する電荷輸送層であり,かつ下記(2)式を満足することを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。 w2/w1≧0.7 ・・・(2) 式中,w1:電荷輸送層中に含有されるバインダー樹脂および高分子電荷輸送物質の重量の合計w2:電荷輸送層中に含有される低分子電荷輸送物質の重量【請求項3】前記電荷輸送層が,少なくとも低分子電荷輸送物質と高分子輸送物質を含有する電荷輸送層であり,かつ前記(2)式を満足することを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。【請求項4】 前記電荷輸送層が,少なくとも2層以上であり,少なくとも該電荷発生層と接触する電荷輸送層が低分子電荷輸送物質を含有する電荷輸送層であり下記(3)式を満足し,かつ電荷発生層から最も離れた電荷輸送層が下記(4)式を満足することを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。 w4/w3>0.7・・・(3) w4/w3<0.4・・・(4) 式中,w3:電荷輸送層中に含有される物質の重量の合計w4:電荷輸送層中に含有される低分子電荷輸送物質の重量【請求項5】請求項1~4の電子写真感光体を用いた電子写真装置。(別紙2)特許請求の範囲(第1次訂正後のもの。訂正部分を下線で示す。)【請求項1】導電性支持体上に,少なくとも電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層を順に積層してなる電子写真感光体において,該電荷発生層の膜厚が,電荷輸送物質の電荷輸送層から電荷発生層への移行により変化して,下記(1)式を満足することを特徴とする電子写真感光体。 d2/d1>1.3・・・(1) 式中,d1:電荷輸送層積層前の電荷発生層の膜厚 d2:電荷輸送層積層後の電荷発生層の膜厚【請求項2】前記電荷輸送層が,少なくとも低分子電荷輸送物質を含有する電荷輸送層であり,かつ下記(2)式を満足することを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。 w2/w1≧0.7・・・(2) 式中,w1:電荷輸送層中に含有されるバインダー樹脂および高分子電荷輸送物質の重量の合計w2:電荷輸送層中に含有される低分子電荷輸送物質の重量【請求項3】前記電荷輸送層が,少なくとも低分子電荷輸送物質と高分子輸送物質を含有する電荷輸送層であり,かつ前記(2)式を満足することを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。【請求項4】 前記電荷輸送層が,少なくとも2層以上であり,少なくとも該電荷発生層と接触する電荷輸送層が低分子電荷輸送物質を含有する電荷輸送層であり下記(3)式を満足し,かつ電荷発生層から最も離れた電荷輸送層が下記(4)式を満足することを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。 w4/w3>0.7・・・(3) w4/w3<0.4・・・(4) 式中,w3:電荷輸送層中に含有される物質の重量の合計w4:電荷輸送層中に含有される低分子電荷輸送物質の重量【請求項5】請求項1~4の電子写真感光体を用いた電子写真装置。(別紙3)特許請求の範囲(第2次訂正後のもの。訂正部分を下線で示す。なお,2重下線部分は,第1次訂正時との相違部分である。)【請求項1】導電性支持体上に,少なくとも電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層 を順に積層してなる電子写真感光体において,該電荷発生層の膜厚が,電荷輸送物質の電荷輸送層から電荷発生層への移行により変化して,下記
(1)式を満足することを特徴とする電子写真感光体。 d2/d1>1.3・・・(1) 式中,d1:電荷輸送層積層前の電荷発生層の膜厚 d2:電荷輸送層積層後の電荷発生層の膜厚【請求項2】前記電荷輸送層が,少なくとも低分子電荷輸送物質を含有する電荷輸送層であり,かつ下記(2)式を満足することを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。 w2/w1≧0.7・・・(2) 式中,w1:電荷輸送層中に含有されるバインダー樹脂および高分子電荷輸送物質の重量の合計w2:電荷輸送層中に含有される低分子電荷輸送物質の重量【請求項3】 前記電荷輸送層が,少なくとも低分子電荷輸送物質と高分子輸送物質を含有する電荷輸送層であり,かつ 記(2)式を満足することを特徴とす 子写真感光体。【請求項4】 前記電荷輸送層が,少なくとも2層以上であり,少なくとも該電荷発生層と接触する電荷輸送層が低分子電荷輸送物質を含有する電荷輸送層であり下記(3)式を満足し,かつ電荷発生層から最も離れた電荷輸送層が下記(4)式を満足することを特徴とす 子写真感光体。 w4/w3>0.7・・・(3) w4/w3<0.4・・・(4) 式中,w3:電荷輸送層中に含有される物質の重量の合計w4:電荷輸送層中に含有される低分子電荷輸送物質の重量【請求項5】請求項1~4の電子写真感光体を用いた電子写真装置。
| 特許裁判例 実用新案裁判例 |
| 意匠裁判例 商標裁判例 |
| 不正競争裁判例 著作権裁判例 |
| 特許判例 実用新案判例 |
| 意匠判例 商標判例 |
| 不正競争判例 著作権判例 |
11月16日(月) - オンライン
11月17日(火) - オンライン
11月17日(火) - オンライン
11月17日(火) - オンライン
11月17日(火) - オンライン
11月17日(火) - オンライン
11月18日(水) - オンライン
11月18日(水) - オンライン
貝印の実践事例に学ぶ、他部門との信頼構築・IPランドスケープ・知財ミックス 「全社をリード」する知財・無形資産実務へのパラダイムシフト
11月18日(水) - 東京 千代田
11月18日(水) - オンライン
公正取引委員会 も注視する“不当なノウハウ流出”の現場と対策セミナー 「電子公証サービス」で証拠を残す 共同研究や取引交渉で負けない知財戦略
11月18日(水) - オンライン
11月18日(水) - オンライン
11月18日(水) - オンライン
11月19日(木) - 東京 港区
11月19日(木) - オンライン
11月19日(木) - オンライン
11月19日(木) - オンライン
商標権侵害の回避と否定の理論と実務「商標・ブランドの変更」と「商標の類似」 ~どこまで商標を変更すれば侵害にならないか~
11月19日(木) - オンライン
11月19日(木) - オンライン
11月19日(木) - オンライン
11月20日(金) - 東京 千代田区
11月20日(金) - 東京 港区
11月20日(金) - 岡山 岡山市
11月20日(金) - 大阪 大阪市
11月20日(金) - 大阪 大阪市
11月20日(金) - オンライン
11月20日(金) - オンライン
11月16日(月) - オンライン
11月24日(火) - 東京 品川区
筋のよい知財戦略を立案・策定するための 「パテント(ミクロ)マップ」作成実務ノウハウ ~会場対面:グループ実習セミナー~
11月24日(火) - オンライン
11月24日(火) - 大阪 大阪市
つながる特許庁 in KANSAI/関西ビジネス知財フォーラム2026 強みを、価値に。価値を、成長に。~ 技術・知的財産・事業戦略でつくる、関西企業の次の成長 ~
11月24日(火) - オンライン
11月24日(火) - オンライン
11月24日(火) - オンライン
11月25日(水) - オンライン
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
11月25日(水) - 東京 港区
11月25日(水) - オンライン
特許セミナー(3) 米国特許法101条の「抽象概念」の法理 ─現行ルール(Alice判決)および特許適格性主張のポイント─
11月25日(水) - オンライン
11月25日(水) - オンライン
11月25日(水) - オンライン
11月26日(木) - 東京 港区
11月26日(木) - オンライン
11月26日(木) - 東京 品川区
11月26日(木) - オンライン
11月26日(木) - オンライン
【西村あさひ法律事務所所属の弁護士が解説】そのDDで、本当に投資判断を進めてよいのか?|限られた予算で考える、調査の優先順位と法務の説明責任
11月26日(木) - 東京 千代田区
11月27日(金) - オンライン
11月27日(金) - 大阪 大阪市
11月27日(金) - オンライン
11月27日(金) - オンライン
11月27日(金) - 東京 千代田区
11月24日(火) - 東京 品川区
筋のよい知財戦略を立案・策定するための 「パテント(ミクロ)マップ」作成実務ノウハウ ~会場対面:グループ実習セミナー~
愛知県名古屋市中区栄3-2-3 名古屋日興證券ビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
京都市伏見区深草大亀谷万帖敷町446-2 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
埼玉県久喜市久喜東6-2-46 パレ・ドール久喜2-203 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング