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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第2162位 10件
(2020年:第2749位 7件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第25492位 0件
(2020年:第8780位 1件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特表 2021-534066 | 過酸化水素の精製方法 | 2021年12月 9日 | |
特開 2021-82806 | シリコン窒化膜エッチング溶液、及びこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2021年 5月27日 | |
特開 2021-72436 | シリコン窒化膜エッチング溶液、及びこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2021年 5月 6日 | |
特開 2021-72437 | シリコン窒化膜エッチング溶液、及びこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2021年 5月 6日 | |
特開 2021-48389 | シリコン窒化膜エッチング溶液、及びこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2021年 3月25日 | |
特開 2021-27338 | シリコン窒化膜エッチング溶液、及びこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2021年 2月22日 | |
特開 2021-15967 | シリコン窒化膜エッチング溶液、及びこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2021年 2月12日 | |
特開 2021-15968 | シリコン窒化膜エッチング溶液及びこの製造方法 | 2021年 2月12日 | |
特開 2021-15969 | シリコン窒化膜エッチング溶液、及びこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2021年 2月12日 | |
特開 2021-15970 | シリコン窒化膜エッチング溶液、及びこれを用いた半導体素子の製造方法 | 2021年 2月12日 |
10 件中 1-10 件を表示
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2021-534066 2021-82806 2021-72436 2021-72437 2021-48389 2021-27338 2021-15967 2021-15968 2021-15969 2021-15970
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3月26日(水) - 東京 港区
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4月1日(火) - 山口 山口市
4月1日(火) -
4月2日(水) -
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