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公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
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特開 2014-226731 | 集流型ノズルを用いたEEM加工方法及びその装置 | 株式会社ジェイテック 他 | 2014年12月 8日 |
特開 2014-85194 | 形状可変X線ミラーシステム | 株式会社ジェイテック 他 | 2014年 5月12日 |
特開 2014-62364 | 地山防護プレートの滑材注出機構 | 株式会社ジェイテック 他 | 2014年 4月10日 |
特開 2014-13169 | 集光径可変なX線集光システム | 株式会社ジェイテック 他 | 2014年 1月23日 |
特開 2014-6457 | 二重反射型X線ミラー及びそれを用いた斜入射X線結像光学装置 | 株式会社ジェイテック 他 | 2014年 1月16日 |
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2014-226731 2014-85194 2014-62364 2014-13169 2014-6457
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5月12日(月) -
5月13日(火) - 東京 港区
5月14日(水) - 東京 港区
5月14日(水) -
5月15日(木) - 東京 港区
5月16日(金) - 東京 千代田区
5月16日(金) -
5月16日(金) - 東京 千代田区
5月16日(金) -
5月12日(月) -
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