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ネックスヴァーフェ・ゲー・エム・ベー・ハー
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第5574位 3件
（
2020年：第12781位 1件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第9350位 1件
（2020年：第24204位 0件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ネックスヴァーフェ・ゲー・エム・ベー・ハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2021-524668 | ワークの半導体層の一面をエッチングするための装置及び方法 | 2021年 9月13日 | |
| 特表 2021-501261 | シリコンを基板に連続蒸着する方法及び装置 | 2021年 1月14日 | |
| 特表 2021-500305 | クロロシランから不純物を除去するための方法及び装置 | 2021年 1月 7日 |
3 件中 1-3 件を表示
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2021-524668 2021-501261 2021-500305
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