株式会社オプトラン
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第7646位 2件
（
2020年：第12781位 1件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第25492位 0件
（
2020年：第24204位 0件）
（ランキング更新日：2025年12月12日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社オプトランの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-31693 | 光学膜厚制御装置、薄膜形成装置、光学膜厚制御方法および薄膜形成方法 | 2021年 3月 1日 | |
| 特開 2021-31694 | 真空プロセス装置および真空プロセス装置におけるプロセス対象物の冷却方法 | 2021年 3月 1日 |
2 件中 1-2 件を表示
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2021-31693 2021-31694
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