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ノヴァ メジャリング インスツルメンツ インコーポレイテッド
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第6409位 2件
（
2024年：第13071位 1件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第5020位 2件
（2024年：第10406位 1件）
（ランキング更新日：2025年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ノヴァ メジャリング インスツルメンツ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7705852 | パターン化Ｘ線放出ターゲット | 2025年 7月10日 | |
| 特許 7621435 | 二次イオン質量分析を用いた半導体測定および表面分析のためのシステムならびに手法 | 2025年 1月24日 |
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7705852 7621435
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