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アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッド
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第3099位 6件
（
2015年：第3535位 5件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第2983位 5件
（2015年：第8612位 1件）
（ランキング更新日：2025年1月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2016-527400 | パルス二重マグネトロンスパッタリング（ＤＭＳ）プロセスにおけるターゲットの均衡消費のためのシステムおよび方法 | 2016年 9月 8日 | |
| 特開 2016-149365 | 静電遠隔プラズマ源 | 2016年 8月18日 | |
| 特開 2016-149366 | プラズマ処理負荷へのシステムレベルの電力送達 | 2016年 8月18日 | |
| 特開 2016-149560 | イオンエネルギー分布を制御するためのシステム、方法、および装置 | 2016年 8月18日 | |
| 特表 2016-507856 | 大域最適値を見つけるための周波数同調システムおよび方法 | 2016年 3月10日 | |
| 特表 2016-500132 | 広ダイナミックレンジイオンエネルギーバイアス制御、高速イオンエネルギー切り替え、イオンエネルギー制御およびパルスバイアス供給部、および仮想フロントパネル | 2016年 1月 7日 |
6 件中 1-6 件を表示
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2016-527400 2016-149365 2016-149366 2016-149560 2016-507856 2016-500132
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