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出願人名に「株式会社イー・エム・ディ」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 再表 2009-142016 | プラズマ生成装置およびプラズマ処理装置 | 株式会社イー・エム・ディー 他 | 2011年 9月29日 |
| 特開 2011-181292 | プラズマ処理装置用アンテナ及び該アンテナを用いたプラズマ処理装置 | 株式会社イー・エム・ディー | 2011年 9月15日 |
| 特開 2011-179061 | スパッタリング薄膜形成装置 | 株式会社イー・エム・ディー | 2011年 9月15日 |
| 再表 2009-110226 | 高周波アンテナユニット及びプラズマ処理装置 | 株式会社イー・エム・ディー | 2011年 7月14日 |
| 特開 2011-71123 | プラズマ処理装置 | 株式会社イー・エム・ディー | 2011年 4月 7日 |
| 特開 2011-14914 | 不純物活性化方法、半導体装置の製造方法 | 株式会社イー・エム・ディー | 2011年 1月20日 |
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2009-142016 2011-181292 2011-179061 2009-110226 2011-71123 2011-14914
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