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イェノプティック オプティカル システムズ ゲーエムベーハー
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第5242位 3件
（
2015年：第7196位 2件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第24808位 0件
（
2015年：第23268位 0件）
（ランキング更新日：2025年3月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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イェノプティック オプティカル システムズ ゲーエムベーハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2016-541023 | 偏光系 | 2016年12月28日 | |
| 特開 2016-138743 | 放射源の出力密度分布を測定するための装置 | 2016年 8月 4日 | |
| 特表 2016-503887 | 少なくとも２つの光学素子を含む波面補正光学配置の製作方法 | 2016年 2月 8日 |
3 件中 1-3 件を表示
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2016-541023 2016-138743 2016-503887
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