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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第2239位 9件 (2017年:第2121位 11件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第1592位 11件 (2017年:第1630位 11件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2018-11973 | 検査システム | 2018年12月13日 | |
特開 2018-137571 | 画像処理装置、プログラム及び画像処理方法 | 2018年 8月30日 | |
特開 2018-130160 | 制御基板、遊技機、表示装置、リユース管理システム及び制御方法 | 2018年 8月23日 | |
再表 2017-85786 | 画像変換方法及び装置 | 2018年 8月 9日 | |
再表 2017-85819 | 出力制御装置、システムおよびプログラム | 2018年 6月14日 | |
再表 2017-85818 | 識別情報管理装置、システムおよびプログラム | 2018年 6月 7日 | |
再表 2017-199744 | モニタースタンド | 2018年 6月 7日 | |
特開 2018-36424 | スイッチ及び表示装置 | 2018年 3月 8日 | |
再表 2017-22029 | 表示制御装置、表示装置、表示システムおよびプログラム | 2018年 2月 8日 |
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2018-11973 2018-137571 2018-130160 2017-85786 2017-85819 2017-85818 2017-199744 2018-36424 2017-22029
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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