ホーム > 特許ランキング > 株式会社エスアンドエス > 2011年 > 出願公開一覧
公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
---|---|---|---|
特開 2011-232725 | ブランクマスク、フォトマスク及びその製造方法 | 株式会社エスアンドエス テック | 2011年11月17日 |
特開 2011-164566 | ハーフトーン型位相反転ブランクマスク、ハーフトーン型位相反転フォトマスク及びその製造方法 | 株式会社エスアンドエス テック | 2011年 8月25日 |
2 件中 1-2 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2011-232725 2011-164566
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社エスアンドエスの知財の動向チェックに便利です。
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
〒195-0074 東京都町田市山崎町1089-10 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 鑑定 コンサルティング
群馬県前橋市北代田町645-5 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
福岡市博多区博多駅前1-23-2-5F-B 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング