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エーイーエス グローバル ホールディングス， プライベート リミテッド
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第2162位 10件
（
2020年：第12781位 1件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第9350位 1件
（
2020年：第3265位 4件）
（ランキング更新日：2025年3月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーイーエス グローバル ホールディングス， プライベート リミテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2021-536138 | 可変コンデンサバンク | 2021年12月23日 | |
| 特表 2021-523294 | クレージングを低減させるための装置、システム、および方法 | 2021年 9月 2日 | |
| 特表 2021-523518 | 可変かつ不確実小数値ビット寄与率の存在下における精密デジタル／アナログ変換 | 2021年 9月 2日 | |
| 特表 2021-522644 | 高効率発電機ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法 | 2021年 8月30日 | |
| 特表 2021-515500 | エネルギー回収を伴うＰＩＮダイオードドライバ | 2021年 6月17日 | |
| 特表 2021-511713 | 低出力ＰＩＮダイオードドライバ | 2021年 5月 6日 | |
| 特表 2021-507122 | レート向上パルス状ＤＣスパッタリングシステム | 2021年 2月22日 | |
| 特表 2021-503700 | プラズマ処理源および基板バイアスの同期パルス化 | 2021年 2月12日 | |
| 特表 2021-503701 | プラズマ処理のためのイオンバイアス電圧の空間的および時間的制御 | 2021年 2月12日 | |
| 特表 2021-503702 | プラズマ処理システムにおける変調供給源の改良された印加 | 2021年 2月12日 |
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2021-536138 2021-523294 2021-523518 2021-522644 2021-515500 2021-511713 2021-507122 2021-503700 2021-503701 2021-503702
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特許制度に詳しい方にこそ知って欲しい意匠権の使い方 ～コスパの高い意匠権を使って事業を守る方法を、特許権と比較して解説～
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